一种带阻尼挡板的抗拔-双凹面变曲率摩擦摆制造技术

本实用新型专利技术涉及一种带阻尼挡板的抗拔

【技术实现步骤摘要】
一种带阻尼挡板的抗拔
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双凹面变曲率摩擦摆


[0001]本技术涉及建筑工程、桥梁领域，尤其涉及一种带阻尼挡板的抗拔
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双凹面变曲率摩擦摆。

技术介绍

[0002]近几年，我国实力逐渐提升，对基础建设的要求越来越高，随着隔震支座的应用增多，对隔震支座的性能要求逐渐提高。目前常用的隔震支座有橡胶支座、摩擦摆支座、滑板支座、高阻尼橡胶支座等。
[0003]摩擦摆作为一种具有自复位功能、延长结构周期的隔震支座，其工作原理是将上部结构和下部结构分隔开，减少地震能量向上传播；上部结构整体置于凹球面上，地震来临时部结构和下部结构产生相对位移，延长结构周期，当地震结束后，在重力影响下，结构可以恢复到原来位置。
[0004]在分析结构在地震下的影响时，大高宽比结构在地震时必须考虑到高阶振型对结构的影响，且需考虑结构倾覆情况，传统摩擦摆不具备抗倾覆功能及无法随着地震情况不断改变结构自振周期。
[0005]关于摩擦摆、及抗拔摩擦摆也有很多优秀的技术方案，如在申请号为201020673066.4的技术专利“抗本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带阻尼挡板的抗拔
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双凹面变曲率摩擦摆，其特征在于：包括凹型上滑动盖(1)、上滑块(2)、下滑块(3)和凹型下滑动盖(4)；所述上滑块(2)在凹型上滑动盖(1)的滑动面内滑动，所述上滑块(2)和凹型上滑动盖(1)之间设有第一摩擦层(5)；所述下滑块(3)在凹型下滑动盖(4)的滑动面内滑动，所述下滑块(3)和凹型下滑动盖(4)之间设有第二摩擦层(6)；所述上滑块(2)和下滑块(3)可相对转动，所述上滑块(2)和下滑块(3)之间设有第三摩擦层(7)；所述凹型下滑动盖(4)的四周内固定有用于限位的阻尼挡板(8)，所述凹型上滑动盖(1)和凹型下滑动盖(4)之间还设置有抗拔构件(9)。2.如权利要求1所述的一种带阻尼挡板的抗拔
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双凹面变曲率摩擦摆，其特征在于：所述凹型上滑动盖(1)和凹型下滑动盖(4)的滑动面为变曲率凹型滑动面或球形滑动面，且所述凹型上滑动盖(1)和凹型下滑动盖(4)其中任意一个的滑动面为变曲率滑动面。3.如权利要求1所述的一种带阻尼挡板的抗拔
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双...

【专利技术属性】
技术研发人员：陶忠，谢黄东，彭钦锋，何颖成，王鹏，赵东龙，
申请(专利权)人：昆明理工大学，
类型：新型
国别省市：