【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电子发射显示器。具体地说,本专利技术涉及具有结构改进的间隔物的电子发射显示器。
技术介绍
一般而言,电子发射显示器是指在真空环境中能够通过从热或冷的阴极电极分离电子并向荧光层加速电子的装置。使用冷阴极的电子发射显示器是指这样的装置,该装置不使用热阴极,并且通过在阴极电极和栅极电极之间施加强电场而使所具有的阴极电极发射电子。具体而言,可以从位于阴极电极上的电子发射区分离出电子,并向荧光层加速电子,由此在电子与荧光层接触时激发荧光层来发出可见光。常规的电子发射显示器可以包括位于第一基板上的电子发射单元,其带有电子发射元件,比如场发射体阵列(FEA),表面传导发射(SCE),金属-绝缘体-金属(MIM)和金属-绝缘体-半导体(MIS);位于第二基板上并且具有荧光层的光发射单元;和密封构件,该密封构件连接第一基板和第二基板,使得电子发射单元和光发射单元封装在第一基板和第二基板之间真空度为约10-6托的真空环境中。电子发射显示器中的真空环境由于其内外大的压力差而会向其施加高压。因此,惯用的电子发射显示器可以包括多个连接在第一基板和第二基板之间的间隔物,来支 ...
【技术保护点】
一种电子发射显示器,包括:位于第一基板上的电子发射单元;位于第二基板上的光发射单元,该第二基板固定于第一基板上,并且电子发射单元和光发射单元置于第一基板和第二基板之间;以及设置在该第一基板和第二基板之间的多个间隔物; 其中,所述多个间隔物中的每个间隔物都包括间隔物主体和设置在该间隔物主体上的至少一个涂层,并且所述多个间隔物中的每个间隔物都满足附带条件:0.02<ρ2/ρ1<100,其中ρ1是设置于间隔物主体上的最外面涂层的电阻率,ρ2是直接接触该 最外面涂层的元件的电阻率。
【技术特征摘要】
KR 2005-10-26 10-2005-01011681.一种电子发射显示器,包括位于第一基板上的电子发射单元;位于第二基板上的光发射单元,该第二基板固定于第一基板上,并且电子发射单元和光发射单元置于第一基板和第二基板之间;以及设置在该第一基板和第二基板之间的多个间隔物;其中,所述多个间隔物中的每个间隔物都包括间隔物主体和设置在该间隔物主体上的至少一个涂层,并且所述多个间隔物中的每个间隔物都满足附带条件0.02<ρ2/ρ1<100,其中ρ1是设置于间隔物主体上的最外面涂层的电阻率,ρ2是直接接触该最外面涂层的元件的电阻率。2.如权利要求1所述的电子发射显示器,其中,该最外面涂层具有大约为1的二次电子发射系数。3.如权利要求1所述的电子发射显示器,其中,所述至少一个涂层连续地涂敷于该间隔物主体上。4.如权利要求1所述的电子发射显示器,其中,该间隔物主体由电介质材料形成。5.如权利要求1所述的电子发射显示器,其中,所述至少一个涂层由金属氧化物或者含碳材料形成。6.如权利要求1所述的电子发射显示器,其中,所述多个间隔物中的每个间隔物包括第一涂层和第二涂层。7.如权利要求6...
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