【技术实现步骤摘要】
一种多重防灰降温的光学探测头结构
[0001]本技术涉及光学探测头
,尤其涉及一种多重防灰降温的光学探测头结构。
技术介绍
[0002]在某些工业场合,检测设备会同时面临多项严苛挑战。如玻璃窑炉和煤粉锅炉内部的温度和图像检测,探测视场内是高大1000
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2000℃的高温,且内部有飞灰、烟尘等异物。这样的工业环境可以考虑采用水冷或气冷的方式保证检测设备长期稳定工作。
[0003]为此,本设计提出一种采用气冷方式进行多重防灰降温的光学探测头结构。
技术实现思路
[0004]为解决上述现有技术中的问题,本技术提供了一种多重防灰降温的光学探测头结构。
[0005]为实现上述目的,本技术的一种多重防灰降温的光学探测头结构的具体技术方案如下:
[0006]一种多重防灰降温的光学探测头结构,包括光学部件,所述光学部件位于内导管的内腔,所述内导管与光学部件之间间隔形成可通入高压压缩空气的内层,所述光学部件的右侧外套设有通风套,所述通风套的外侧设有光导头,光导头的外侧位于定位管的内腔 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种多重防灰降温的光学探测头结构,包括光学部件(4),其特征在于:所述光学部件(4)位于内导管(2)的内腔,所述内导管(2)与光学部件(4)之间间隔形成可通入高压压缩空气的内层,所述光学部件(4)的右侧外套设有通风套(5),所述通风套(5)的外侧设有光导头(7),光导头(7)的外侧位于定位管(3)的内腔,所述内导管(2)的外侧设有外导管(1),所述外导管(...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄志高,
申请(专利权)人:西斐上海工业控制有限公司,
类型:新型
国别省市:
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