图案化转移制品制造技术

本发明专利技术公开了一种厚度小于3微米的转移制品，该转移制品包括第一丙烯酸酯层，该第一丙烯酸酯层能够以2克/英寸至50克/英寸的剥离值从金属或掺杂半导体剥离层剥离。该制品包括覆盖在第一丙烯酸酯层上的功能层。该功能层包括厚度为约3纳米至约200纳米的至少一个微断裂无机层，该至少一个微断裂无机层具有多个散布有裂纹的工具痕。有裂纹的工具痕。有裂纹的工具痕。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】图案化转移制品

技术介绍

[0001]溅射是一种高精度真空沉积过程，其可在大面积上沉积具有单数位纳米厚度控制的无机薄膜，并且可适用于卷对卷制造。真空沉积基底应具有足够的温度和化学稳定性，以在暴露于高温、紫外线(UV)辐射和溅射过程中使用的离子时保持基本上不变形和降解。合适的真空沉积基底材料还应具有真空稳定性，并且当在真空室中暴露于低压时，基本上不对挥发性化合物进行除气。
[0002]溅射可用于将无机薄膜层(诸如金属层和金属氧化物层)的叠堆沉积在基底上。可选择具有不同折射率的薄膜无机层的材料、厚度和布置顺序，以微调制品的美学外观和透射特性。例如，当在不同视角下观察时，具有多个金属和金属氧化物层的叠堆的制品可看起来具有不同颜色。

技术实现思路

[0003]包括溅射沉积在基底上的薄膜无机层叠堆的制品可具有非常期望的美学外观。然而，当制品被施加到表面，尤其是具有复合曲率的表面时，金属层可被拉伸或应变，这可形成可见的裂纹状缺陷，这些缺陷不期望地改变制品的期望的美观或光管理特性。如果金属层、其上施加了金属层的基底或两者由更加可拉伸的材料制成，则当制品被施加到本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种转移制品，包括：第一丙烯酸酯层，其中所述第一丙烯酸酯层能够以2克/英寸至50克/英寸的剥离值从包括金属层或掺杂半导体层的剥离层剥离；和功能层，所述功能层覆盖在所述第一丙烯酸酯层上，其中所述功能层包括至少一个微断裂无机层，所述至少一个微断裂无机层包括多个散布有裂纹的工具痕，其中所述微断裂无机层的厚度为约3纳米至约200纳米；并且其中所述转移制品的厚度小于3微米。2.根据权利要求1所述的转移制品，其中所述微断裂无机层包括约0.3个裂纹/mm2至约10000个裂纹/mm2。3.根据权利要求1所述的转移制品，其中所述微断裂无机层中的所述工具痕选自压痕、条痕、切痕以及它们的组合。4.根据权利要求1所述的转移制品，还包括覆盖在所述功能层上的低模量层，其中所述低模量层具有约50MPa至约1000MPa的模量。5.根据权利要求4所述的转移制品，其中所述低模量层为粘合剂层。6.根据权利要求1所述的转移制品，其中所述功能层包括由绝缘层分开的多个无机层，并且其中所述多个金属和金属氧化物层中的至少一个无机层是所述微断裂层。7.根据权利要求1所述的转移制品，还包括覆盖在所述功能层上的粘合剂层。8.根据权利要求1所述的转移制品，其中所述微断裂无机层还包括叠加在其上的图案，所述图案包括具有小于约750微米的周期的工具痕。9.一种用于制造图案化制品的方法，所述方法包括：从选自金属层或掺杂半导体层的剥离层移除转移制品，所述转移制品包括：第一丙烯酸酯层，所述第一丙烯酸酯层覆盖在所述剥离层上，其中所述剥离层和所述第一丙烯酸酯层之间的剥离值为2克/英寸至50克/英寸，以及功能层，所述功能层覆盖在所述第一丙烯酸酯层上，其中所述功能层包括至少一个无机层；以及使所述第一丙烯酸酯层与工具接触，所述工具包括具有小于约200微米的周期的结构，以在所述功能层中的至少一个无机层中形成多个散布有裂纹的工具痕，以提供具有微断裂无机层的图案化制品。10.根据权利要求9所述的方法，还包括将所述转移制品的所述功能层层合到模量小于约1000MPa的低模量材料层以形成可图案化构造。11.根据权利要求10所述的方法，其中所述低模量材料层包含粘合剂。12.一种制品，所述制品包括：功能层，所述功能层具有第一主表面和第二主表面，所述功能层包括：形成在所述第一主表面上的第一丙烯酸酯层，以及在所述第一丙烯酸酯层上的功能层，所述功能层包括具有至少一个微断裂金属层的金属层的叠堆，所述至少一个微断裂金属层包括多个散布有裂纹的工具痕，并且其中所述微断裂金属层的厚度为约5纳米至约100纳米；以及形成在所述第二主表面上的第二丙烯酸酯层；在所述第一丙烯酸酯层上的第一粘合...

【专利技术属性】
技术研发人员：凯文，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：