一种自动化设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种自动化设备，包括工艺腔、工艺电源柜、真空机组、系统柜、配电柜、操作柜以及桥架。其中，系统柜和工艺电源柜分别设置在真空机组左右两侧，操作柜与工艺电源柜位于真空机组同一侧，而工艺腔和配电柜真空机组的前后两侧。工艺腔、工艺电源柜、真空机组、系统柜、配电柜、以及操作柜之间通过线管连接工作。最后，再将桥架围绕真空机组设置，桥架用于承载线管。通过将系统各部分进行合理的规划，再利用桥架合理地排布及收纳各管路的连接，使得该自动化设备能大大减少占地面积进而便于搬运，且各部分之间的连接简单美观，大大提高设备的安全性能。设备的安全性能。设备的安全性能。

【技术实现步骤摘要】
一种自动化设备


[0001]本技术涉及真空镀膜领域，特别涉及一种自动化设备。

技术介绍

[0002]真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜工艺，可以包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延及PLD激光溅射沉积等多种形式。目前在实际应用中，真空镀膜主要可以分为蒸发镀膜和溅射镀膜。
[0003]真空镀膜设备是制作真空条件应用最为广泛的真空设备。真空镀膜设备一般包括工艺腔室、真空机组，还包括水气路机组和电路机组等辅助系统。在传统设备中，由于整个设备所涉及的辅助系统较多，设备的管路较多，布设较为复杂，并容易导致设备体积过大，不便于维修和搬运。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种自动化设备，以解决现有技术中的真空镀膜设备涉及的较多的辅助系统，设备的管路较多，布设较为复杂，并容易导致设备体积过大，不便于维修和搬运的问题。
[0005]为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案：
[0006]一种自动化设备，其特征在于，包括：工艺腔、真空机组、工艺电源柜、系统柜、配电柜、操作柜及桥架，所述系统柜与所述工艺电源柜分别设于所述真空机组的左右两侧，所述操作柜与所述工艺柜位于所述真空机组的同侧，所述工艺腔及所述配电柜分别设于所述真空机组的前后两侧，所述工艺腔、真空机组、工艺电源柜、系统柜、配电柜及操作柜之间通过线管连接；
[0007]所述桥架围绕所述真空机组设置，所述桥架用于承载所述线管。
[0008]可选地，所述系统柜内装有冷却系统以及气控系统；所述冷却系统通过冷却管路与所述工艺腔连接，用于对所述工艺腔冷却，所述气控系统通过气管与所述工艺腔相连接。
[0009]可选地，所述配电柜包括强电控制电源柜和弱电控制电源柜，所述强电控制电源柜设于所述工艺电源柜的前侧，所述弱电电源柜设于所述系统柜的前侧；所述强电控制电源柜与所述工艺电源柜以及所述真空机组电连接；所述弱电控制电源柜与所述冷却系统以及所述气控系统电连接。
[0010]可选地，所述弱电控制电源柜的柜体开设有设有进水口和出水口，所述冷却系统通过进水管与所述进水口连通，所述冷却系统通过出水管与所述出水口连通。
[0011]可选地，所述系统柜、所述弱电控制电源柜、所述强电控制电源柜以及所述工艺电源柜的柜体上均设置有散热口。
[0012]可选地，所述桥架靠近所述工艺电源柜、所述系统柜、所述配电柜以及所述操作柜的顶部设置。
[0013]可选地，所述工艺腔为真空镀膜腔。
[0014]可选地，所述真空机组为多台，多台真空机组并列设置。
[0015]可选地，所述工艺电源柜可以为多个，并列排布于所述真空机组的一侧。
[0016]可选地，所述强电控制电源柜与所述弱电控制电源柜之间设置有通道，所述通道使所述真空机组与外界连通。
[0017]由上述技术方案可知，本技术实施例至少具有如下优点和积极效果：
[0018]本申请提供一种自动化设备，包括工艺腔、工艺电源柜、真空机组、系统柜、配电柜、操作柜以及桥架。其中，系统柜和工艺电源柜分别设置在真空机组左右两侧，操作柜与工艺电源柜位于真空机组同一侧，而工艺腔和配电柜真空机组的前后两侧。工艺腔、工艺电源柜、真空机组、系统柜、配电柜、以及操作柜之间通过线管连接工作。最后，再将桥架围绕真空机组设置，桥架用于承载线管。通过将系统各部分进行合理的规划，再利用桥架合理地排布及收纳各管路的连接，使得该自动化设备能大大减少占地面积进而便于搬运，且各部分之间的连接简单美观，大大提高设备的安全性能。
附图说明
[0019]图1是本技术的正视图。
[0020]图2是图1的俯视图。
[0021]图3是图1的右视图。
[0022]图4是图1的左视图。
[0023]附图标记说明如下：
[0024]100、自动化设备；10、真空机组；20、配电柜；21、强电控制电源柜；211、总开关；22、弱电控制电源柜；221、进水口；222、出水口；30、工艺电源柜；40、系统柜；50、操作柜；51、操作面板；60、桥架；70、散热口；80、通道。
具体实施方式
[0025]体现本技术特征与优点的典型实施方式将在以下的说明中详细叙述。应理解的是本技术能够在不同的实施方式上具有各种的变化，其皆不脱离本技术的范围，且其中的说明及图示在本质上是当作说明之用，而非用以限制本技术。
[0026]在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
[0027]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0028]在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是
两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
[0029]请参阅图1和图2，本申请提供的一种自动化设备100，设备中各部分进行了一个合理的规划，使得整个自动化设备100占地面积较小且便于维修和搬运。该自动化设备100包括工艺腔、真空机组10、配电柜20、工艺电源柜30、系统柜40、操作柜50及桥架60。
[0030]其中，系统柜40与工艺电源柜30分别设于真空机组10的左右两侧。操作柜50与工艺电源柜30位于真空机组10的同侧。而工艺腔及配电柜20分别设于真空机组10的前后两侧。工艺腔、真空机组10、配电柜20、工艺电源柜30、系统柜40及操作柜50之间通过线管连接。桥架60围绕真空机组10设置，桥架60用于承载线管。为方便说明，现规定，如图2中，X轴方向为真空机组10左右方向，Y轴方向为真空机组10的前后方向，如图1中，Z轴方向为真空机组10上下方向。
[0031]在本实施例中，工艺腔为真空镀膜腔。接下来将结合本实例对本申请进行更为详细的说明。
[0032]首先简单介绍一下真空镀膜工艺。真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自动化设备，其特征在于，包括：工艺腔、真空机组、工艺电源柜、系统柜、配电柜、操作柜及桥架，所述系统柜与所述工艺电源柜分别设于所述真空机组的左右两侧，所述操作柜与所述工艺电源柜位于所述真空机组的同侧，所述工艺腔及所述配电柜分别设于所述真空机组的前后两侧，所述工艺腔、真空机组、工艺电源柜、系统柜、配电柜及操作柜之间通过线管连接；所述桥架围绕所述真空机组设置，所述桥架用于承载所述线管。2.根据权利要求1所述的自动化设备，其特征在于，所述系统柜内装有冷却系统以及气控系统；所述冷却系统通过冷却管路与所述工艺腔连接，用于对所述工艺腔冷却，所述气控系统通过气管与所述工艺腔相连接。3.根据权利要求2所述的自动化设备，其特征在于，所述配电柜包括强电控制电源柜和弱电控制电源柜，所述强电控制电源柜设于所述工艺电源柜的前侧，所述弱电控制电源柜设于所述系统柜的前侧；所述强电控制电源柜与所述工艺电源柜以及所述真空机组电连接；所述弱电控制电源柜与所述冷却系统以及所述气控系...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨诗锋，彭中业，李日天，
申请(专利权)人：中山凯旋真空科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：