显示装置的制造装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示装置的制造装置，包括：坩埚，容纳沉积物质；喷嘴，布置于所述坩埚的一侧，以引导所述沉积物质朝向基板喷射的路径；以及盖，布置于容纳在所述坩埚的所述沉积物质的表面。物质的表面。物质的表面。

【技术实现步骤摘要】
显示装置的制造装置


[0001]本专利技术涉及一种制造装置，更加详细地涉及一种沉积均匀度得到提高的显示装置的制造装置。

技术介绍

[0002]例如，在如有机发光显示装置的薄膜形成的薄膜制造工序中大多利用使沉积物质蒸发而粘贴于基板的表面的沉积工序。即，利用如下的沉积工序：将掩模放置于基板上，并且使沉积物质的蒸汽通过掩模的开口，从而使所期望的图案的薄膜形成于基板上。

技术实现思路

[0003]本专利技术的实施例提供一种沉积均匀度得到提高的显示装置的制造装置。
[0004]根据本专利技术的一观点，提供一种显示装置的制造装置，包括：坩埚，容纳沉积物质；喷嘴，布置于所述坩埚的一侧，以引导所述沉积物质朝向基板喷射的路径；以及盖，布置于容纳在所述坩埚的所述沉积物质的表面。
[0005]本实施例中，所述盖可以直接布置于容纳在所述坩埚的所述沉积物质的表面。
[0006]本实施例中，容纳于所述坩埚的所述沉积物质的表面可以具有第一面积，所述盖可以具有比所述第一面积小的第二面积。
[0007]本实施例中，所述盖可以使容纳于所述坩埚的所述沉积物质的表面的至少一部分暴露。
[0008]本实施例中，所述至少一部分被暴露的所述沉积物质的表面可以是所述沉积物质的表面的总面积的10％至50％。
[0009]本实施例中，容纳于所述坩埚的所述沉积物质可以具有第一比重，所述盖可以具有比所述第一比重小的第二比重。
[0010]本实施例中，容纳于所述坩埚的所述沉积物质可以包括银(Ag)。r/>[0011]本实施例中，所述盖可以包括碳、石墨、热解氮化硼、热解石墨以及莫来石中的至少一个物质。
[0012]本实施例中，所述盖可以配备为圆形形状。
[0013]本实施例中，所述盖可以配备为多边形形状。
[0014]本实施例中，所述盖在与所述喷嘴面对的表面可以形成有凹凸。
[0015]本实施例中，所述坩埚可以配备为圆筒形形状。
[0016]本实施例中，显示装置的制造装置还可以包括：加热器，对容纳于所述坩埚的所述沉积物质加热。
[0017]本实施例中，容纳于所述坩埚的所述沉积物质可以被所述加热器加热而朝向基板喷射。
[0018]根据本专利技术的另一观点，提供一种显示装置的制造装置，包括：掩模，包括开口；坩埚，容纳沉积物质；喷嘴，布置于所述坩埚的一侧，以引导所述沉积物质朝向基板喷射的路
径；以及盖，布置于容纳在所述坩埚的所述沉积物质的表面，其中，容纳于所述坩埚的所述沉积物质通过所述喷嘴而喷射，并且通过所述开口并沉积于所述基板。
[0019]本实施例中，所述盖可以直接布置于容纳在所述坩埚的所述沉积物质的表面。
[0020]本实施例中，容纳于所述坩埚的所述沉积物质的表面可以具有第一面积，所述盖可以具有比所述第一面积小的第二面积。
[0021]本实施例中，容纳于所述坩埚的所述沉积物质可以具有第一比重，所述盖可以具有比所述第一比重小的第二比重。
[0022]本实施例中，容纳于所述坩埚的所述沉积物质可以包括银(Ag)。
[0023]本实施例中，所述盖可以包括碳、石墨、热解氮化硼、热解石墨以及莫来石中的至少一个物质。
[0024]除了前述的记载之外的其他方面、特征、优点可从以下的用于实施专利技术的具体内容、权利要求书以及附图变得明确。
[0025]根据如上所述地构成的本专利技术的一实施例，在容纳于坩埚内的沉积物质的表面布置盖，从而防止发生飞溅(Splash)不良，据此可以实现沉积均匀度得到提高的显示装置的制造装置。当然，本专利技术的范围并不会被这样的效果所限制。
附图说明
[0026]图1是示意性地图示根据一实施例的显示装置的制造装置的剖视图。
[0027]图2是示意性地图示根据一实施例的显示装置的制造装置的部分构成的立体图。
[0028]图3是示意性地图示根据一实施例的显示装置的制造装置的部分构成的立体图。
[0029]图4是示意性地图示根据一实施例的显示装置的制造装置的部分构成的剖视图。
[0030]图5是示意性地图示根据一实施例的显示装置的制造装置的部分构成的平面图。
[0031]图6是示意性地图示根据一实施例的显示装置的制造装置的部分构成的平面图。
[0032]图7是示意性地图示根据一实施例的显示装置的制造装置的部分构成的平面图。
[0033]图8是示意性地图示根据一实施例的显示装置的制造装置的部分构成的剖视图。
[0034]图9是示意性地图示利用根据一实施例的显示装置的制造装置制造的显示装置的立体图。
[0035]图10是示意性地图示利用根据一实施例的显示装置的制造装置制造的显示装置的剖视图。
[0036]附图标记说明：
[0037]1：显示装置
[0038]100：基板
[0039]300：制造装置
[0040]400：沉积源
[0041]410：坩埚
[0042]430：喷嘴
[0043]450：沉积物质
[0044]460：盖
具体实施方式
[0045]本专利技术可以进行多种变换，并且可以具有多种实施例，但是将特定实施例示于附图中并在具体说明中详细地说明。本专利技术的效果和特征以及实现这些的方法若参照与附图一起详细地后述的实施例则将会变得明确。然而，本专利技术可以以多种形态实现，而不限于以下公开的实施例。
[0046]在以下实施例中，第一、第二等术语并不被使用为限定性含义，而是以将一个构成要素与其他构成要素进行区分为目的而使用。
[0047]在以下的实施例中，只要在上下文中没有明确表示其他含义，则单数的表述包括复数的表述。
[0048]在以下的实施例中，“包括”或者“具有”等术语表示说明书中记载的特征或者构成要素的存在，并不预先排除一个以上的其他特征或者构成要素的附加可能性。
[0049]在以下的实施例中，提及膜、区域、构成要素等的部分位于另一部分上或者之上时，不仅包括位于另一部分的紧邻的上方的情形，还包括在其中间夹设有其他膜、区域、构成要素等的情形。
[0050]在附图中，为了便于说明，构成要素的大小可能被夸大或者缩小。例如，为了便于说明，在附图中示出的各个构成的大小以及厚度被任意地示出，因此本专利技术并不一定限于图示的内容。
[0051]在本说明书中，“A和/或B”表示A或者B或者A和B的情形。并且，在本说明书中，“A以及B中的至少一个”表示A或者B或者A和B的情形。
[0052]以下实施例中，配线“沿第一方向或者第二方向延伸”的含义不仅包括以直线形状延伸的情形，而且还包括沿第一方向或者第二方向以之字形或者曲线延伸的情形。
[0053]以下实施例中，当提及“平面上”时，这表示从上方观察对象部分时的情形，当提及“剖面上”时，这表示从侧方观察将对象部分沿垂直截取而得到的剖面的情形。以下实施例中，当提及“重叠”时，这包括“本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示装置的制造装置，包括：坩埚，容纳沉积物质；喷嘴，布置于所述坩埚的一侧，以引导所述沉积物质朝向基板喷射的路径；以及盖，布置于容纳在所述坩埚的所述沉积物质的表面。2.如权利要求1所述的显示装置的制造装置，其中，所述盖直接布置于容纳在所述坩埚的所述沉积物质的表面。3.如权利要求1所述的显示装置的制造装置，其中，容纳于所述坩埚的所述沉积物质的表面具有第一面积，所述盖具有比所述第一面积小的第二面积。4.如权利要求3所述的显示装置的制造装置，其中，所述盖使容纳于所述坩埚的所述沉积物质的表面的至少一部分暴露。5.如权利要求4所述的显示装置的制造装置，其中，所述至少一部分被暴露的所述沉积物质的表面是所述沉积物质的表面的总面积的10％至50％。6.如权利要求1所述的显示装置的制造装置，其中，容纳于所述坩埚的所述沉积物质具有第一比重，所述盖具有比所述第一比重小的第二比重。7.如权利要求1所述的显示装置的制造装置，其中，容纳于所述坩埚的所述沉积物质包括银。8.如权利要求1所述的显示装置的制造装置，其中，所述盖包括碳、石墨、热解氮化硼、热解石墨以及莫来石中的至少一个物质。9.如权利要求1所述的显示装置的制造装置，其中，所述盖配备为圆形形状。10.如权利要求1所述的显示装置的制造装置，其中，所述盖配备为多边形形状。11.如权利要求1所述的显示装置的制造装置，其中，所述盖在与所述喷嘴面对...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑真洙，车敏彻，金智慧，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：