基板处理装置的控制装置、控制方法和存储有控制程序的存储介质制造方法及图纸

一种控制装置，对基板处理装置进行控制，该基板处理装置包括对基板进行规定处理的多个处理室和搬送所述基板的搬送机构，其特征在于，包括：　　　　选择部，选择接下来应该搬送到的处理室，并且根据每批次所要求的微细加工的程度，针对每个批次选择使搬送到同一处理室的基板的单位为１批次单位或者１基板单位中的任一个；和　　　　搬送控制部，将由所述选择部选择的单位中包含的基板依次搬送到由所述选择部选择的处理室中。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对基板实施规定处理的基板处理装置的控制装置、控 制方法和存储有控制程序的存储介质，更详细地说，涉及控制基板搬 送的方法。
技术介绍
近年来，半导体工厂内配置的大部分的基板处理装置，在具有搬送基板的搬送机构的同时，具有2个以上对基板实施规定处理的处理 室。在这样在基板处理装置中设置有多个处理室的情况下，如何在多 个处理室中搬送大量的基板，对于提高基板处理的处理能力从而提高 产品的生产率是非常重要的。因此，在现有的基板处理装置中，为了同时在不同的处理室中对 不同的基板进行处理，对每个基板改变搬送路径，依次将不同的基板 搬送到不同的处理室(以下也称为OR搬送)，控制各基板的搬送路径， 使得各基板依次经由2个以上的处理室而进行处理(例如，参照专利 文献l)。由此，能够高效地对基板进行处理。另外，在现有的另一个基板处理装置中，根据表示各处理室能否 运转的信号，仅向运转有效的处理室组中搬送基板(例如，参照专利 文献2)。由此，即使在某一个处理室由于故障等而不能使用的情况下， 也能够使用其它的处理室高效地对基板进行处理。特开昭63-133532号公报特开平11-67869号公报但是本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种控制装置，对基板处理装置进行控制，该基板处理装置包括对基板进行规定处理的多个处理室和搬送所述基板的搬送机构，其特征在于，包括：选择部，选择接下来应该搬送到的处理室，并且根据每批次所要求的微细加工的程度，针对每个批次选择使搬送到同一处理室的基板的单位为１批次单位或者１基板单位中的任一个；和搬送控制部，将由所述选择部选择的单位中包含的基板依次搬送到由所述选择部选择的处理室中。

【技术特征摘要】
1.一种控制装置，对基板处理装置进行控制，该基板处理装置包括对基板进行规定处理的多个处理室和搬送所述基板的搬送机构，其特征在于，包括选择部，选择接下来应该搬送到的处理室，并且根据每批次所要求的微细加工的程度，针对每个批次选择使搬送到同一处理室的基板的单位为1批次单位或者1基板单位中的任一个；和搬送控制部，将由所述选择部选择的单位中包含的基板依次搬送到由所述选择部选择的处理室中。2. 根据权利要求l所述的控制装置，其特征在于 所述存储部存储所述多个处理室中在基板的处理中使用过的处理室的顺序，所述选择部根据所述存储部中存储的处理室的顺序，选择由方案 指定的处理室组中最早实施过处理的处理室，所述搬送部将所述被选择的单位中包含的基板依次搬送到所述被 选择的处理室。3. 根据权利要求1所述的控制装置，其特征在于 所述存储部针对每个处理室存储在对各处理室进行清理之前在各处理室中处理过的基板的总处理块数，所述选择部根据所述存储部中存储的基板的总处理块数，选择由 方案指定的处理室组中处理块数最少的处理室，所述搬送部将所述被选择的单位中包含的基板依次搬送到所述被 选择的处理室。4. 根据权利要求1所述的控制装置，其特征在于 所述存储部针对每个处理室存储在对各处理室进行清理之前在各处理室中处理过的基板的总处理时间，所述选择部根据所述存储部中存储的基板的总处理时间，选择由方案指定的处理室组中处理时间最短的处理室，所述搬送部将所述被选择的单位中包含的基板依次搬送到所述被 选择的处理室。5. 根据权利要求2 4中任一项所述的控制装置，其特征在于 当由所述选择部选择1批次单位时，所述搬送控制部将所述批次中包含的全部基板依次搬送到所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：沼仓雅博，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP