本发明专利技术提供一种基板处理装置，能高精度地控制回收的臭氧水的臭氧浓度。基板处理装置具备：臭氧水生成部，使用臭氧气体生成臭氧水；第一浓度计，测量生成的臭氧水的臭氧浓度；基板处理部；回收部，回收臭氧水并向臭氧水生成部供给；以及控制部，控制臭氧水生成部的动作，回收部具备：温度控制部，控制臭氧水的温度；以及第二浓度计，测量臭氧浓度，控制部基于由第二浓度计测量出的臭氧浓度，控制臭氧水生成部中的臭氧气体的供给量。的臭氧气体的供给量。的臭氧气体的供给量。
【技术实现步骤摘要】
基板处理装置以及基板处理方法
[0001]本申请的说明书所公开的技术涉及基板处理装置以及基板处理方法。作为处理对象的基板包括例如半导体晶片、液晶显示装置用玻璃基板、有机EL(electroluminescence：电致发光)显示装置等的平板显示器(flat panel display：FPD)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩膜用玻璃基板、陶瓷基板、场致发射显示器(fieldemissiondisplay，即，FED)用基板或太阳能电池用基板等。
技术介绍
[0002]以往，为了清洗基板的上表面，将在纯水或超纯水中溶解臭氧等的特定的气体而生成的臭氧水作为清洗液使用(例如，参照专利文献1)。
[0003]专利文献1：日本特开2007
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325981号公报
[0004]上述的臭氧水达到规定的臭氧浓度为止的时间较长，为了保持臭氧浓度需要继续生成上述的臭氧水。因此，存在即使在没有进行基板处理的期间也需要继续排出臭氧水，从而臭氧水的消耗量增大的问题。
[0005]因此，能想到回收生成的臭氧水来再利用，由于回收的臭氧水的状态不恒定，因此有时为了再利用该臭氧水而高精度地控制浓度就很困难。
技术实现思路
[0006]本申请的说明书中公开的技术是鉴于如上所述的问题而提出的，是用于高精度地控制回收的臭氧水的臭氧浓度的技术。
[0007]本申请的说明书公开的技术的第一方式与基板处理装置相关联，具备：臭氧水生成部，用于使用臭氧气体生成臭氧水；第一浓度计，用于测量在所述臭氧水生成部中生成的所述臭氧水的臭氧浓度；基板处理部，用于向基板供给所述臭氧水来处理所述基板；回收部，用于回收所述臭氧水并向所述臭氧水生成部供给；以及控制部，用于控制所述臭氧水生成部的动作，所述回收部具备：温度控制部，用于控制回收的所述臭氧水的温度；以及第二浓度计，用于测量回收的所述臭氧水的臭氧浓度，所述控制部基于由所述第二浓度计测量出的所述臭氧水的所述臭氧浓度，控制所述臭氧水生成部中的所述臭氧气体的供给量。
[0008]本申请的说明书公开的技术的第二方式与第一方式相关联，在由所述第二浓度计测量出的所述臭氧水的所述臭氧浓度是阈值以上的情况下，所述控制部在所述臭氧水生成部中不供给所述臭氧气体生成所述臭氧水，在所述臭氧浓度小于阈值的情况下，所述控制部在所述臭氧水生成部中供给所述臭氧气体生成所述臭氧水。
[0009]本申请的说明书公开的技术的第三方式与第一方式或第二方式相关联，所述臭氧水生成部具备：第一路径，设置有用于向所述臭氧水供给所述臭氧气体的臭氧溶解部；以及第二路径，从所述第一路径分支，并且，没有设置所述臭氧溶解部，在由所述第二浓度计测量出的所述臭氧水的所述臭氧浓度是阈值以上的情况下，所述控制部在所述臭氧水生成部中经由所述第二路径生成所述臭氧水，在所述臭氧浓度小于阈值的情况下，所述控制部在
所述臭氧水生成部中经由所述第一路径生成所述臭氧水。
[0010]本申请的说明书公开的技术的第四方式与第一方式至第三方式中的任一个方式相关联，还具备稀释部，用于向所述臭氧水增加纯水稀释所述臭氧水，所述控制部基于由所述第二浓度计测量出的所述臭氧水的所述臭氧浓度，控制所述稀释部的动作。
[0011]本申请的说明书公开的技术的第五方式与第一方式至第四方式中的任一个方式相关联，所述回收部回收在所述基板处理部中用于所述基板处理后的所述臭氧水。
[0012]本申请的说明书公开的技术的第六方式与第一方式至第四方式中的任一个相关联，所述回收部回收在所述基板处理部中用于所述基板处理前的所述臭氧水。
[0013]本申请的说明书公开的技术的第七方式与第一方式至第六方式中的任一个相关联，所述回收部还具备循环路径，所述循环路径用于使回收的所述臭氧水循环，所述控制部选择使回收的所述臭氧水在所述循环路径中循环还是向所述臭氧水生成部供给。
[0014]本申请的说明书公开的技术的第八方式与第一方式至第七方式中的任一个相关联，所述回收部还具备过滤器，所述过滤器用于去除回收的所述臭氧水中的颗粒。
[0015]本申请的说明书公开的技术的第九方式与基板处理方法相关联，在臭氧水生成部中使用臭氧气体生成臭氧水的工序；测量在所述臭氧水生成部中生成的所述臭氧水的臭氧浓度的工序；向基板供给所述臭氧水来处理所述基板的工序；回收所述臭氧水并向所述臭氧水生成部供给的工序；以及控制所述臭氧水生成部的动作的工序，回收所述臭氧水并向所述臭氧水生成部供给的工序具备：控制回收的所述臭氧水的温度的工序；以及测量回收的所述臭氧水的臭氧浓度的工序，控制所述臭氧水生成部的动作的工序是，基于测量出的所述臭氧水的所述臭氧浓度，控制所述臭氧水生成部中的所述臭氧气体的供给量的工序。
[0016]根据本申请的说明书公开的技术的至少第一方式、第九方式，由于回收的臭氧水的温度保持为恒定，因此能够高精度地控制在臭氧水生成部中生成的臭氧水的臭氧浓度。
[0017]此外，通过以下所示的详细说明和附图，使得本申请的说明书所公开的技术的目的、特征、方式、优点等更加清楚。
附图说明
[0018]图1是概略性地表示实施方式的基板处理装置的结构的例子的俯视图。
[0019]图2是概念性地表示图1例示的控制部的结构的例子的图。
[0020]图3是概念性地表示基板处理装置的结构中的、特别是清洗液的供给路径相关的结构的例子的图。
[0021]图4是概念性地表示实施方式相关的基板处理装置中的、处理单元和关联的结构的例子的图。
[0022]其中，附图标记说明如下：
[0023]1：基板处理装置
[0024]12：臭氧水贮留槽
[0025]14：泵
[0026]16、16A：温度控制部
[0027]18、24：过滤器
[0028]20、28、34：浓度计
[0029]22、25、26、27、31、32、36、37、44、46、48、52、54、66A、66B、66C、66D：阀
[0030]30：臭氧水生成部
[0031]33：臭氧溶解部
[0032]35、35A：纯水供给源
[0033]42：臭氧气体供给源
[0034]51A、51B、51C、100、101、102、103、104、105、106、107、108、109：配管
[0035]51D：排液用配管
[0036]60：冲洗液喷嘴
[0037]64：清洗液喷嘴
[0038]80：腔室
[0039]90：控制部
[0040]91：CPU
[0041]92：ROM
[0042]93：RAM
[0043]94：存储装置
[0044]94P：处理程序
[0045]95：总线
[0046]96：输入部
[0047]97：显示部
[0048]98：通信部
[0049]本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其中，具备：臭氧水生成部，用于使用臭氧气体生成臭氧水；第一浓度计，用于测量在所述臭氧水生成部中生成的所述臭氧水的臭氧浓度；基板处理部，用于向基板供给所述臭氧水来处理所述基板；回收部，用于回收所述臭氧水并向所述臭氧水生成部供给；以及控制部，用于控制所述臭氧水生成部的动作，所述回收部具备：温度控制部，用于控制回收的所述臭氧水的温度；以及第二浓度计，用于测量回收的所述臭氧水的臭氧浓度，所述控制部基于由所述第二浓度计测量出的所述臭氧水的所述臭氧浓度，控制所述臭氧水生成部中的所述臭氧气体的供给量。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，在由所述第二浓度计测量出的所述臭氧水的所述臭氧浓度是阈值以上的情况下，所述控制部在所述臭氧水生成部中不供给所述臭氧气体生成所述臭氧水，在所述臭氧浓度小于阈值的情况下，所述控制部在所述臭氧水生成部中供给所述臭氧气体生成所述臭氧水。3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，所述臭氧水生成部具备：第一路径，设置有用于向所述臭氧水供给所述臭氧气体的臭氧溶解部；以及第二路径，从所述第一路径分支，并且，没有设置所述臭氧溶解部，在由所述第二浓度计测量出的所述臭氧水的所述臭氧浓度是阈值以上的情况下，所述控制部在所述臭氧水生成部中经由所述第二路径生成所述臭氧水，在所述臭氧浓度小于阈值的情况下，所述控制部在所述臭氧水生成部中经由所述第一路径生成所述臭氧水。4.根据权利要求1或2所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：平下友美，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
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