一种易于清洗的搪瓷反应釜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种易于清洗的搪瓷反应釜，包括固定台、反应釜本体和固定管，所述固定台的顶部通过螺栓安装有水泵，所述固定台的顶部通过固定件安装有反应釜本体，且反应釜本体贯穿固定台的底部内壁，所述反应釜本体的两侧内壁上安装有固定管，所述反应釜本体的顶部安装有通过连接件安装有釜盖；所述釜盖的顶部内壁上安装有制冷器，所述釜盖的顶部安装有温度计，且温度计贯穿釜盖的内壁；所述釜盖的顶部通过螺栓安装有驱动电机，且驱动电机的输出端贯穿反应釜本体的顶部内壁。本实用新型专利技术通过在固定管的一侧安装有清洗喷头，通过清洗喷头将清洗液喷出，可以对反应釜的内部进行清洗，不需要工作人员进行清洗，为工作人员提供方便。便。便。

【技术实现步骤摘要】
一种易于清洗的搪瓷反应釜


[0001]本技术涉及搪瓷反应釜
，B01J19/18，具体为一种易于清洗的搪瓷反应釜。

技术介绍

[0002]搪瓷反应釜是将含高二氧化硅的玻璃，衬在钢制容器的内表面，经高温灼烧而牢固地密着于金属表面上成为复合材料制品，所以它具有玻璃的稳定性和金属强度的双重优点，是一种优良的耐腐蚀设备。申请号为CN201621320848.3的专利公开了一种用于制备胶粘剂的磺化搪瓷反应釜，包括搪瓷反应釜罐体和上盖，结构设计合理、结构简单、原料分散效率高、原料混合效果好、生产效率高且维护方便。申请号为CN202021615341.7的专利提供了一种制药用搪瓷反应釜，包括搪瓷反应釜和搅拌杆，结构简单，便捷、有效的保证了导入搪瓷反应釜内腔药物量的准确性，提高了药物反应数据的准确性。但是搪瓷反应釜在进行使用时如果物料的温度与搪瓷反应釜的温差较大，会使搪瓷反应釜出现损坏。
[0003]现有的搪瓷反应釜存在的缺陷是：
[0004]1、传统的搪瓷反应釜不便于进行清洗，会对工作人员造成困扰，而且清洗后会留有残渣。
[0005]2、传统的搪瓷反应釜不能对反应釜内部的温度进行调节，会导致反应釜的温度与物料温度相差太大，而造成反应釜的损坏。

技术实现思路

[0006]本技术的目的在于提供一种易于清洗的搪瓷反应釜，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0007]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种易于清洗的搪瓷反应釜，包括固定台、反应釜本体和固定管，所述固定台的顶部通过螺栓安装有水泵，所述固定台的顶部通过固定件安装有反应釜本体，且反应釜本体贯穿固定台的底部内壁，所述反应釜本体的两侧内壁上安装有固定管，所述反应釜本体的顶部安装有通过连接件安装有釜盖；
[0008]所述釜盖的顶部内壁上安装有制冷器，所述釜盖的顶部安装有温度计，且温度计贯穿釜盖的内壁；
[0009]所述釜盖的顶部通过螺栓安装有驱动电机，且驱动电机的输出端贯穿反应釜本体的顶部内壁。
[0010]优选的，所述固定台的底部安装有固定架，固定台的顶部安装有控制面板，且控制面板位于反应釜本体的一侧。
[0011]优选的，所述水泵的输入端安装有进液管，进液管的一端连接在水箱的一侧，水箱的顶部安装有加水口，水泵的输出端安装有出液管，且出液管贯穿反应釜本体的一侧内壁连接在固定管的一侧。
[0012]优选的，所述反应釜本体的底部安装有出料口，反应釜本体的底部内壁上安装有
加热层，加热层的内部安装有加热丝。
[0013]优选的，所述固定管的一侧安装有清洗喷头。
[0014]优选的，所述釜盖的顶部安装有出气管，釜盖的顶部安装有气压表，且气压表位于出气管的一侧，釜盖的顶部安装有进料口。
[0015]优选的，所述驱动电机的输出端安装有搅拌杆，搅拌杆的外侧安装有搅拌叶。
[0016]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0017]1、本技术通过在固定台的顶部安装有水泵，水泵在通电之后可以将电能转化为动能，可以使水箱内部的清洗液进行流动，使内部的清洗液可以从水箱中进行传输，通过导向装置使清洗液会流到清洗喷头中，清洗喷头位于反应釜本体的两侧，清洗喷头将清洗液喷出，可以对反应釜的内部进行清洗，不需要工作人员进行清洗，为工作人员提供方便，使反应釜的清洗更加简单便捷。
[0018]2、本技术通过在反应釜而本体的底部内壁上安装有加热装置，加热装置中的加热丝在通电之后能够将电能转化为热能，对反应釜的内部进行加热，使反应釜内部的温度与进入物料的温度接近，不会因为物料与反应釜内部的温差太大，而对反应釜本体造成损坏，同时在釜盖的顶部内壁上安装有制冷器，制冷器可以使反应釜内部的温度变低，使反应釜的内部的而温度可以根据物料的温度进行调节，使反应釜本体不会受到损坏。
附图说明
[0019]图1为本技术的立体图；
[0020]图2为本技术的剖视图；
[0021]图3为本技术的水泵结构示意图；
[0022]图4为本技术的驱动电机结构示意图。
[0023]图中：1、固定台；101、固定架；102、控制面板；2、水泵；201、进液管；202、水箱；203、加水口；204、出液管；3、反应釜本体；301、出料口；302、加热层；303、加热丝；4、固定管；401、清洗喷头；5、釜盖；501、制冷器；502、出气管；503、温度计；504、气压表；505、进料口；6、驱动电机；601、搅拌杆；602、搅拌叶。
具体实施方式
[0024]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0025]请参阅图1
‑
4，本技术提供的一种实施例：一种易于清洗的搪瓷反应釜，包括固定台1、反应釜本体3和固定管4，固定台1的顶部通过螺栓安装有水泵2，固定台1的顶部通过固定件安装有反应釜本体3，且反应釜本体3贯穿固定台1的底部内壁，反应釜本体3的两侧内壁上安装有固定管4，反应釜本体3的顶部安装有通过连接件安装有釜盖5，固定台1为反应釜本体3的安装提供安装位置，使反应釜本体3能够进行安装，水泵2在通电之后可以将电能转化为动能，可以使水箱202内部的清洗液进行流动，使内部的清洗液可以从水箱202中进行传输，为清洗液的流动提供动力，反应釜本体3使需要进行反应的物料有空间进行加
工，固定管4使清洗喷头401有位置进行安装，釜盖5使活动连接在反应釜本体3的顶部，釜盖5能够进行打开对反应釜本体3的内部进行查看，防止内部有金属或者坚硬的对反应釜本体3的内部造成损坏；
[0026]釜盖5的顶部内壁上安装有制冷器501，釜盖5的顶部安装有温度计503，且温度计503贯穿釜盖5的内壁，制冷器501可以使反应釜内部的温度变低，使反应釜的内部的而温度可以根据物料的温度进行调节，使反应釜本体3不会受到损坏，温度计503用来显示反应釜本体3内部的温度，方便工作人员对反应釜本体3内部的温度进行调节；
[0027]所述釜盖5的顶部通过螺栓安装有驱动电机6，且驱动电机6的输出端贯穿反应釜本体3的顶部内壁，驱动电机6在通电之后可以将电能转化为动能，为搅拌装置提供动力。
[0028]进一步，固定台1的底部安装有固定架101，固定台1的顶部安装有控制面板102，且控制面板102位于反应釜本体3的一侧，固定架101起到支撑固定台1的作用，同时也增加固定台1的高度，方便使用者对该反应釜进行使用，控制面板102可以控制加热装置和制冷器501的运行，使反应釜本体3内部的温度能够改变。
[0029]进一步，水泵2的输入端安装有进液管201，进液管201的一端连接在水箱202本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种易于清洗的搪瓷反应釜，包括固定台(1)、反应釜本体(3)和固定管(4)，其特征在于：所述固定台(1)的顶部通过螺栓安装有水泵(2)，所述固定台(1)的顶部通过固定件安装有反应釜本体(3)。2.根据权利要求1所述的一种易于清洗的搪瓷反应釜，其特征在于：反应釜本体(3)贯穿固定台(1)的底部内壁，所述反应釜本体(3)的两侧内壁上安装有固定管(4)，所述反应釜本体(3)的顶部安装有通过连接件安装有釜盖(5)。3.根据权利要求2所述的一种易于清洗的搪瓷反应釜，其特征在于：所述釜盖(5)的顶部内壁上安装有制冷器(501)，所述釜盖(5)的顶部安装有温度计(503)，且温度计(503)贯穿釜盖(5)的内壁。4.根据权利要求3所述的一种易于清洗的搪瓷反应釜，其特征在于：所述釜盖(5)的顶部通过螺栓安装有驱动电机(6)，且驱动电机(6)的输出端贯穿反应釜本体(3)的顶部内壁。5.根据权利要求1所述的一种易于清洗的搪瓷反应釜，其特征在于：所述固定台(1)的底部安装有固定架(101)，固定台(1)的顶部安装有控制面板(102)，且控制面板(102)位于反应釜本体(3)的一侧。6.根据权利要求1所述的一种易于...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡星，
申请(专利权)人：上海津铠科技有限公司，
类型：新型
国别省市：