产生不相干辐射的反射环路系统技术方案

一种系统和方法用于从相干射束中形成不相干射束。系统包括辐射源和反射环路系统。辐射源产生相干或部分相干射束。反射环路系统接收该部分相干射束，并通过环路或备选通过不重叠环路反射该部分相干射束，以形成不相干射束。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及辐射系统。技术背景光刻设备是一种将所需图案加到衬底上或部分衬底上的机器。光刻设备可例如用于平板显示器、集成电路(IC)以及涉及精密结构的其它装置的制造中。在常规设备中，图案形成装置可称其为掩模 或原版，可用来产生对应于平板显示器(或其它装置)各层的电路 图案。通过成像到村底上提供的辐射敏感材料层(例如光刻胶)上， 该图案可被转移到全部或部分^)底(例如玻璃板)上。除电路图案外，图案形成装置可以用来产生其它图案，例如滤色 图案或点矩阵。除掩模外，图案形成装置可包括图案形成阵列，它 包括单独可控元件的阵列。与基于掩模的系统相比，在这种系统中 图案可以更快和用更低的成本^支改变。平板显示器衬底通常是矩形的。设计来曝光这种类型衬底的光刻 设备可以提供覆盖矩形衬底全部宽度或覆盖部分宽度(例如一半宽 度)的曝光区域。衬底可在曝光区域下面被扫描，而掩模或原版则 通过射束被同步扫描。这样，图案就被转移到衬底上。如果曝光区 域覆盖衬底的全部宽度，则曝光可用单次扫描完成。如果曝光区域 覆盖例如衬底的一半宽度，则可在第一次扫描后使衬底横向移动， 且通常执行又一次扫描以曝光衬底的其余部分。通常，光刻系统使用激光器作为辐射源来产生照射射束，例如相 干照射射束或部分相干照射射束。在其通过光刻系统的运行期间， 照射射束会可从光刻系统中的组件上反射，其可形成散射光。散射光可与照射射束干涉，导致图《象中的散斑图案。散斑图案是不希望 有的，因为它们会在衬底上形成的图案中引起误差。散斑图案可由 于易受微小时间和空间波动的部分相干射束的干涉而引起。散斑图 案有时称为(部分)相干照射射束的似噪声特征。由于要作射束的 多个相干拷贝而使用增大角分布的元件时，也会引起散斑图案。当 与射束的相干长度(例如横向和时间的)相比不同相干拷贝之间(例 如射束的产生和射束的检测之间)的光路差很小时，射束的多个相 干拷贝会相互干涉。按照常规，散斑图案已通过使用放置在激光器后的衍射或折射光 学元件得到补偿，这些元件用来从相干射束中形成不相干射束。这 些元件有时称为相干失败元件。如上所述，不相干射束包括相干射 束的多个拷贝。通过相对照射射束移动光学元件可进一步减少散斑图案。光学元 件的移动改变了对相干射束每个拷贝的相位分布，这就改变了对一 组相干射束拷贝的散斑图案。通过积分(例如求和)所有的散斑图 案，均匀光即产生。但是，需要有光学元件较大的移动才可基本上消除散斑图案。而且，通常这4交大的移动必须在短时段内例如曝光时间内完成。在使用来自1000 Hz激光器的30个脉冲的实例中，曝 光时间可能为大约30(is。在该短时段内的较大移动会引起光刻系统 中的大振荡，包括高加速度和沖击。高加速度和冲击会在光刻系统 中引起问题。而且，由于通常有限的积分时间，例如大约每个脉冲50 ns ，几乎不可能相对射束足够移动光学元件以基本上消除散斑图案。补偿散斑图案的另 一方法是在每个曝光周期期间使用大量的激光 器脉冲，例如60个激光器脉冲。每个激光器脉冲产生不同的散斑图 案。因此，通过使用大量的激光器脉冲，散斑图案可以在一段时间 内最终被平均掉。但是，最近的光刻系统已降低了在每个曝光周期 期间激光器脉冲的数量，和/或已减少了每个激光器脉冲的时长。不 幸的是，降低每个曝光周期期间的激光器脉冲数量会使平均效应不能发生。而且，在减少的激光器脉沖时长期间很难使光学元件移动 可接受的量，以便允许对散斑图案进行补偿。所以，所需要的是一种能产生具有均匀强度的不相干辐射的系统 和方法。
技术实现思路
在本专利技术的一个实施例中，提供了一种系统，它包括辐射源和反 射环路系统。辐射源产生相干或部分相干射束。反射环路系统配置 成接收该至少部分相干射束，并通过环路、或备选通过不重叠环路 反射该部分相干射束，以形成更加不相干的射束。此外或备选，该系统可以是激光器。此外或备选，该系统可以是 照射器。此外或备选，两个或更多个反射环路系统可光学串联耦合。此外或备选，该系统可位于光刻系统内，该光刻系统包括图案形 成装置和投射系统。在此实例中，照射射束从不相干射束中形成。 照射射束被引导为由图案形成装置形成图案，且投射系统将形成图 案的射束投射到村底上。在另一实施例中，提供了一种装置制造方法。相干或部分相干射 束通过环路、或备选通过不重叠环路被反射，以形成更加不相干的 射束。照射射束从不相干射束中形成。使照射射束形成图案。将形 成图案的照射射束投射到衬底的目标部分上。以下参阅附图对本专利技术更多的实施例、特征和优点以及本专利技术各种实施例的结构和^t喿作加以详细it明。 附图说明结合在本文内并形成本说明书一部分的附图示出本专利技术的一个或 多个实施例，并和il明书一起，进一步用于解释本专利技术的原理，以 使所属有关领域的技术人员能够制作和使用本专利技术。 图1和2示出按照本专利技术各种实施例的光刻设备。 图3示出按照如图2所示的本专利技术一个实施例将图案转移到衬底 上的模式。图4示出按照本专利技术一个实施例的光学引擎布置。图5、 6和7示出按照本专利技术各种实施例的包括反射环路系统的 各种辐射产生布置。图8示出按照本专利技术一个实施例的反射环路系统，它包括第一反 射环路系统和第二反射环路系统。图9、 10、 11、 12、 13、 14、 15、 16和17示出按照本专利技术各种 实施例用于反射环路系统的各种配置。图18以图形示出按照本专利技术一个实施例用于反射环路系统的入 口和出口照射强度分布。图19示出按照本专利技术一个实施例的方法流程图。现参阅附图说明本专利技术的一个或多个实施例。在附图中，相同的 参考编号可指示同样的或功能近似的元件。此外，参考编号最左边 的数字可标识该参考编号第一次出现的附图。具体实施方式在一个或多个实施例中， 一种系统和方法用来从(部分)相干射 束中形成更加不相干的射束。系统包括辐射源和反射环路系统。辐 射源产生相干或部分相干射束。反射环路系统接收该(部分)相干 射束，并通过环路或备选通过不重叠环路反射该射束，以形成更加 不相干的射束。在一个实例中，通过在此配置中产生不相干射束， 没有照射射束的相干部分与照射的其它相干部分干涉，以致没有散 斑产生。在整个说明书中，相干激光束的处理同样适用于部分相干射束的 处理，或反之亦然，诸如含有多种模式(例如横向和时间的)的射 束。因此，本专利技术各种实施例的范围应被认为覆盖各种类型的射束。虽然讨论了具体配置和布置，但应理解，这样做仅是为了说明的 目的。所属领域的技术人员会认识到，在不背离本专利技术的精神和范 围的前提下，其它的配置和布置也可使用。对所属领域的技术人员 而言，显然本专利技术也可在多种其它应用中被采用。图1示出本专利技术一个实施例的光刻设备1的示意图。该设备包括照射系统IL、图案形成装置PD、衬底台WT以及投射系统PS。照 射系统(照射器)IL配置成调节辐射束B (例如UV辐射)。图案形成装置PD (例如原版或掩模或单独可控元件阵列)调制 该射束。 一般来说，单独可控元件阵列的位置相对于投射系统PS是 固定的。但也可改为将它连接到配置成按照某些参数准确定位单独 可控元件阵列的定位器。衬底台WT构建成支撑衬底(例如涂敷有光刻胶的衬底)W,并 连接到配置成按照某些参数准确定位衬底的定位器PW。投射系本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种系统，包括：　　　　辐射源，它产生相干或部分相干射束；以及　　　　反射环路系统，它包括曲面反射装置，并配置成通过环路反射所述部分相干射束，以形成更加不相干的射束。

【技术特征摘要】
US 2006-6-6 11/4472891.一种系统，包括辐射源，它产生相干或部分相干射束；以及反射环路系统，它包括曲面反射装置，并配置成通过环路反射所述部分相干射束，以形成更加不相干的射束。2. 如权利要求1所述的系统，其中所述反射环路系统包括第二 反射装置。3. 如权利要求2所述的系统，其中第一和第二反射装置都是曲 面的。4. 如权利要求2所述的系统，其中第一和第二反射装置中的至 少一个包括第一和第二部分，且第一和第二部分中的至少一个相对 于第一和第二反射装置的相应反射面不对准。5. 如权利要求1所述的系统，其中所述反射环路系统包括第二 到第四反射装置。6. 如权利要求5所述的系统，其中四个反射装置包括三个平面 反射装置和所述曲面反射装置。7. 如权利要求1所述的系统，其中所述反射环路系统包括反射 装置，所述反射装置具有相对彼此倾斜的相应反射面，以便形成不 重叠环路。8. 如权利要求l所述的系统，其中使用第一光学装置使所述部分相干射束入耦合到所述反射环路系 统中；以及使用第二光学装置使所述不相干射束从所述反射环路系统中出耦合。9. 如权利要求1所述的系统，其中所述反射环路系统包括场平 面和光瞳平面。10. 如权利要求l所述的系统，其中所述反射环路系统包括两个 场平面和两个光瞳平面。11. 如权利要求l所述的系统，其中所述至少部分相干射束或所 述不相干射束穿过所述反射环路系统中的针孔。12. 如权利要求l所述的系统，其中所述反射环路系统还包括 第二反射装置，与所述反射环路系统的场相关联；以及 第三反射装置，与所述反射环路系统的光瞳相关联， 其中基于第二和第三反射装置的相应反射面之间的不对准，改变所述场或所述光瞳的位置。13. 如权利要求l所述的系统，其中所述反射环路系统配置成， 在每个环路后，所述不相干射束的第一部分从所述反射环路系统透 射，且所述不相干射束的其余部分沿所述环路中的另一环路被引导。14. 如权利要求l所述的系统，其中所述不相干射束通过所述反射环路系统的光瞳或场中之一被透 射；以及所述至少部分相千射束在所述反射环路系统的光瞳或场中的另一 个被接收。15. 如权利要求l所述的系统，还包括 图案形成装置，它使所述不相干射束形成图案；以及 投射系统，它将所述不相干射束投射到衬底的目标部分上。16. 如权利要求15所述的系统，还包括照射系统，它处理所述不相干射束，并将所述不相干射束引导到 所述图案形成装置上。17. 如权利要求16所述的系统，其中所述照射系统包括所述辐 射源和所述反射环路系统。18. 如权利要求l所述的系统，其中所述环路的路径长度大于所 述至少部分相干射束的时间相干长度。19. 如权利要求l所述的系统，还包括一个或多个附加反射环路系统，它们配置成从上游反射环路系统 接收相应的不相干射束，并通过环路反射所述不...

【专利技术属性】
技术研发人员：JJM巴塞尔曼斯，K尤雅马，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，大日本网目版制造株式会社，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]