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利用光学方法测量物体位移及变形的系统技术方案

技术编号:31749266 阅读:60 留言:0更新日期:2022-01-05 16:30
本实用新型专利技术属于采用光学方法为特征的计量设备技术领域,具体涉及一种利用光学方法测量物体位移及变形的系统,包括单色光源,单色光源发出的单色光线经过汇聚光路形成聚焦点,单色光线经过聚焦点后形成衍射投影光路,衍射投影光路上设置有成像接收装置,被测物体置于聚焦点处。本实用新型专利技术利用新型的光路原理,可以测量光学图像极其微小的位移或者变形,而利用本系统可以精确测量物体的位移或者变形量。用本系统可以精确测量物体的位移或者变形量。用本系统可以精确测量物体的位移或者变形量。

【技术实现步骤摘要】
利用光学方法测量物体位移及变形的系统


[0001]本技术属于采用光学方法为特征的计量设备
,具体涉及一种利用光学方法测量物体位移及变形的系统。

技术介绍

[0002]现有的光学投影仪的原理基本如下:光源发出的光经过凹面镜后通过螺纹透镜(也称菲涅尔透镜),投影成像的透明液晶屏或者底片放置在螺纹透镜处,然后在通过凸透镜聚焦后,最终经平面镜反射后在聚焦平面上成像。当透明液晶屏或者底片上的图像发生移动或变形时,聚焦平面上的像也移动后变形成倍的量。
[0003]现有技术中的光学投影仪,投影利用的是凸透镜成像原理,受其聚焦成像原理所限,放大倍率通常在几倍到十几倍左右,而且需要对焦,否则成像模糊。而当透明液晶屏或者底片上的图像仅发生了微小的位移或变形的时候,使用现有的投影仪来测量物体的位移及变形存在很大的局限性。

技术实现思路

[0004]本技术意在提供一种利用光学方法测量物体位移及变形的系统,以测量物体微小的位移或者变形。
[0005]为了达到上述目的,本技术的方案为:包括单色光源,单色光源发出的单色光线经过汇聚光路形成聚本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.利用光学方法测量物体位移及变形的系统,其特征在于:包括单色光源,单色光源发出的单色光线经过汇聚光路形成聚焦点,单色光线经过聚焦点后形成衍射投影光路,衍射投影光路上设置有成像接收装置,被测物体置于聚焦点处。2.根据权利要求1所述的利用光学方法测量物体位移及变形的系统,其特征在于:单色光源为激光光源。3.根据权利要求1所述的利用光学方法测量物体位移及变形的系统,其特征在于:聚焦光路中包括聚焦镜,聚焦镜为凸透镜、凸透镜组、反射凹镜、反射凹镜组、显微镜物镜聚焦镜或显微镜物镜聚焦镜组中的一种,或者聚焦镜为发散准直聚焦多级组合的透镜组。4.根据权利要求1所述的利用光学方法测量物体位移及变形的系统,其特征在于:衍射投影光路包括透射式衍射投影光路或反射式衍射投影光路;透射式衍射投影光路包括双凹透射镜或者平凹透射镜;反射式衍射投影光路包括凸反射镜。5.根据权利要求1所述的利用光学方法测量物体位移及变形的系统,其特征在于:衍射投影光路包括迈克尔逊干涉光路、马赫

【专利技术属性】
技术研发人员:陈方陆虹高仁璟
申请(专利权)人:陈方
类型:新型
国别省市:

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