【技术实现步骤摘要】
一种提高药液均匀性的槽式清洗机
[0001]本技术涉及一种槽式清洗机，尤其涉及一种提高药液均匀性的槽式清洗机。
技术介绍
[0002]槽式清洗机主要用于光伏、半导体湿制成设备中，负责完成对硅片的清洗工作，对于槽式清洗机来说，药液的均匀性直接影响整个清洗和化学反应的效果。
[0003]过去普遍采用的槽体结构有两种：第一种是单一主槽式结构没有副槽，循环过程为泵从主槽内抽液然后再送入槽内，这种方式药液均匀性较差，尤其目前大产能大尺寸硅片下，槽体体积变的很大很容易产生循环不彻底药液不均匀；第二种是主副槽分离式结构，上面是主槽，下方是独立的副槽，泵将副槽的药液打入主槽，主槽药液漫出溢流到副槽，形成一个完整的循环，这种结构副槽占用下方较大空间，后续不利于机台的保养维护。
[0004]为了解决上述结构存在的问题，目前通常采用的槽体结构是副槽包围在主槽的外部，内部主槽高度略低于外部副槽，保证液体不会从外部副槽溢出，循环过程通过泵进行控制，泵从副槽抽液通过管路送入主槽内，主槽液体从四周溢流到副槽形成一个完整的液体循环。这种结构...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种提高药液均匀性的槽式清洗机，包括主槽和副槽，所述主槽位于副槽的内部，所述主槽的顶部低于所述副槽的顶部，所述副槽外部设置有泵，所述泵通过集液管与副槽连接，所述泵通过送液管与主槽连接，其特征在于：所述主槽内部的底部设置有若干匀流管，所述匀流管与所述送液管连通；所述主槽内部的底部设置有若干鼓泡管，所述鼓泡管与设置在副槽外部的氮气罐连接。2.根据权利要求1所述的一种提高药液均匀性的槽式清洗机，其特征在于：所述主槽内部在所述匀流管和鼓泡管的上方设置有匀流板。3.根据权利要求1所述的一种提高药液均匀性的槽式清洗机，其特征在于：所述副槽内部在所述主槽的外围设置有过滤板，所述过滤板上均布有孔洞。4.根据权利要求1所述的一种提高药液均匀性的槽式清洗机，其特征在于：所述副槽的上端设置有开合式槽盖。5.根据权利要求1所述的一种...
【专利技术属性】
技术研发人员：陶俊，翟连方，张三洋，
申请(专利权)人：无锡琨圣智能装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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