Fe基非晶合金薄带及其制造方法、铁芯和变压器技术

本发明专利技术提供一种降低磁通密度1.45T条件下的铁损、变形小、生产率高的Fe基非晶合金薄带。本公开的一方式是一种具有第一面和第二面的Fe基非晶合金薄带。Fe基非晶合金薄带至少在第一面具有多个连续的线状激光照射痕。线状激光照射痕沿与Fe基非晶合金薄带的铸造方向正交的方向设置。线状激光照射痕的表面具有凹凸，在以铸造方向评价凹凸时，由Fe基非晶合金薄带的厚度方向上的最高点与最低点的高低差HL以及第一面中的线状激光照射痕的铸造方向上的长度即宽度WA算出的高低差HL

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】Fe基非晶合金薄带及其制造方法、铁芯和变压器
[0001]相关申请的相互参照
[0002]本国际申请主张基于2019年6月28日在日本专利局提出的日本专利申请第2019
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121525号的优先权、基于2020年2月17日在日本专利局提出的日本专利申请第2020
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024119号的优先权、基于2020年3月25日在日本专利局提出的日本专利申请第2020
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054544号的优先权以及基于2019年9月30日在日本专利局提出的日本专利申请第2019
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178568号的优先权，并将日本专利申请第2019
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121525号、日本专利申请第2020
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024119号、日本专利申请第2020
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054544号以及日本专利申请第2019
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178568号的全部内容通过参照援引至本国际申请。


[0003]本专利技术涉及Fe基非晶合金薄带及其制造方法、铁芯和变压器。

技术介绍

[0004]Fe基非晶(非晶质本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种Fe基非晶合金薄带，其具有第一面和第二面，至少在所述第一面具有多个连续的线状激光照射痕，所述线状激光照射痕沿与所述Fe基非晶合金薄带的铸造方向正交的方向设置，所述线状激光照射痕的表面具有凹凸，在以所述铸造方向评价所述凹凸时，由所述Fe基非晶合金薄带的厚度方向上的最高点与最低点的高低差HL以及所述第一面中的所述线状激光照射痕的所述铸造方向上的长度即宽度WA算出的高低差HL
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宽度WA为6.0～180μm2。2.根据权利要求1所述的Fe基非晶合金薄带，所述宽度WA为28μm以上。3.根据权利要求1所述的Fe基非晶合金薄带，所述高低差HL为0.20μm以上。4.根据权利要求1所述的Fe基非晶合金薄带，所述线状激光照射痕是通过对所述第一面照射激光而进行了熔融凝固的熔融凝固部，从所述第一面达到所述第二面，所述第二面中的所述线状激光照射痕的所述铸造方向上的长度即宽度WB与所述宽度WA的宽度比WB/WA为0.57以下。5.一种Fe基非晶合金薄带，其具有第一面和第二面，至少在所述第一面具有多个连续的线状激光照射痕，所述线状激光照射痕沿与所述Fe基非晶合金薄带的铸造方向正交的方向设置，所述线状激光照射痕是通过对所述第一面照射激光而进行了熔融凝固的熔融凝固部，从所述第一面达到所述第二面，所述第二面中的所述线状激光照射痕的所述铸造方向上的长度即宽度WB与所述第一面中的所述线状激光照射痕的所述铸造方向上的长度即宽度WA的宽度比WB/WA为0.57以下。6.根据权利要求5所述的Fe基非晶合金薄带，所述线状激光照射痕的表面具有凹凸，在以所述铸造方向评价所述凹凸时，由所述Fe基非晶合金薄带的厚度方向上的最高点与最低点的高低差HL以及所述宽度WA算出的高低差HL
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宽度WA为6.0～180μm2。7.根据权利要求6所述的Fe基非晶合金薄带，所述高低差HL为0.20μm以上。8.一种Fe基非晶合金薄带，其具有第一面和第二面，至少在所述第一面具有多个连续的线状激光照射痕，所述线状激光照射痕沿与所述Fe基非晶合金薄带的铸造方向正交的方向设置，所述第一面中的所述线状激光照射痕的所述铸造方向的长度即宽度WA为28.5μm以上90μm以下。9.根据权利要求1至8中任一项所述的Fe基非晶合金薄带，在将多个所述线状激光照射痕中彼此相邻的线状激光照射痕间的间隔设为线间隔的情况下，所述线间隔为2mm～200mm。10.根据权利要求1至8中任一项所述的Fe基非晶合金薄带，设置所述线状激光照射痕的部分为非晶质。11.根据权利要求1至8中任一项所述的Fe基非晶合金薄带，在将与所述铸造方向正交的方向设为宽度方向时，在所述宽度方向上，在所述Fe基非晶合金薄带的总体长度中所占的所述线状激光照射痕的长度的比例在从所述Fe基非晶合金薄带的所述宽度方向的中心朝向所述宽度方向两端的方向上分别为10％～50％的范围内。
12.根据权利要求1至8中任一项所述的Fe基非晶合金薄带，其具有自由凝固面和辊面作为所述第一面和所述第二面，所述自由凝固面中的所述线状激光照射痕以外的部分的最大截面高度Rt为3.0μm以下。13.根据权利要求1至8中任一项所述的Fe基非晶合金薄带，其厚度为18μm～35μm。14.根据权利要求1至8中任一项所述的Fe基非晶合金薄带，所述Fe基非晶合金薄带的合金组成由Fe、Si、B和杂质构成，在将Fe、Si和B的合计含量设为100原子％的情况下，Fe的含量为78原子％以上，B的含量为10原子％以上，B和Si的合计含量为17原子％～22原子％。15.根据权利要求1至8中任一项所述的Fe基非晶合金薄带，在频率60Hz和磁通密度1.45T条件下的铁损为0.150W/kg以...

【专利技术属性】
技术研发人员：板垣肇，黑木守文，佐佐木淳，中岛晋，
申请(专利权)人：日立金属株式会社，
类型：发明
国别省市：