外观检查装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供外观检查装置，该外观检查装置具有：第１基板保持部，其以能够观察基板表面的方式对基板进行保持；第２基板保持部，其以能够观察基板背面的方式对基板进行保持；第１基板保持部移动机构，其使第１基板保持部移动；第２基板保持部移动机构，其使第２基板保持部移动；以及控制装置，其控制第１基板保持部移动机构和第２基板保持部移动机构，以使利用第１基板保持部观察基板表面时基板的位置和利用第２基板保持部观察基板背面时基板的位置大致一致。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对晶片等基板的表面和背面进行检查的检查装置。
技术介绍
以往，在半导体的制造工序中，为了确认附着在晶片等基板的表面 的异物、抗蚀剂涂敷时的膜的不均匀、曝光装置的曝光不良等，公知有 利用目视或基于摄像装置的摄像进行外观检查的技术。作为外观检查， 可以列举进行宏观的检查的宏观检查、使用显微镜进行放大观察的微观 检査。这里，作为进行宏观检查的外观检査装置，例如有日本特开2006-170622号公报所公开的装置。该外观检査装置具有基板保持单元， 在基板保持单元中设有进行基板的旋转和摆动的机构。在基板保持单元 的上方设有对基板进行照明的照明装置。检查者目视或利用摄像装置观 察被照明装置照明的基板表面。使用该外观检查装置的目的是在记录中 留下目视检査的情况、或者在检查者为多人时共享缺陷的信息等，摄像 装置的光轴配置成几乎与检查者的观察位置相同。因此，能够按照观察 者所看到的那样进行观察和记录。另外，近年来，期望也能够检査基板的背面。作为也能够观察基板 背面的外观检査装置，例如有日本特开平10-92887号公报所公开的装置。 该装置具有保持基板的周缘部的保持臂，且在保持臂的基端部设有转动 轴。在大致水平地配置保持臂时，观察者能够目视检査基板的表面。在观 察基板的背面时，使保持臂绕旋转轴立起，直到基板的背面朝向观察者。但是，在日本特幵平10-92887号公报所公开的装置结构中，在背面 观察时使保持臂立起时的基板位置与表面观察时的基板位置大不相同。 因此，伴随基板位置的移动，必须大幅移动视线，给检查者造成负担。并且，为了在基板位置大蟬移动时也能够对基板进行照明，需要大型的 照明装置。另外，在日本特开平10-92887号公报所公开的装置结构中，除了摄像装置以外，还需要设置如下机构在可以取得表面图像和背面图像的情况下，伴随着表面观察时和背面观察时的基板位置的变化，来变更摄 像装置的光轴方向并且进行对焦的机构，或者，需要根据基板位置设置 两台摄像装置，成为增大成本的原因。
技术实现思路
本专利技术是鉴于这种情况而完成的，其第1目的在于，抑制进行表面观察和背面观察时视线的移动。并且，其第2目的在于，以低成本提供可以利用摄像装置记录基板表面和背面的图像的结构。本专利技术的外观检查装置具有第1基板保持部，其以能够观察基板 表面的方式对基板进行保持；第2基板保持部，其以能够观察基板背面 的方式对基板进行保持；第1基板保持部移动机构，其使第1基板保持 部移动；第2基板保持部移动机构，其使第2基板保持部移动；以及控 制装置，其控制第1基板保持部移动机构和第2基板保持部移动机构， 以使利用第1基板保持部观察基板表面时基板的位置和利用第2基板保 持部观察基板背面时基板的位置大致一致。在该外观检查装置中，在进行表面检査时，在第1基板保持部保持 基板，驱动第1基板保持部移动机构，使基板移动到检查位置。在进行 背面检查时，在第2基板保持部保持基板，驱动第2基板保持部移动机 构，使基板移动到与表面检査时的检查位置大致相同的位置。在先实施 背面检查时，第1基板保持部移动机构使基板移动到与背面检查时的检 查位置大致相同的位置。根据本专利技术，由于以表面检査时的基板位置和背面检查时的基板位 置大致一致的方式进行控制，所以，在目视检查基板的表面和背面时， 能够减小视线的移动量，能够降低检查者的负担。并且，由于能够利用 一个摄像装置记录基板的检査结果，所以，能够简化装置结构，能够降低成本。附图说明图1是示出外观检查装置的结构的俯视图。图2是图1的箭头A方向的视图，是示出表面检査装置和背面检查 装置的配置的图。图3是利用表面检查装置使基板移动到检查位置并朝向检查者倾斜 的图。图4是图3的箭头B方向的视图。图5是利用背面检查装置使基板移动到检查位置并朝向检查者倾斜 的图。图6是图5的箭头C方向的视图。图7是利用表面检查装置使基板移动到检查位置并朝向反射镜倾斜 的图。图8是利用背面检查装置使基板移动到检查位置并朝向反射镜倾斜 的图。图9是第2实施方式的背面检查装置的俯视图，是使基板朝向检査 者倾斜的图。图IO是背面检查装置的俯视图，是使基板朝向摄像装置倾斜的图。 具体实施例方式参照附图详细说明本专利技术的实施方式。另外，在以下各实施方式中， 对相同结构要素附加同一符号。并且，省略重复的说明。 (第1实施方式)如图1所示，外观检查装置1在装置主体2的背面部设有两个用于 安装晶片载体3的装载口 4。在装置主体2中配置有将晶片即基板W从 晶片载体3搬出的搬送机械手5。搬送机械手5在臂的前端设有从下侧吸 附保持一张基板W的爪5A。在搬送机械手5在初始状态下待机的位置， 设有检测有无基板W的晶片检测传感器6。晶片检测传感器6例如使用光学式的透射型传感器或反射型传感器。在搬送机械手5的前面侧，左右并列配置有宏观检査部11和微观检 査部12，所述宏观检查部11用于通过目视宏观地观察基板W的外观， 所述微观检査部12用于利用显微镜放大观察基板W。宏观检查部11具有旋转式搬送装置21，该旋转式搬送装置21从搬 送机械手5接受基板W并使其移动到预定位置。旋转式搬送装置21具 有铅直向上延伸的旋转轴22，在旋转轴22的前端设有臂部23。臂部23 在周方向上以120°的间隔呈放射状配置，分别以同时升降的方式一体形 成。在各臂部23的前端设有从下侧对基板W的外缘进行吸附保持的支 承部24。旋转式搬送装置21被旋转控制为，使各臂部23循环配置在第 一位置P1、第二位置P2、第三位置P3。第一位置P1是与搬送机械手5 之间进行基板W的交接的位置。第二位置P2是宏观观察基板W来对其 进行检査的位置。第三位置P3是与微观检査部12之间交接基板W的位 置。在第一位置P1、第二位置P2、第三位置P3设有检测在各自的位置 有无基板W或者基板W的位置的传感器25、 26、 27。这些传感器25 27例如使用光学式的透射型传感器和反射型传感器。位于第一位置Pl 的两个传感器25为了进行预校准，在将基板W载置在臂部23上时，搬 送机械手5移动到臂部23的上方的基准位置后，检测距作为基准的基板 中心的偏移量。即，能够通过使两个传感器25的光量的输出值和基板W 的位置偏移的坐标对应起来的表，来检测距作为基准的基板中心的偏移 量。位于第三位置P3的传感器27用于进行精密的校准，用于通过后述 的载物台72的旋转来进行凹口的检测和对位。另外，在第二位置P2配设有表面检查装置31，其控制基板W的 姿态使其摆动和旋转，以便能够使位于前面侧的检查者能够以各种角度 观察、检査基板W的表面；以及背面检查装置32，其进行基板的姿态控 制以使基板W的背面朝向检查者。另外，如图2所示，在第二位置P2的上方设有用于对基板W进行 照明的宏观观察用照明装置61。另外，图2是从观察者侧看到的箭头A 方向的视图。如图1和图2所示，表面检査装置31具有保持基板W的第1基 板保持部41;和将第1基板保持部41支承为升降自如的第1基板保持部移动机构42。第1基板保持部移动机构42具有铅直向上延伸的支柱部 43，在支柱部43上安装有滑动件44，该滑动件44在支柱部43的长度方 向上升降自如。另外，虽然在图中示意性地进行了描绘，但是，作为使 滑本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种外观检查装置，该外观检查装置具有：　　　　第１基板保持部，其以能够观察基板表面的方式对基板进行保持；　　　　第２基板保持部，其以能够观察基板背面的方式对基板进行保持；　　　　第１基板保持部移动机构，其使第１基板保持部移动；　　　　第２基板保持部移动机构，其使第２基板保持部移动；以及　　　　控制装置，其控制第１基板保持部移动机构和第２基板保持部移动机构，以使利用第１基板保持部观察基板的表面时基板的位置和利用第２基板保持部观察基板的背面时基板的位置大致一致。

【技术特征摘要】
JP 2007-5-16 2007-1301961.一种外观检查装置，该外观检查装置具有第1基板保持部，其以能够观察基板表面的方式对基板进行保持；第2基板保持部，其以能够观察基板背面的方式对基板进行保持；第1基板保持部移动机构，其使第1基板保持部移动；第2基板保持部移动机构，其使第2基板保持部移动；以及控制装置，其控制第1基板保持部移动机构和第2基板保持部移动机构，以使利用第1基板保持部观察基板的表面时基板的位置和利用第2基板保持部观察基板的背面时基板的位置大致一致。2. 根据权利要求l所述的外观检査装置，其中，第1基板保持部具有摆动旋转机构，该摆动旋转机构吸附基板的背 面，并且能够使基板旋转和摆动。3. 根据权利要求l所述的外观检查装置，其中，第2基板保持部具有转动机构，该转动机构具有保持基板的周缘部 的爪，使基板与爪一起转动。4. 根据权利要求3所述的外观检査装置，其中， 爪的旋转轴设置在通过基板的大...

【专利技术属性】
技术研发人员：辻治之，
申请(专利权)人：奥林巴斯株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]