用于PDP电极的正型光敏糊组合物,由其制备的PDP电极以及包含该PDP电极的PDP制造技术

技术编号:3153067 阅读:153 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
提供一种用于等离子显示板(PDP)电极的正型光敏糊组合物,其包括导电粉末、无机粘结剂和光敏载体。正型载体包括式(1)表示的有机粘结剂、感光酸发生剂、溶剂及其他添加剂:其中R↓[1]为H或CH↓[3];R↓[2]为饱和或不饱和的C↓[1]-C↓[6]烷基或含有醚基、羰基或酯基的C↓[1]-C↓[6]基;R↓[3]为具有羟基的基团;R↓[4]为氢或具有羧基的基团;以及R↓[5]为保护基。其他实施例提供了一种由上述糊制备的薄膜;以及由上述糊制备的PDP电极和具有一个或多个这样电极的PDP。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于等离子显示板(PDP)电极的正型光敏糊组合物,特别是,涉及一种几乎不引起卷边并能获得高分辨率微图像的正型光敏糊组合物。
技术介绍
通常,使用具有导电成分的光敏糊通过光刻形成等离子显示板(PDP)电极。附图1示出了利用常规光敏糊通过光刻形成电极的工序。在这些工序中,将光敏糊2施加在基板1的表面上并被印制,随后干燥而形成干燥膜3。利用配有光掩模4的UV曝光装置曝光干燥膜3。随后,显影被光掩模4遮挡的未固化的部分并用显影溶液将其移除。热处理所遗留下的固化膜5至预定温度以形成有图案的电极6。附图2示出了显影后常规负型光敏糊图案的截面图。参照附图2,有图案的固化膜具有倒梯形的截面(称作“下切”),其中在显影工序之后底部被过度显影。附图2中示出了曝光区域(a)和未曝光区域(b)。由于干糊膜几乎由反射和散射光的导电材料制成,到达干膜顶部和下部的光在曝光(a)部分过程中产生光量差,进而产生下切。因此,尽管下切尺寸根据糊的类型变化,但在曝光区域中都会产生下切。所形成的下切是热处理之后出现卷边(电极的边缘部分卷起),产生残渣(热处理薄膜附近部分不干净),不好的图案直线轨迹,以及对沙磨的抵抗力弱的主要因素。这些问题反过来影响电极的重要特性,即耐压、电阻、沙磨的抵抗力等。因此,尽管已经提出了最小化下切的各种方法,但是没有防止出现下切的方法。
技术实现思路
本专利技术提供一种用于等离子显示板(PDP)电极的正型光敏糊组合物,该组合物不会引起下切,由该组合物制备的PDP电极以及使用一个或多个该PDP电极的PDP。根据本专利技术的一个方面,提供一种用于PDP电极的正型光敏糊,其包括导电粉末、无机粘结剂以及光敏载体。根据本专利技术的另一方面,提供一种利用用于PDP电极的正型光敏糊制备的PDP电极。根据本专利技术的另一方面,提供一种使用一个或多个PDP电极的PDP。附图说明 通过结合附图详细描述示例性实施例,使得本专利技术的上述和其他特征及优势变得更加清楚,其中 附图1示出了利用常规光敏糊通过光刻形成电极的工序; 附图2为显影后常规负型光敏糊图案的截面图; 附图3示出了利用本专利技术的正型光敏糊通过光刻形成电极的工序; 附图4为在显影之后本专利技术的正型光敏糊图案的截面图;和 附图5包括据本专利技术制备的PDP电极的等离子显示板(PDP)的部分分解透视图。具体实施例方式参照附图更充分地说明本专利技术,在所述附图中示出了本专利技术的示例性实施例。附图3示出了利用本专利技术的正型光敏糊通过光刻形成电极的工序。参照附图3,相对于形成电极的常规工序,利用正型光敏糊形成电极的工序进一步包括热处理工序。将正型糊12施加在基板11的表面并被印制,且随后被干燥以形成干燥膜13。利用配有光掩模14的UV曝光装置曝光干燥膜13,并随后进行热处理。由于热处理,曝光区域中产生的强酸成分被去保护从而使得曝光区域被碱水溶液显影。残留的固化薄膜15被热处理至预定温度以形成有图案电极16。根据本专利技术的用于等离子显示板(PDP)的正型光敏糊可形成梯形图案而不是倒梯形,如附图4所示,显影并移除暴露于紫外射线等的部分。也就是说,电极具有与基板相接触的下部分面积比未与基板相接触的上部分面积大的梯形。本专利技术提供一种用于PDP电极的正型光敏糊组合物,其包括导电粉末、无机粘结剂以及光敏载体。光敏载体包括有机粘结剂、感光酸发生剂、溶剂和其他添加剂。以100重量份导电粉末为基准计,光敏载体量优选从20至100重量份。当光敏载体量小于20重量份时,糊体的适印性差并降低曝光灵敏度。当光敏载体量大于100重量份时,相对降低了导电粉末量,并进而将导电膜的线宽缩短至不能承受的程度最终导致短路。有机粘结剂为包含式(1)所示重复单元的共聚体 其中R1为H或CH3;R2为饱和或不饱和的C1-C6烷基或含有醚基、羰基或酯基的C1-C6基团,优选为饱和的C1-C6烷基;R3为具有羟基的基团,优选为C1-C6羟烷基;R4为氢或具有羧基的基团,优选为C1-C6羧烷基;R5为羧基保护基。单体(A)的示例为丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正己酯、丙烯酸环己酯等,或这些化合物之一相应的甲基丙烯酸酯。单体(B)的示例为丙烯酸羟甲基酯、丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸3-羟基丙酯、丙烯酸2-羟基丁酯、丙烯酸3-羟基丁酯、丙烯酸4-羟基丁酯、丙烯酸2-羟基乙氧基乙酯等,或这些化合物中之一相应的甲基丙烯酸酯。单体(C)的示例为丙烯酸、丙烯酸1-羧基甲酯、丙烯酸2-羧基乙酯、丙烯酸3-羧基丙酯等,或这些化合物中之一相应的甲基丙烯酸酯。单体(D)的示例为丙烯酸叔丁酯、丙烯酸四氢呋喃酯、丙烯酸1-乙氧基-1-甲基甲酯等,或这些组合物中之一相应的甲基丙烯酸酯。a、b、c、d分别为式(2)所示的(A)、(B)、(C)和(D)单体的摩尔百分比(%),a为10至60,b为0至30,c为0至10,d为10至60,并且a+b+c+d=100。适当的羧基保护基为叔丁基、四氢呋喃基或1-乙氧基1-甲基乙基。通过聚合式(2)所示的(A)、(B)、(C)和(D)单体形成式(1)表示的共聚体。通过在有机溶剂中溶解甲酰式(2)表示的单体以及自由基聚合引发剂,如2,2-偶氮二异丁腈,过氧化苯甲酰,和叔丁基过氧化物,并将该溶液加热至适当的温度以实现自由基聚合反应制备式(1)表示的共聚物。式(1)的共聚体具有大约5000至50000g/mol的分子重量。当共聚体的分子重量小于5000g/mol时,糊的适印性较差。当共聚体的分子重量大于50000g/mol时,显影没有完全移除未曝光区域,并因此使得热处理后的直线路径较差并会产生不期望的残渣。式(1)表示的共聚体可用作单独的有机粘结剂或与下面组中选出的至少一种材料相接合以提高薄膜流平性或触变性,所述组包括甲基纤维素、乙基纤维素、硝基纤维素、羟甲基纤维素、羟乙基纤维素、羟丙基纤维素、羧甲基纤维素、羧乙基纤维素和羧乙基甲基纤维素。光敏载体也包括至少一种感光酸发生剂,至少一种溶剂和一种或多种其他添加剂。感光酸发生剂是一种根据辐射方法能够产生强酸的组合物,所述辐射方法包括紫外射线、X-射线和电子束辐射,并且该化合物的示例包括六氟磷酸二苯基碘鎓、六氟砷酸二苯基碘鎓、六氟锑酸二苯基碘鎓、二苯基对甲氧基苯基三氟甲磺酸酯、二苯基对乙基甲苯基三氟甲磺酯、二苯基对异丁基苯基三氟甲磺酸酯、二苯基对叔丁基苯基三氟甲磺酸酯、六氟磷酸三苯基锍、六氟砷酸三苯基锍、六氟锑酸三苯基锍、三氟甲基磺酸三苯基锍和三氟甲磺酸二丁萘基锍。以100重量份有机粘结剂为基准计,感光酸发生剂的量优选为大约0.1至20重量份。当感光酸发生剂的量少于0.1重量份时,不适当地显影曝光区域。当感光酸发生剂的量大于20重量份时,由于感光酸发生剂吸收辐射射线而降低了曝光敏感度。溶剂可以是能够溶解有机粘结剂和引发剂的一种溶剂,并与交联剂和其他添加剂兼容,且具有大约150℃的沸点或更高。当沸点低于150℃时,溶剂在制备组合物的过程中,尤其是在3-辊轧工序过程中易挥发,并且打印状态由于溶剂在打印时的快速挥发而变差。溶剂的示例包括但不限于乙基卡里托耳TM(二甘醇乙醚)(Dow Chemical 本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于等离子显示板(PDP)电极的正型光敏糊组合物,其包括导电粉末、无机粘结剂和光敏载体。

【技术特征摘要】
KR 2004-10-6 10-2004-00794871.用于等离子显示板(PDP)电极的正型光敏糊组合物,其包括导电粉末、无机粘结剂和光敏载体。2.如权利要求1所述的用于PDP电极的正型光敏糊组合物,其中光敏载体包括有机粘结剂、感光酸发生剂、溶剂和一种或多种添加剂。3.如权利要求2所述的用于PDP电极的正型光敏糊组合物,其中有机粘结剂包含含有式(1)所示重复单元的共聚体 其中R1为H或CH3,R2为饱和或不饱和的C1-C6烷基或含有醚基、羰基或酯基的C1-C6基团,R3为具有羟基的基团,R4为氢或具有羧基的基团,优选C1-C6的羧基烷基基团,R5为羧基保护基,以及a、b、c、d分别为每种单体的摩尔百分比(%),a为10至60,b为0至30,c为0至10,d为10至60,并且a+b+c+d=100。4.如权利要求3所述的用于PDP电极的正型光敏糊组合物,其中在式(1)中,R2为取代的或未取代的C1-C6烷基,R3为C1-C6羟烷基,R4为C1-C6羧烷基,而R5为叔丁基、四氢呋喃基或1-乙氧基1-甲基乙基。5.如权利要求2所述的用于PDP电极的正型光敏糊组合物,其中以100重量份导电粉末为基准计,光敏载体的含量为约20至100重量份。6.如权利要求2所述的用于PDP电极的正型光敏糊组合物,其中感光酸发生剂选自以下组中的至少一种,所述组包括六氟磷酸二苯基碘鎓、六氟砷酸二苯基碘鎓、六氟锑酸二苯基碘鎓、二苯基对甲氧基苯基三氟甲磺酸酯、二苯基对乙基甲苯基三氟甲磺酯、二苯基对异丁基苯基三氟甲磺酸酯、二苯基对叔丁基苯基三氟甲磺酸酯、六氟磷酸三苯基锍、六氟砷酸三苯基锍、六氟锑酸三苯基锍、三氟甲磺酸三苯基锍和三氟甲磺酸二丁基萘基锍。7.如权利要求2所述的用于PDP电极的正型光敏糊组合物,其中以100重量份有机粘结剂为基准计,感光酸发生剂的量为约0.1至20重量份。8.如权利要求2所述的用于PDP电极的正型光敏糊组合物,其中溶剂选自以下组中的至少一种,所述组包括乙基二甘醇乙醚、丁基二甘醇乙醚、乙基二甘醇乙醚乙酸酯、丁基二甘醇乙醚乙酸酯、2,2,4-三甲基-1,3或二醇单异丁酸酯丙酸,2-甲基-,单酯与2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇异丁酸酯以及2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇的组合、萜烯油、二丙二醇甲基醚、二丙二醇乙基醚、二丙二醇-甲醚乙酸酯,γ-丁内酯、2-乙氧基乙醇乙酸酯、丁基2-乙氧基乙醇乙酸酯和三聚丙二醇。9.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员:李范旭韩东熙申尚煜全震焕
申请(专利权)人:三星SDI株式会社
类型:发明
国别省市:KR[韩国]

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