【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及高分子化合物、该高分子化合物的制造方法、用作该高分子 化合物的合成原料的化合物，以及含有该高分子化合物的溶液、含有高分子 化合物的薄膜、含有该高分子化合物的高分子发光元件。肾景技术对于高分子量的发光材料和电荷输送材料在溶剂中可溶，能够通过涂布 法形成发光元件中的有机层，人们进行了各种研究，作为例子，己知的是主 链骨架中具有吩噁嗪作为重复单元的高分子化合物(专利文献1:日本特开2003-165829)及主链中引入了吩噁嗪单元的蓝色电场发光高分子(专利文献 2:日本特开2004-137456)。但是，将上述高分子化合物用于高分子发光元件(高分子LED)时，存 在以下问题发射波长长，作为蓝色发光材料使用时的色度及作为蓝色、绿 色、红色、白色等发光材料使用时的寿命等元件特性不一定充足。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供可作为发光材料和电荷输送材料使用，用于高分子 发光元件时，发射波长短，作为蓝色发光材料使用时的色度及作为蓝色、绿 色、红色、白色等发光材料使用时的寿命等元件特性优异的高分子化合物。艮口，本专利技术提供含有下述式(1)表示的化合物残基的高分...
【技术保护点】
一种高分子化合物，其中， 含有由下述式（１）表示的化合物残基， ＊＊＊ （１） 式中，Ｃ↑［１］环、Ｃ↑［２］环及Ｃ↑［３］环各自独立地表示芳香烃环或杂环，Ａ↑［１］表示含有选自硼原子、碳原子、氮原子、氧原子、磷原子、硫原子及硒原子中的一种以上原子的２价基团，Ｒ↑［１］表示烷基、烷氧基、烷硫基、芳基、芳氧基、芳硫基、芳烷基、芳烷氧基、芳烷硫基、烯基、炔基、二取代氨基、三取代甲硅烷基、酰基、酰氧基、亚胺残基、酰胺基、酰亚胺基、１价杂环基、取代羧基、杂芳氧基或杂芳硫基，或与结合有Ｒ↑［１］的Ｃ↑［３］环上的原子的相邻原子结合形成环。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2005-8-12 234318/20051. 一种高分子化合物，其中，含有由下述式(1)表示的化合物残基，id=icf0001 file=S2006800376723C00011.gif wi=48 he=23 top= 63 left = 42 img-content=drawing img-format=tif orientation=portrait inline=no/>式中，C1环、C2环及C3环各自独立地表示芳香烃环或杂环，A1表示含有选自硼原子、碳原子、氮原子、氧原子、磷原子、硫原子及硒原子中的一种以上原子的2价基团，R1表示烷基、烷氧基、烷硫基、芳基、芳氧基、芳硫基、芳烷基、芳烷氧基、芳烷硫基、烯基、炔基、二取代氨基、三取代甲硅烷基、酰基、酰氧基、亚胺残基、酰胺基、酰亚胺基、1价杂环基、取代羧基、杂芳氧基或杂芳硫基，或与结合有R1的C3环上的原子的相邻原子结合形成环。2、 一种高分子化合物，其中， 含有由下述式(2)表示的结构单元，<formula>formula see original document page 2</formula>式中，C'环、(:2环、C^环、A1及R表示与上述相同的含义。3、 根据权利要求1或2所述的高分子化合物，其中，c1环及d环为苯环或单环型杂环。4、 根据权利要求1~3中任一项所述的高分子化合物，其中， d环为芳香烃环。5、 根据权利要求1 4中任一项所述的高分子化合物，其中， d环由下述式(3)表示，(3)式中，R'表示与上述相同的含义，112及113各自独立地表示烷基、烷氧基、 烷硫基、芳基、芳氧基、芳硫基、芳烷基、芳烷氧基、芳垸硫基、烯基、 炔基、二取代氨基、三取代甲硅烷基、酰基、酰氧基、亚胺残基、酰胺基、 酰亚胺基、1价杂环基、取代羧基、杂芳氧基或杂芳硫基，当W结合在 与R1或R2结合的碳原子相邻的碳原子上时，该R3也可以与R1或R2结合 形成环，n表示0、 1、 2或3， n为2以上时，多个W可以相同或不同。6、 根据权利要求1~5中任一项所述的高分子化合物，其中， A'为氧原子、硫原子、-S (=0) -、 -S (=0) 2-、硒原子、-Se (=0)-或-Se (=0) 2-。7、 根据权利要求1~6中任一项所述的高分子化合物，其中， A为氧原子、硫原子或硒原子。8、 根据权利要求1 7中任一项所述的高分子化合物，其满足下述式 (11)，(1一A) X*《0扁 (11) 式中，A表示与d环结合的氮原子的屏蔽率，B表示与(^环结合的氮原 子的电子密度。9、 根据权利要求1 7中任一项所述的高分子化合物，其中， 还含有由下述式(4)表示的重复单元，-Ar1(cR4=CR5)n (4)式中，Ar'表示亚芳基、2价杂环基或具有金属络合物结构的2价基团， W及RS各自独立地表示氢原子、垸基、芳基、1价杂环基或氰基，n表 示0或1。10、 根据权利要求9所述的高分子化合物，其中， 上述式(4)中的n为0。11、 根据权利要求9或10所述的高分子化合物，其特征在于， 上述式(4)中的Ar'为亚芳基。12、根据权利要求1 11中任一项所述的高分子化合物，其中，还含有由下述式(5)表示的重复单元，式中，Ar2、 Ar3、 A/及A一各自独立地表示亚芳基或2价杂环基，Ar6、 Af及ArS各自独立地表示芳基或1价杂环基，a及b各自独立地表示0 或正整数。13、 根据权利要求1~12中任一项所述的高分子化合物，其中， 含有由上述式(1)表示的化合物残基的结构单元相对于全部结构单元的含量为0.1摩尔％以上且40摩尔％以下。14、 根据权利要求1 13中任一项所述的高分子化合物，其中， 经聚苯乙烯换算的数均分子量为103 108。15、 一种由上述式(2)表示的高分子化合物的制造方法，其中， 使用由下述式(6)表示的化合物作为原料进行聚合，<formula>formula see original document page 4</formula>式中，C'环、(32环、d环、A'及R'表示与上述相同的含义，X1、 乂2各 自独立地表示能参与聚合的取代基。16、 根据权利要求15所述的制造方法，其中，上述式(6)中的X'及xZ...
【专利技术属性】
技术研发人员：小林谕，小林重也，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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