本发明专利技术提供一种减压干燥装置，其能够高效安全且平稳地进行被处理基板的搬入搬出并防止转印痕迹附着在基板上的涂敷膜上。该减压干燥单元（ＶＤ）（４６）通过搬入侧滚轴搬送路（１０４）的滚轴搬送和台（１２２）上的浮起式辊搬送，将应接受减压干燥处理的基板Ｇ搬入腔室（１０６）中，通过台（１２２）上的浮起式辊搬送路的浮起式辊搬送和搬出侧滚轴搬送路（１１０）的滚轴搬送，将在腔室（１０６）内完成减压干燥处理的基板Ｇ向腔室（１０６）外搬出。在减压干燥处理中，基板Ｇ以面接触状态载置在台（１２２）的上面。
【技术实现步骤摘要】
减压干燥装置技术区域本专利技术涉及在减压状态下对涂敷于被处理基板上的涂敷液进行干 燥的减压干燥装置。
技术介绍
例如在液晶显示器(LCD)等平面面板显示器(FPD)制造的光刻 工序中，这种减压干燥装置被用于在预烘焙之前对涂敷在被处理基板 (玻璃基板等)上的抗蚀液进行干燥。例如，如专利文献1所述，现有的减压干燥装置包括上面开口 的托架或浅底容器型的下部腔室；和构成为可在该下部腔室的上面气 密地密合或嵌合的盖状上部腔室。在下部腔室中配设有台(stage)，在 将基板水平地载置在该台上之后，关闭腔室(使上部腔室与下部腔室 密合)进行减压干燥处理。在将基板从腔室搬入搬出时，利用升降设 备(cmne)等使上部腔室上升，打开腔室，再为了装载/卸载基板而利 用气缸(cylinder)等使台适当地上升。然后，通过在减压干燥装置周 围进行基板搬送的外部搬送机械手的处理，进行基板的搬入搬出或者 装载/卸载。另外，在台的上面突出设置有大量支撑销，基板被载置在 这些支撑销上。专利文献1:日本专利特开2000-181079如上所述，现有的减压干燥装置在每次将基板相对于腔室搬入搬 出时都使上部腔室上下(开闭)移动，随着基板的大型化，这种装置 结构中产生各种问题。即，若基板的尺寸如LCD基板那样，为单边超 过2m的大小，则腔室也随之显著地大型化，仅上部腔室就为2吨以上 的重量，需要大型的升降机构，并且因大振动引起的产生灰尘的问题 和对工作人员的安全上的问题变得明显。此外，搬送机械手也逐渐大 型化，但难以水平地保持并搬送较大的基板，由于将刚涂敷抗蚀剂后 的基板如大团扇那样以弯曲的状态进行搬送，在减压干燥装置的腔室中进行基板的搬入搬出或装载/卸载时，容易引起位置偏移、冲突或破 损等错误。而且，由于在腔室中基板在从台上面突出的销上接受减压 干燥处理，因此也存在销的痕迹转印到基板上的抗蚀膜上的问题。
技术实现思路
本专利技术鉴于上述现有技术的问题而提出，其目的在于提供一种减 压干燥装置，其能够高效安全且平稳地进行被处理基板的搬入搬出， 并且能够有效地防止转印痕迹附着在基板上的涂敷膜上。为了实现上述的目的，本专利技术的减压干燥装置用于在减压状态下 对被处理基板上的涂敷液实施干燥处理，其特征在于，包括腔室， 其具有用于将上述基板以大致水平状态收容的空间，并能够减压；第 一排气机构，其在上述干燥处理中用于在密封状态下对该腔室内的空 间进行真空排气；台，其具有用于在上述腔室内载置上述基板的上面， 并且具有用于向上述上面喷出使上述基板浮起的气体的大量的气体喷 出孔；气体供给部，其用于通过穿过上述台中的气体线路向上述气体 喷出孔供给浮起基板用的气体；和第二排气机构，其用于对上述气体 线路进行真空排气。在进行上述干燥处理时，使上述气体线路与上述 第二排挤机构连接并将上述基板载置在上述台的上面，在进行上述基 板的搬入搬出时，使上述气体线路与上述气体供给部连接并使上述基 板在上述台上浮起。对于上述装置的结构而言，在减压干燥处理中，通过第一排气机 构对腔室内空间进行真空排气，并且通过第二排气机构对通过台内部 的浮起气体线路进行真空排气并将被处理基板载置在台的上面。因为 在基板和台之间不存在部分的或局部的接触地方，所以不用担心会在 基板上的涂敷膜上产生接触地方的转印痕迹。此外，使基板浮起在台 上并通过适当地平流进行基板的搬入搬出，因此不需要使用搬送臂的 搬送机械手，不会使基板因形如较大团扇那样弯曲而引起装载/卸载时 的位置偏移和冲突/破损等错误。此外，在基板的搬入搬出时，也不需 要进行开闭腔室上盖的操作，也解决产生灰尘的问题和安全上的问题。此外，在本专利技术的一个优选方式中，台的上面具有比基板小，比 基板的产品区域大的尺寸。由此，在减压干燥处理中，使台上面与基板的产品区域整个面接触，在基板搬入搬出时能够使搬送装置与露出 台的外面的基板的两侧端部(非产品区域)接触或卡止。此外，作为本专利技术优选的一个方式，气体喷出孔作为一定密度的 细孔形成在台的上面，或台的上面由多孔质物质构成。通过将气体喷 出孔设为细孔，能够有效地降低从台侧所带给基板上的涂敷膜的热的 影响的波动。此外，根据本专利技术的一个优选方式，在腔室的侧壁部设置有用于 通过滚轴搬送将基板从腔室外搬入腔室中的搬入口、和用于通过滚轴 搬送将基板从腔室中搬出到腔室外的搬出口 ，在腔室的侧壁的外部设 置有用于开闭搬入口和搬出口的门机构。在这种情况下，搬入口和搬 出口只要为通过滚轴搬送能够正好使基板通过的大小即可，因此能够 使门机构小型化。可以使搬入口和搬出口彼此相对并分开设置在腔室 的侧壁部上，但也能够兼用一个搬入搬出口。此外，根据本专利技术的一个优选方式，设置有用于以平流搬送将基 板相对于腔室搬入搬出的搬送机构。但基板为矩形时，该搬送机构具 有分别与在台的两侧露出的基板的两侧端部接触并使基板沿基板搬送 方向移动的一对搬送线路。优选该搬送线路具有在台的两侧分别沿基 板搬送方向以规定的间距配置在一列上的多个边托辊。此外，为了平稳地进行基板的搬入搬出，优选在该搬送机构中， 采用在台和搬入口之间或台和搬出口之间具有沿基板搬送方向并列配 置的1条或多条内部滚轴的结构，或在搬入口的外部或搬出口的外部 具有沿基板搬送方向并列配置的1条或多条外部滚轴的结构。此外，根据本专利技术的一个优选方式，设置有用于在腔室内使台升 降移动或升降变位的台升降机构。在这样的结构中，在进行干燥处理 时，通过台升降机构使台上升至第一高度位置，使得基板从搬送线路 向上方分离并载置在台的上面；在进行基板的搬入搬出时，通过台升 降机构使台下降至第二高度位置，使得基板从搬送线路向上方分离并 且两侧端部载置在搬送线路上。根据本专利技术的减压干燥装置，通过上述这种结构和作用，能够有 效安全且平稳地进行被处理基板的搬入搬出，而且能够有效地防止转 印痕迹附着在基板上的涂敷膜上。 附图说明图1为表示可适用于本专利技术的涂敷显影处理系统的结构的平面图。图2为表示上述涂敷显影处理系统的处理顺序的流程图。图3为表示实施方式中的涂敷工艺部的整体结构的平面图。图4为表示实施方式中的减压干燥单元的结构的平面图。图5为表示实施方式中的减压干燥单元的搬入搬出时的各部的状态的局部截面侧视图。图6为表示实施方式中的减压干燥单元的减压干燥处理中的各部的状态的局部截面侧视图。图7为表示实施方式中的减压干燥单元的搬入搬出时的各部的状态的局部截面后视图。图8为表示实施方式中的减压干燥单元的减压干燥处理中的各部的状态的局部截面后视图。图9为表示实施方式中的台内部的结构的放大截面图。 符号说明10涂敷显影处理系统 30涂敷工艺部 46减压干燥单元(VD) 104搬入侧滚轴搬送路 106腔室108浮起式辊搬送路 110搬出侧滚轴搬送路 112搬入口 114搬出口 116、 118门机构 122台124L、 124R辊搬送路 126气体喷出孔 128气体缓冲室 130配管134气体供给管 136浮起用气体供给部 138、 165排气管 140真空排气装置 142、 144、 167开闭阀 146气缸 152边托辊 162电动机172 U72A、 172B)搬入侧滚轴搬送路的滚轴 174 (174A、 174B)搬出侧滚轴搬送路的滚轴具体本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种减压干燥装置，用于在减压状态下对被处理基板上的涂敷液实施干燥处理，其特征在于，包括：腔室，其具有用于将所述基板以大致水平状态收容的空间，并能够减压；第一排气机构，其在所述干燥处理中用于在密闭状态下对所述腔室内的空间进行真空排气；台，其具有用于在所述腔室内载置所述基板的上面，并且具有用于向所述上面喷出使所述基板浮起的气体的大量的气体喷出孔；气体供给部，其用于通过穿过所述台中的气体线路向所述气体喷出孔供给浮起基板用的气体；和第二排气机构，其用于对所述气体线路进行真空排气，在进行所述干燥处理时，使所述气体线路与所述第二排气机构连接并将所述基板载置在所述台的上面，在进行所述基板的搬入搬出时，使所述气体线路与所述气体供给部连接并使所述基板在所述台上浮起。
【技术特征摘要】
JP 2006-12-22 2006-3461041.一种减压干燥装置，用于在减压状态下对被处理基板上的涂敷液实施干燥处理，其特征在于，包括腔室，其具有用于将所述基板以大致水平状态收容的空间，并能够减压；第一排气机构，其在所述干燥处理中用于在密闭状态下对所述腔室内的空间进行真空排气；台，其具有用于在所述腔室内载置所述基板的上面，并且具有用于向所述上面喷出使所述基板浮起的气体的大量的气体喷出孔；气体供给部，其用于通过穿过所述台中的气体线路向所述气体喷出孔供给浮起基板用的气体；和第二排气机构，其用于对所述气体线路进行真空排气，在进行所述干燥处理时，使所述气体线路与所述第二排气机构连接并将所述基板载置在所述台的上面，在进行所述基板的搬入搬出时，使所述气体线路与所述气体供给部连接并使所述基板在所述台上浮起。2. 如权利要求1所述的减压干燥装置，其特征在于-所述台的上面比所述基板小，比所述基板的产品区域大。3. 如权利要求1或2所述的减压干燥装置，其特征在于 所述气体喷出孔作为一定密度的细孔形成在所述台的上面。4. 如权利要求1或2所述的减压干燥装置，其特征在于 所述台的上面由多孔质物质构成。5. 如权利要求1或2所述的减压干燥装置，其特征在于 在所述腔室的侧壁部设置有用于将所述基板从所述腔室外搬入所述腔室中的搬入口、和用于将所述基板从所述腔室中向所述腔室外搬 出的搬出口，在所述腔室的侧壁部外设置有用于开闭所述搬入口和所述搬出口的门...
【专利技术属性】
技术研发人员：八寻俊一，坂井光广，坂本贵浩，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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