【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及具有对用于制造液晶显示装置(LCD)等的平板显示 器(FPD: Flat Panel Display)的玻璃基板或半导体晶片等基板实施干蚀 刻等处理的处理腔室和相对处理腔室内的基板载置台进行基板的接收 传递的搬送装置的基板处理装置、和这种基板处理装置的基板搬送方 法、和计算机程序。
技术介绍
在以液晶显示器(LCD)为代表的平板显示器(FPD)的制造过程 中，使用的是具有多个在真空下对玻璃基板实施蚀刻、灰化、成膜等 规定处理的处理腔室的所谓多腔室型基板处理装置。这种基板处理装置具有设置有搬送基板的搬送装置的搬送室和在 其周围设置的多个处理腔室，利用设置在搬送室内的搬送装置的搬送 臂将被处理基板搬入各处理腔室内，并且将处理完毕的基板从各处理 装置的处理腔室中搬出。而且，搬送室与负载锁定室连接，在大气一 侧进行基板的搬入搬出时，将处理腔室和搬送室维持在真空状态下， 能够对多个基板进行处理。这种多腔室型的处理系统例如在专利文献1 中已被公开。在这种处理系统中，在将玻璃基板搬入处理腔室时，利用搬送装 置的搬送臂将玻璃基板搬送到处理腔室(process ch...
【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，包括： 容纳基板载置台并对其基板载置台上的基板实施规定处理的处理腔室； 检测所述处理腔室的温度的温度传感器；和 相对所述处理腔室内的所述基板载置台进行基板的接收传递的搬送装置，其中 所述搬送装置包括搬送装置本体和控制所述搬送装置本体的驱动并控制基板的搬送的搬送控制部， 所述搬送控制部，根据与所述温度传感器检测的温度对应的所述处理腔室的变位，在规定时间校正所述搬送装置本体的所述处理腔室内的基准位置，以校正过的基准位置为基准控制所述搬送装置本体的基板的搬送。
【技术特征摘要】
JP 2006-12-12 2006-3341761.一种基板处理装置，其特征在于，包括容纳基板载置台并对其基板载置台上的基板实施规定处理的处理腔室；检测所述处理腔室的温度的温度传感器；和相对所述处理腔室内的所述基板载置台进行基板的接收传递的搬送装置，其中所述搬送装置包括搬送装置本体和控制所述搬送装置本体的驱动并控制基板的搬送的搬送控制部，所述搬送控制部，根据与所述温度传感器检测的温度对应的所述处理腔室的变位，在规定时间校正所述搬送装置本体的所述处理腔室内的基准位置，以校正过的基准位置为基准控制所述搬送装置本体的基板的搬送。2. 如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于 所述搬送控制部包括存储部，其存储有预先求出的基准位置信息、和所述处理腔室的 温度与变位之间的关系；和运算部，其根据所述温度传感器检测的温度、所述预先求出的基 准位置信息、和所述关系来校正基准位置。3. 如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于存储在所述存储部中的所述预先求出的基准位置信息是在室温下 的基准位置信息。4. 如权利要求2或3所述的基板处理装置，其特征在于所述存储部将所述处理腔室的温度与变位的关系作为函数而存储着。5. 如权利要求2或3所述的基板处理装置，其特征在于所述存储部将所述处理腔室的温度与变位的关系作为表而存储着。6. 如权利要求1 5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于: 所述搬送装置本体具有支撑基板的基板支撑部，所述基准位置是所述基板支撑部相对所述处理腔室内的所述基板载置台进行基板的传递的位置。7. 如权利要求1 6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于 所述存储部将所述处理腔室壁部的温度和与所述基板载置台的基板前端位置对应的部分的变位的关系作为所述处理腔室的温度与变位的关系加以存储。8. 如权利要求1 7中任一项所述的基板处理装置，其特征在于 所述搬送控制部在所述搬送装置本体每次进入所述处理腔室时，进行所述基准位置的校正。9. 如权利要求1 8中任一项所述的基板处理装置，其特征在于 还包括容纳所述搬送装置本体且与所述处理腔室邻接的搬送室。10. 如权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于 具有多个所述处理腔室，每个所述处理腔室具有温度传感器，所述多个处理腔室与所述搬送室连接，所述搬送控制部根据由每一个所 述多个处理腔室的所述温度传感器检测的温度，校正各处理腔室的所 述基准位置。11. 如权利要求1 10中任一项所述的基板处理装置，其特征在于还包括测定所述搬送装置本体的温度的温度传感器，所述搬送...
【专利技术属性】
技术研发人员：天野健次，冈部星儿，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。