一种摄像头模组清洗用固定治具制造技术

本实用新型专利技术涉及摄像头模组清洗技术领域，具体公开了一种摄像头模组清洗用固定治具，包括叶轮盘、设置在叶轮盘上的多个固定机构和用于固定摄像头模组的托盘，所述托盘设置在固定机构上，所述固定机构沿叶轮盘圆周方向均匀设置；每个所述固定机构包括多个平行设置的凸台，相邻的两个凸台之间设置有所述托盘，所述托盘与叶轮盘之间呈预设角度设置。与现有技术相比，通过托盘与叶轮盘之间呈预设角度设置和凸台上多个插槽的设置，提高了清洗效率。提高了清洗效率。提高了清洗效率。

【技术实现步骤摘要】
一种摄像头模组清洗用固定治具


[0001]本技术涉及摄像头模组清洗
，具体公开了一种摄像头模组清洗用固定治具。

技术介绍

[0002]摄像头模组主要有镜头、传感器、后端图像处理芯片、连接装置组成。镜头是摄像头模组中最重要的部件，镜头质量的好坏直接影响到拍摄成像的质量。在相机中，镜头常常采用到光学镜片，当前摄像头大多采用CMOS传感器，CMOS集成电路内各元件及连线相当微细，因此制造和使用的过程中，如果遇到金属的污染，很容易造成晶片内电路功能的损坏，故在制造或使用过程中，要注意对摄像头模组的清洗，保证摄像头的正常使用。
[0003]目前的清洗方式，常采用如公告号CN103456605B的专利中公开的清洗设备，该清洗设备将待清洗的半导体器件对应固定在叶轮盘上，且在叶轮盘的上下两侧各设置有多个二流体喷淋头，将压缩空气和清洗液对应以雾化去离子水分子的形式喷出，当主轴驱动机构带动叶轮盘旋转时，通过喷出的雾化去离子水分子可实现对半导体器件的清洗；在清洗后，通过加热板和空气过滤机构对腔体中的水雾进行抽干和干燥处理，从而实现对半导体器件的干燥。实本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种摄像头模组清洗用固定治具，包括叶轮盘（1）、设置在叶轮盘（1）上的多个固定机构和用于固定摄像头模组的托盘（2），所述托盘（2）设置在固定机构上，其特征在于，所述固定机构沿叶轮盘（1）圆周方向均匀设置；每个所述固定机构包括多个平行设置的凸台（3），相邻的两个凸台（3）之间设置有所述托盘（2），所述托盘（2）与叶轮盘（1）之间呈预设角度设置。2.根据权利要求1所述的摄像头模组清洗用固定治具，其特征在于，所述凸台（3）所在平面垂直于叶轮盘（1）径向设置；多个所述凸台（3）沿叶轮盘（1）径向由内到外依次设置。3.根据权利要求2所述的摄像头模组清洗用...

【专利技术属性】
技术研发人员：余文东，徐勤泽，耿县玉，李云舒，齐鲁，
申请(专利权)人：山东合力泰电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：