中子捕获治疗设备制造技术

本发明专利技术提供一种中子捕获治疗设备，其包括中子束照射系统、检测系统及校正系统，中子束照射系统用于产生中子束，检测系统用于在中子束照射治疗过程中对照射参数进行检测，校正系统用于对预设的中子剂量进行校正，在源头上确保了向患者实施照射的中子束的剂量的准确度。保了向患者实施照射的中子束的剂量的准确度。保了向患者实施照射的中子束的剂量的准确度。

【技术实现步骤摘要】
中子捕获治疗设备


[0001]本专利技术涉及一种放射性射线辐照领域，尤其涉及一种中子捕获治疗设备。

技术介绍

[0002]随着原子科学的发展，例如钴六十、直线加速器、电子射束等放射线治疗已成为癌症治疗的主要手段之一。然而传统光子或电子治疗受到放射线本身物理条件的限制，在杀死肿瘤细胞的同时，也会对射束途径上大量的正常组织造成伤害；另外由于肿瘤细胞对放射线敏感程度的不同，传统放射治疗对于较具抗辐射性的恶性肿瘤(如：多行性胶质母细胞瘤(glioblastoma multiforme)、黑色素细胞瘤(melanoma))的治疗成效往往不佳。
[0003]为了减少肿瘤周边正常组织的辐射伤害，化学治疗(chemotherapy)中的标靶治疗概念便被应用于放射线治疗中；而针对高抗辐射性的肿瘤细胞，目前也积极发展具有高相对生物效应(relative biological effectiveness,RBE)的辐射源，如质子治疗、重粒子治疗、中子捕获治疗等。其中，中子捕获治疗便是结合上述两种概念，如硼中子捕获治疗，借由含硼药物在肿瘤细胞的特异性集聚，配合本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种中子捕获治疗设备，其特征在于：包括中子束照射系统、检测系统及校正系统，中子束照射系统用于产生中子束，检测系统用于在中子束照射治疗过程中对照射参数进行检测，校正系统用于对预设的中子剂量进行校正。2.根据权利要求1所述的中子捕获治疗设备，其特征在于：校正系统采用的校正系数包括中子校正系数K1和硼校正系数K2。3.根据权利要求2所述的中子捕获治疗设备，其特征在于：检测系统包括用于实时检测中子束的剂量的中子剂量检测装置及用于检测待照体体内的硼浓度的硼浓度检测装置。4.根据权利要求2所述的中子捕获治疗设备，其特征在于所：校正系统根据待照体的定位偏差及实时中子剂量率偏差获得中子校正系数K1。5.根据权利要求4所述的中子捕获治疗设备，其特征在于：中子校正系数K1采用公式(3-1)、公式(3-2)及公式(3-3)进行计算，相关公式如下：K1＝K
p
·
K
i
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(3-1)1)其中，K
p
为定位校正系数；K
i
为中子射束强度校正系数；D为由中子剂量检测装置测得的实时中子剂量；D0为未校正过的预设中子剂量；I为由中子剂量检测装置测得的实时中子剂量率；I0为理论射束强度。6.根据权利要求2所述的中子捕获治疗设备，其特征在于：校正系统根据待照体体内的实时硼浓度及中子通量获得硼校正系数K2。7.根据权利要求6所述的中子捕获治疗设备，其特征在于：通过硼浓度检测装置获得待照体体内的第一硼浓度值，中子束照射进入肿瘤部位具有第一径迹，校正系统获得第一硼校正系数；通过硼浓度检测装置获得待照体体内的第二硼浓度值，中子束照射进入肿瘤部位具有第二径迹，校正系统获得第二硼校正系数；其中，第一硼浓度值高于第二硼浓度值，第一径迹则小于第二径迹，且第一硼校正系数小于第二硼校正系数。8.根据权利要求7所述的中子捕获治疗设备，其特征在于：硼校正系数K2采用公式(3-4)、公式(3-5)及公式(3-6)进行计算，相关公式如下：K2＝K
b
·
K
S
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(3-4)4)其中，K
b
为硼浓度校正系数；K
S
为硼自屏蔽效应校正系数；B为由硼浓度检测装置检测到的实时硼浓度；B0为治疗计划中的硼浓度设定值；为硼浓度分布为B时待照体体内热...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘渊豪，陈韦霖，
申请(专利权)人：中硼厦门医疗器械有限公司，
类型：发明
国别省市：