光学成像镜头制造技术

本实用新型专利技术提供了一种光学成像镜头。光学成像镜头，包括：镜筒；透镜，透镜为多个，多个透镜间隔设置在镜筒内；基底层，基底层设置在至少一个透镜的一侧表面上；过渡层，过渡层与基底层远离基底层的一侧表面连接；氟化镁膜层，氟化镁膜层与过渡层远离基底层的一侧表面连接；第二膜层，第二膜层与氟化镁膜层远离过渡层的一侧表面连接，光学成像镜头对波长在420nm至750nm的范围内的光的最大反射率小于0.3％。本实用新型专利技术解决了现有技术中氟化镁膜层存在粘结不牢固的问题。层存在粘结不牢固的问题。层存在粘结不牢固的问题。

【技术实现步骤摘要】
光学成像镜头


[0001]本技术涉及光学元件镀膜设备
，具体而言，涉及一种光学成像镜头。

技术介绍

[0002]随着手机镜头技术的发展，人们对镜片的光学性能要求也越来也高。目前手机镜片都是镀制减反膜系，膜系结构为TiO2和SiO2交替，这种膜系达成的反射率已逐渐无法满足人们对手机镜头的要求，而且在PVD镀膜设备中镀膜，对于具有一定曲率的镜片，其镜片边缘与中心区域的反射率存在差异，边缘反射率会进一步提高，从而导致镜头产生许多不良的鬼影。因此，进一步降低镜片反射率十分必要。
[0003]MgF2是光学薄膜领域内常用的低折射率材料，折射率低于SiO2，使用此材料镀制的减反膜反射率会进一步降低。但是在树脂镜片上，使用传统工艺镀制的MgF2膜层会出现膜层信赖性低下或者膜层不牢固的问题。所以，通过膜系设计及工艺设计提高含MgF2膜层的信赖性问题具有较强的应用价值。
[0004]也就是说，现有技术中氟化镁膜层存在粘结不牢固的问题。

技术实现思路

[0005]本技术的主要目的在于提供一种光学成像镜头，以解决现有技术中氟化镁膜层存在粘结不牢固的问题。
[0006]为了实现上述目的，本技术提供了一种光学成像镜头，包括：镜筒；透镜，透镜为多个，多个透镜间隔设置在镜筒内；基底层，基底层设置在至少一个透镜的一侧表面上；过渡层，过渡层与基底层远离透镜的一侧表面连接；氟化镁膜层，氟化镁膜层与过渡层远离基底层的一侧表面连接；第二膜层，第二膜层与氟化镁膜层远离过渡层的一侧表面连接，光学成像镜头对波长在420nm至750nm的范围内的光的最大反射率小于0.3％。
[0007]进一步地，过渡层包括：多个第一膜层；多个第二膜层，第一膜层的折射率大于第二膜层的折射率，多个第一膜层和多个第二膜层交替叠置。
[0008]进一步地，第一膜层的折射率大于2.3。
[0009]进一步地，第二膜层的折射率小于1.7。
[0010]进一步地，第一膜层的材料为Ti的氧化物。
[0011]进一步地，第二膜层的材料包括SiO2、SiO2与Al2O3的混合物。
[0012]进一步地，基底层材料包括EP、APEL、K26R中的至少一种。
[0013]进一步地，基底层的折射率大于等于1.5且小于等于1.8。
[0014]进一步地，过渡层为五层时，从基底层的一侧开始为第一个第一膜层、第一个第二膜层、第二个第一膜层、第二个第二膜层、第三个第一膜层形成过渡层，且第一个第一膜层、第一个第二膜层、第二个第一膜层、第二个第二膜层、第三个第一膜层、氟化镁膜层和第三个第二膜层的厚度的比值为10:30:50:10:30:90:15。
[0015]进一步地，过渡层为七层时，从基底层的一侧开始为第一个第一膜层、第一个第二
膜层、第二个第一膜层、第二个第二膜层、第三个第一膜层、第三个第二膜层、第四个第一膜层形成过渡层，且第一个第一膜层、第一个第二膜层、第二个第一膜层、第二个第二膜层、第三个第一膜层、第三个第二膜层，第四个第一膜层、氟化镁膜层和第四个第二膜层的厚度的比值为10:50:20:20:100:10:30:90:15。
[0016]进一步地，光学成像镜头对波长在850nm至1000nm的范围内的光的波长的最大反射率小于等于1％。
[0017]进一步地，光学成像镜头对波长在420nm至500nm的范围内的光的最小透过率大于等于93％。
[0018]进一步地，光学成像镜头对波长在500nm至850nm的范围内的光的最小透过率大于等于97％。
[0019]进一步地，光学成像镜头对波长在450nm至850nm的范围内的光的平均透过率大于等于98％。
[0020]应用本技术的技术方案，光学成像镜头包括镜筒、透镜、基底层、过渡层、氟化镁膜层、第二膜层，透镜为多个，多个透镜间隔设置在镜筒内；基底层设置在至少一个透镜的一侧表面上；过渡层与基底层远离透镜的一侧表面连接；氟化镁膜层与过渡层远离基底层的一侧表面连接；第二膜层与氟化镁膜层远离过渡层的一侧表面连接，光学成像镜头对波长在420nm至750nm的范围内的光的最大反射率小于0.3％。
[0021]通过在透镜上设置氟化镁膜层，氟化镁膜层的反射率更低，大大降低了透镜的反射率。同时在基底层与氟化镁膜层之间设置过渡层，能够在进一步降低透镜的反射率，增加透镜对光线的透过率。而在氟化镁膜层的外侧设置一层第二膜层能够增加光线的透过率的同时还增加了氟化镁膜层与过渡层之间的连接紧密度，使得氟化镁膜层不易与过渡层脱离，大大增加了氟化镁膜层的与过渡层之间的连接紧密度，增加了减反膜系的牢固强度，大大增加了透镜系的信赖性。光学成像镜头对波长在420nm至750nm的范围内的光能够达到极小的反射，大大降低了光线的反射率，保证了光学成像镜头的成像质量。
附图说明
[0022]构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0023]图1示出了根据本技术的实施例一的减反膜系的结构示意图；以及
[0024]图2示出了图1中的减反膜系在可见光的波段内的反射率示意图；
[0025]图3示出了图1中的减反膜系的透过率示意图；
[0026]图4示出了本技术的实施例二的减反膜系的结构示意图；
[0027]图5示出了图2中的减反膜系在可见光及近红外光的波段内的反射率示意图；
[0028]图6示出了图2中的减反膜系的透过率示意图。
[0029]其中，上述附图包括以下附图标记：
[0030]10、基底层；20、第一膜层；30、第二膜层；40、氟化镁膜层。
具体实施方式
[0031]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。
[0032]需要指出的是，除非另有指明，本申请使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属
的普通技术人员通常理解的相同含义。
[0033]在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、顶、底”通常是针对附图所示的方向而言的，或者是针对部件本身在竖直、垂直或重力方向上而言的；同样地，为便于理解和描述，“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外，但上述方位词并不用于限制本技术。
[0034]为了解决现有技术中氟化镁膜层存在粘结不牢固的问题，本技术提供了一种光学成像镜头。
[0035]如图1至图6所示，光学成像镜头包括镜筒、透镜、基底层10、过渡层、氟化镁膜层40、第二膜层30，透镜为多个，多个透镜间隔设置在镜筒内；基底层10设置在至少一个透镜的一侧表面上；过渡层与基底层10远离透镜的一侧表面连接；氟化镁膜层40与过渡层远离基底层10的一侧表面连接；第二膜层30与氟化镁膜层40远离过本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学成像镜头，其特征在于，包括：镜筒；透镜，所述透镜为多个，多个所述透镜间隔设置在所述镜筒内；基底层(10)，所述基底层(10)设置在至少一个所述透镜的一侧表面上；过渡层，所述过渡层与所述基底层(10)远离所述透镜的一侧表面连接；氟化镁膜层(40)，所述氟化镁膜层(40)与所述过渡层远离所述基底层(10)的一侧表面连接；第二膜层(30)，所述第二膜层(30)与所述氟化镁膜层(40)远离所述过渡层的一侧表面连接，所述光学成像镜头对波长在420nm至750nm的范围内的光的最大反射率小于0.3％。2.根据权利要求1所述的光学成像镜头，其特征在于，所述过渡层包括：多个第一膜层(20)；多个所述第二膜层(30)，所述第一膜层(20)的折射率大于所述第二膜层(30)的折射率，多个所述第一膜层(20)和多个所述第二膜层交替叠置。3.根据权利要求2所述的光学成像镜头，其特征在于，所述第一膜层(20)的折射率大于2.3。4.根据权利要求1所述的光学成像镜头，其特征在于，所述第二膜层(30)的折射率小于1.7。5.根据权利要求2所述的光学成像镜头，其特征在于，所述第一膜层(20)的材料为Ti的氧化物。6.根据权利要求1所述的光学成像镜头，其特征在于，所述第二膜层(30)的材料包括SiO2。7.根据权利要求1至6中任一项所述的光学成像镜头，其特征在于，所述基底层(10)的材料包括EP、APEL、K26R中的一种。8.根据权利要求1至6中任一项所述的光学成像镜头，其特征在于，所述基底层(10)的折射率大于等于1.5且小于等于1.8。9.根据权利要求2所述的光学成像镜头，其特征在于，所述过渡层为五层时，从所述基底层(10)的一侧开始为第一个所述第一膜层(20)、第一个所述第二膜层(30)、第二个所述第一膜层(20)、第二个所述第二膜层(30)、第三...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒯泽文，张礼勋，董畅，袁银潮，阮高梁，
申请(专利权)人：浙江舜宇光学有限公司，
类型：新型
国别省市：