本实用新型专利技术公开了一种集成光电子器件制造用蚀刻装置，涉及光电子器件加工装置技术领域，其技术方案要点是包括蚀刻箱，蚀刻箱一侧的顶部固定安装有进料管，蚀刻箱的底部固定安装有第一连接管，第一连接管上固定连接有阀门，蚀刻箱顶部的一侧通过第二连接管固定连接有固定箱，且第二连接管与固定箱的连接处位于固定箱一侧的底部，固定箱的内部装有碱性液体，效果是通过设置固定箱，固定箱的内部装有碱性液体，蚀刻箱内部的蚀刻蒸汽直接通入蚀刻箱的内部，蚀刻箱内部的碱性液体对酸性的蒸汽进行中和，去除蒸汽中的酸性物质，活性炭网对中和后的气体进行吸附，从而增强气体过滤的效果。果。果。
【技术实现步骤摘要】
一种集成光电子器件制造用蚀刻装置
[0001]本技术涉及光电子器件加工装置
，更具体地说，它涉及一种集成光电子器件制造用蚀刻装置。
技术介绍
[0002]光电子器件是光电子技术的关键和核心部件，是现代光电技术与微电子技术的前沿研究领域，是信息技术的重要组成部分。
[0003]光电子器件在制作的过程中，需要对光电子器件进行蚀刻操作，现有技术在对集成光电子器件进行蚀刻操作的过程中，无法对酸性的蚀刻蒸汽进行一定的酸碱中和处理，酸性蒸汽也有可能对使用者的身体健康造成一定的伤害，可靠性能不足。
技术实现思路
[0004]针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种可对酸性蚀刻蒸汽进行中和处理的集成光电子器件制造用蚀刻装置。
[0005]为实现上述目的，本技术提供了如下技术方案：一种集成光电子器件制造用蚀刻装置，包括蚀刻箱，蚀刻箱一侧的顶部固定安装有进料管，蚀刻箱的底部固定安装有第一连接管，第一连接管上固定连接有阀门，蚀刻箱顶部的一侧通过第二连接管固定连接有固定箱，且第二连接管与固定箱的连接处位于固定箱一侧的底部，固定箱的内部装有碱性液体，固定箱内腔的顶部位于碱性液体的上方设有对气体进行清理的清理件。
[0006]优选地，第二连接管的内腔固定安装有吸风扇。
[0007]优选地，清理件包括活性炭网，固定箱内腔的顶部开设有放置槽，放置槽的顶部延伸出固定箱的外部，且活性炭网与放置槽的槽底接触，活性炭网与放置槽之间滑动连接。
[0008]优选地，固定箱的内腔位于活性炭网的顶部设有酸碱指示层，酸碱指示层外围的侧壁包裹有橡胶垫，且酸碱指示层侧壁的橡胶垫与固定箱顶部开设的放置槽槽壁接触，固定箱的顶部设有密封盖，密封盖的内腔设有开口，且密封盖内腔的开口中充满活性炭，固定箱的外围位于碱性液体的上方固定安装有上液管，固定箱的底部固定安装有排液管。
[0009]优选地，第一连接管的底部固定安装有储液箱，储液箱一侧的底部固定安装有出料管。
[0010]优选地，蚀刻箱的内腔设有隔板，隔板沿着蚀刻箱的内腔侧壁滑动，且蚀刻箱的内部设有对隔板进行固定的固定件。
[0011]优选地，固定件包括卡杆，隔板内腔顶部的左右两侧均设有供卡杆滑动的第一滑槽，卡杆沿着第一滑槽的内部滑动，且卡杆为L型结构，蚀刻箱的内腔侧壁设有等间距分布的供卡杆一端放入的卡槽，卡杆的顶部固定安装有横板，且隔板的顶部开设有供横板滑动的第二滑槽。
[0012]优选地，蚀刻箱内腔底部的一侧固定安装有限位杆，限位杆远离蚀刻箱安装的一端与蚀刻箱之间留有间隙，且隔板的底部开设有供限位杆穿过的穿孔。
[0013]与现有技术相比，本技术具备以下有益效果：
[0014]1、通过设置固定箱，固定箱的内部装有碱性液体，蚀刻箱内部的蚀刻蒸汽直接通入蚀刻箱的内部，蚀刻箱内部的碱性液体对酸性的蒸汽进行中和，去除蒸汽中的酸性物质，活性炭网对中和后的气体进行吸附，从而增强气体过滤的效果。
[0015]2、通过设置酸碱指示层，酸碱指示层对穿过活性炭网的气体进行检测，若酸碱指示层发生变色，需要对固定箱内部的碱性液体进行更换，等到过滤完成后，再对固定箱内部的活性炭网和密封盖内部的活性炭进行更换，增强气体过滤的效果。
附图说明
[0016]图1为本技术实施例的示意图；
[0017]图2为本技术实施例的隔板结构示意图；
[0018]图3为本技术实施例的隔板固定结构示意图。
[0019]1、蚀刻箱；2、吸风扇；3、第二连接管；4、固定箱；5、活性炭网；6、出料管；7、储液箱；8、阀门；9、第一连接管；10、进料管；11、隔板；12、限位杆；13、横板；14、第二滑槽；15、卡杆； 16、第一滑槽；17、酸碱指示层；18、密封盖；19、上液管；20、排液管。
具体实施方式
[0020]参照图1至图3对本技术一种集成光电子器件制造用蚀刻装置实施例做进一步说明。
[0021]见图1，一种集成光电子器件制造用蚀刻装置，包括蚀刻箱1，蚀刻箱1一侧的顶部固定安装有进料管10，蚀刻箱1的底部固定安装有第一连接管9，第一连接管9上固定连接有阀门8，蚀刻箱1顶部的一侧通过第二连接管3固定连接有固定箱4，且第二连接管3与固定箱4的连接处位于固定箱4一侧的底部，固定箱4的内部装有碱性液体，固定箱4内腔的顶部位于碱性液体的上方设有对气体进行清理的清理件。将需要蚀刻的光电子器件放置在蚀刻箱1的内部，将蚀刻液体从进料管10通入蚀刻箱1的内部，在蚀刻的过程中，蚀刻液体产生的蒸汽通过第二连接管3通入固定箱4的内部，蒸汽直接进入固定箱4内部碱性液体中，碱性液体对酸性气体起到中和的作用，中和后的气体进入清理件中，清理件对中和后的气体起到清理的作用，保证最后排出的气体中不含酸性物质，避免对使用者造成伤害。
[0022]见图1，第二连接管3的内腔固定安装有吸风扇2。吸风扇2加速蚀刻箱1内部的气体进入固定箱4的内部。
[0023]见图1，清理件包括活性炭网5，固定箱4内腔的顶部开设有放置槽，放置槽的顶部延伸出固定箱4的外部，且活性炭网5与放置槽的槽底接触，活性炭网5与放置槽之间滑动连接。活性炭具有很好的吸附性，利用活性炭对中和后的气体进行吸附，使得最后排出的气体中不含有害物质。
[0024]见图1，固定箱4的内腔位于活性炭网5的顶部设有酸碱指示层 17，酸碱指示层17外围的侧壁包裹有橡胶垫，且酸碱指示层17侧壁的橡胶垫与固定箱4顶部开设的放置槽槽壁接触，固定箱4的顶部设有密封盖18，密封盖18的内腔设有开口，且密封盖18内腔的开口中充满活性炭，固定箱4的外围位于碱性液体的上方固定安装有上液管19，固定箱4的底部固定安装有排液管20。密封盖18的内部设有活性炭，活性炭对离开固定箱4内部的液体进行
过滤，进行酸性中和后的气体进入酸碱指示层17，若酸碱指示层17发生变色，说明固定箱4内部的碱性液体需要更换，可向上液管19中加入碱性液体，将固定箱4内部的液体从排液管20中排出，无需暂停蚀刻操作，此时蚀刻操作结束，再对活性炭网5和密封盖18内部的活性炭进行更换。
[0025]见图1，第一连接管9的底部固定安装有储液箱7，储液箱7一侧的底部固定安装有出料管6。蚀刻操作结束后，打开阀门8，将蚀刻箱1内部的液体放入储液箱7中，此时蚀刻箱1内部的光电子器件上进行沥干，便于人们后续将其拿出。
[0026]见图1和2，蚀刻箱1的内腔设有隔板11，隔板11沿着蚀刻箱1的内腔侧壁滑动，且蚀刻箱1的内部设有对隔板11进行固定的固定件。隔板11将蚀刻箱1内部不同光电子器件进行隔开，避免光电子器件叠加在一起，这样蚀刻容易不能对光电子器件进行很好的浸泡，从而保证蚀刻的精度，隔板11之间的间距可调，人们可根据光电子器件的大小对不同隔板11之间的间距进行调节。
[0027]见图2和3，固定件包括卡杆15，隔板11内腔顶部的左右两侧均设有供卡杆15滑动的第一滑槽16，卡杆15本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种集成光电子器件制造用蚀刻装置，包括蚀刻箱(1)，其特征是：蚀刻箱(1)一侧的顶部固定安装有进料管(10)，蚀刻箱(1)的底部固定安装有第一连接管(9)，第一连接管(9)上固定连接有阀门(8)，蚀刻箱(1)顶部的一侧通过第二连接管(3)固定连接有固定箱(4)，且第二连接管(3)与固定箱(4)的连接处位于固定箱(4)一侧的底部，固定箱(4)的内部装有碱性液体，固定箱(4)内腔的顶部位于碱性液体的上方设有对气体进行清理的清理件。2.根据权利要求1所述的一种集成光电子器件制造用蚀刻装置，其特征是：第二连接管(3)的内腔固定安装有吸风扇(2)。3.根据权利要求1所述的一种集成光电子器件制造用蚀刻装置，其特征是：清理件包括活性炭网(5)，固定箱(4)内腔的顶部开设有放置槽，放置槽的顶部延伸出固定箱(4)的外部，且活性炭网(5)与放置槽的槽底接触，活性炭网(5)与放置槽之间滑动连接。4.根据权利要求3所述的一种集成光电子器件制造用蚀刻装置，其特征是：固定箱(4)的内腔位于活性炭网(5)的顶部设有酸碱指示层(17)，酸碱指示层(17)外围的侧壁包裹有橡胶垫，且酸碱指示层(17)侧壁的橡胶垫与固定箱(4)顶部开设的放置槽槽壁接触，固定箱(4)的顶部设有密封盖(18)，密封盖(18)的内腔设有开口，且密封盖(18)内腔的开口中充满活性...
【专利技术属性】
技术研发人员：傅威，靳贺迎，胡克文，何正洲，
申请(专利权)人：淮安昕锐至新光电科技合伙企业有限合伙，
类型：新型
国别省市：
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