电子发射显示器制造技术

本发明专利技术涉及一种电子发射显示器及其制造方法。所述电子发射显示器包括：电子发射基板，包括至少一个电子发射装置；和图像形成基板，包括至少一个发射区和至少一个非发射区。通过从电子发射装置发射的电子与发射区的碰撞从而在发射区中形成图像。图像形成基板还包括设置在发射区上的金属层和设置在至少一个非发射区上的至少一个电子收集器。电子收集器可以包括第一和第二端，其中将第一端贴附到图像形成基板且第二端面对电子发射基板。电子收集器温度了金属层和荧光层，由此通过将散射的电子重新引导向荧光层从而减少了电弧且保持了均匀的亮度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种电子发射显示器，且更具体而言，涉及一种电子发射显示器，其包括至少一个设置于电子反射显示器的图像形成基板的非发射区中的电子收集器。为了在像素中均匀地产生光，电子收集器散射入射电子。电子收集器还稳定了图像形成基板上的金属层和荧光层之间的结构。
技术介绍
一般地，电子发射显示器或者采用热阴极或冷阴极作为电子源。使用冷阴极的电子发射显示器可以被分为场发射体阵列(FEA)型、表面导电发射体(SCE)型、金属绝缘体金属(MIM)型、金属绝缘体半导体(MIS)型、弹道电子表面发射(BSE)型等。电子发射装置用于形成电子发射显示器、各种背光、用于光刻的电子束设备等。通常的电子发射显示器包括电子发射基板或第一基板以及图像形成基板或第二基板。电子发射基板包括多个电子发射装置和用于控制电子发射的控制电极。图像形成基板包括荧光层，发射的电子与荧光层碰撞，由此发射光。图像形成基板还包括电连接到荧光层的电极。为了改善电子发射显示器的亮度，反射金属层设置于荧光层上。在通过电子与荧光层碰撞从而电子被反射向电子发射基板之后，金属层将发射的电子引导到图像形成基板且将电子吸引到荧光层。而且，金属层防止剩余的电子与荧光层碰撞。因此，金属层可以增加荧光层的寿命且可以防止电子发射基板和图像形成基板之间的电弧。在韩国专利公开No.2001-75972中公开了制造电子发射显示器的这样的金属层的示范性方法。现将结合附图描述根据现有技术的制造金属层的方法。图1A到1E是根据现有技术的图像形成基板的横截面图。图1A到1E示出了用于制造电子发射显示器的金属层的现有技术工艺中的各个步骤。如图1A所示，通过首先制备顶层110制造金属层。然后在顶层110上形成阳极120，且在阳极120上形成荧光层130。一般地，荧光层130形成为矩阵或条纹图案。如图1B所示，在阳极120上的荧光层130之间的空间中形成光屏蔽层140。如图1C所示，然后通过将丙烯乳液或漆溶液施加到荧光层130并干燥溶液，从而在荧光层130上形成中间层150。然后在阳极120上形成金属层160，覆盖中间层150，如图1D所示。中间层150防止金属层160的不规则沉积，当在荧光层130的粗糙表面上直接沉积金属层160时不规则沉积可能发生。通过防止荧光层130上的金属层160的不均匀沉积，中间层150改善了荧光层130的反射效率。通常，中间层150每层具有约10μm的厚度，且在金属层160的沉积之后去除中间层150。因此，在荧光层130和金属层160之间形成空间，如图1E所示。但是，当中间层包括丙稀组分，难于在去除中间层之后调整荧光层和金属层之间产生的空间。而且，当施加高外部电压时，在荧光层和金属层之间的这些空间可以在金属层上导致电弧。
技术实现思路
在本专利技术的一个实施例中，电子发射显示器包括设置于电子发射显示器的图像形成基板的非发射区上的电子收集器。电子收集器保护荧光层免受电弧的影响。在本专利技术的另一个实施例中，电子发射显示器包括电子收集器，所述电子收集器从图像形成基板的表面延伸向电子发射显示器的电子发射基板。电子收集器可以包括第一端和第二端，其中第一端贴附到图像形成基板且第二端面对电子发射基板。在一个实施例中，电子收集器的第二端的宽度大于第一端的宽度。电子收集器收集从电子发射基板发射的电子且将它们引导到荧光层。电子收集器还收集通过荧光层散射的不规则发射的电子。根据该实施例的电子发射显示器呈现了改善的发光效率。在本专利技术的一个示范性实施例中，电子发射显示器包括电子发射基板，包括至少一个电子发射装置；和图像形成基板，面对电子发射基板且包括至少一个发射区和至少一个非发射区。通过从电子发射装置发射的电子与图像形成基板的发射区的碰撞从而形成图像。至少在第二基板的发射区上设置金属层。在所述至少一个非发射区上设置至少一个电子收集器。电子收集器向电子发射基板延伸了预定距离。电子收集器可以包括第一端和第二端，其中将第一端贴附到图像形成基板且第二端面对电子发射基板。在一个实施例中，电子收集器的第二端的宽度大于第一端的宽度。电子收集器可以包括任何适当的材料，比如金属，且可以包括与金属层相同的材料。在本专利技术的另一示范性实施例中，电子发射显示器包括第一基板或电子发射基板，包括至少一个电子发射装置；第二基板或图像形成基板，面对第一基板且包括至少一个发射区和至少一个非发射区。通过从电子发射装置发射的电子与第二基板的发射区的碰撞从而形成图像。图像形成基板可以还包括在荧光层之间的至少一个光屏蔽层。至少在第二基板的发射区上设置金属层。在第二基板上沉积电子收集器，所述电子收集器包括具有至少一个开口的金属片，所述开口在位置上相应于发射区的位置。金属片可以具有预定的厚度，且开口可以成斜角使得面对电子发射基板的开口的第一区大于面对图像形成基板的开口的第二区。金属片可以为单一或多层片。另外，可以在图像形成基板的整个表面上形成金属层，且可以在金属层上形成电子收集器。电子收集器和金属层可以由相同的电源激励。在一个实施例中，电子收集器从图像形成基板向电子发射基板延伸约5到约200μm的预定的距离。电子收集器可以包括反射金属，且金属层可以包括铝。可以通过比如玻璃料的粘结剂从而将电子收集器贴附到金属层。附图说明当结合附图考虑时，通过参考以下的详细附图，本专利技术的以上和其他特征和优点将变得更加显见，在附图中图1A是根据现有技术的电子发射装置的图像形成基板的代表部分的横截面图，示出用于沉积金属层的现有技术工艺中的第一步骤；图1B是图1A的电子发射装置的图像形成基板的代表部分的横截面图，示出用于沉积金属层的现有技术工艺中的第二步骤；图1C是图1B的电子发射装置的图像形成基板的代表部分的横截面图，示出用于沉积金属层的现有技术工艺中的第三步骤； 图1D是图1C的电子发射装置的图像形成基板的代表部分的横截面图，示出用于沉积金属层的现有技术工艺中的第四步骤；图1E是图1D的电子发射装置的图像形成基板的代表部分的横截面图，示出用于沉积金属层的现有技术工艺中的第五步骤；图2是根据本专利技术的一个实施例的电子发射显示器的横截面图；图3A是图2的电子发射装置的图像形成基板的代表部分的横截面图，示出根据本专利技术的一实施例的制造图像形成基板的工艺中的第一步骤；图3B是图3A的图像形成基板的代表部分的横截面图，示出制造图像形成基板的工艺中的第二步骤；图3C是图3B的图像形成基板的代表部分的横截面图，示出制造图像形成基板的工艺中的第三步骤；图3D是图3C的图像形成基板的代表部分的横截面图，示出制造图像形成基板的工艺中的第四步骤；图3E是图3D的图像形成基板的代表部分的横截面图，示出制造图像形成基板的工艺中的第五步骤；图3F是图3E的图像形成基板的代表部分的横截面图，示出制造图像形成基板的工艺中的第六步骤；图3G是图3F的图像形成基板的代表部分的横截面图，示出制造图像形成基板的工艺中的第七步骤；图4是图2的图像形成基板的区域A的放大横截面图；图5是根据本专利技术的可替换实施例的图像形成基板的代表部分的示意性透视图；图6是图5的图像形成基板的侧横截面图，沿线6-6截取；图7是根据本专利技术的又一实施例的电子发射显示器的图像形成基板的侧横截面图；图8A是根据现有技术的电子发射显本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子发射显示器，包括：电子发射基板，包括至少一个电子发射装置；和图像形成基板，包括：至少一个荧光层；金属层，设置于所述至少一个荧光层上方；和至少一个电子收集器，设置于所述金属层上，在所述图像形成基板的没有设置荧光层的至少一个区域中。

【技术特征摘要】
KR 2004-11-29 98908/041.一种电子发射显示器，包括电子发射基板，包括至少一个电子发射装置；和图像形成基板，包括至少一个荧光层；金属层，设置于所述至少一个荧光层上方；和至少一个电子收集器，设置于所述金属层上，在所述图像形成基板的没有设置荧光层的至少一个区域中。2.根据权利要求1所述的电子发射显示器，其中，所述电子收集器包括第一端和第二端，其中，将所述第一端贴附到所述图像形成基板的金属层，且所述第二端面对所述电子发射基板，所述第二端向所述电子发射基板延伸预定距离。3.根据权利要求1所述的电子发射显示器，其中，所述电子收集器包括片，所述片包括在位置上相应于荧光层的位置的至少一个开口。4.根据权利要求3所述的电子发射显示器，其中，所述电子收集器包括多层片。5.根据权利要求1所述的电子发射显示器，其中，所述金属层覆盖所述图像形成基板的整个表面。6.根据权利要求2所述的电子发射显示器，其中，所述电子收集器向所述电子发射基板延伸约5到约200μm的距离。7.根据权利要求1所述的电子发射显示器，其中，所述电子收集器包括反射金属。8.根据权利要求7所述的电子发射显示器，其中，所述反射金属选自Al和Ag。9.根据权利要求1所述的电子发射显示器，其中，所述金属层包括铝。10.根据权利要求1所述的电子发射显示器，其中，所述电子收集器被贴附到所述金属层。11.根据权利要求10所述的电子发射显示器，其中，所述电子收集器通过玻璃料被贴附到所述金属层。12.根据权利要求1所述的电子发射显示器，还包括阳极，其中所述荧光层设置于所述阳极上。13.根据权利要求1所述的电子发射显示器，还包括至少一个光屏蔽层。14.根据权利要求2所述的电子发射...

【专利技术属性】
技术研发人员：俞升濬，崔钟植，朴真民，李受贞，姜正镐，李受京，
申请(专利权)人：三星SDI株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]