一种扩散工艺中的自动扩散装置及其使用方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及半导体闭管扩散技术领域，特别是涉及一种扩散工艺中的自动扩散装置及其使用方法，包括，PLC控制台、推拉机构、冷却风干机构和扩散炉；所述PLC控制台与所述推拉机构、冷却风干机构和扩散炉电连接；所述推拉机构，根据PLC控制台的指令将所述推拉机构装载的封闭真空石英管送入或者送出扩散炉；所述冷却风干机构，根据PLC控制台的指令对所述推拉机构装载的封闭真空石英进行冷却和风干；所述扩散炉，根据PLC控制台的指令对扩散炉进行加热；整个工艺过程几乎完全是自动控制，操作简单，极大程度上避免了人为操作失误发生危险的可能，且自动计时的时间精确度极高保证，对每次冷却时间和冷却位置可以根据现场动态情况实时自动判断并得到精确控制，这样可以优化外延片扩散的均一性和一致性。散的均一性和一致性。散的均一性和一致性。

【技术实现步骤摘要】
一种扩散工艺中的自动扩散装置及其使用方法


[0001]本专利技术涉及半导体闭管扩散
，特别是涉及一种扩散工艺中的自动扩散装置及其使用方法。

技术介绍

[0002]扩散工艺是半导体制造工艺中非常重要的工序之一，传统铟镓砷外延片都是通过有机气相外延沉积(Metal
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organic Chemical Vapor Deposition简写：MOCVD)技术，在工艺制作过程需要通过各种掺杂在基底材料上生长铟镓砷吸收层和本征的磷化铟顶层，形成P型扩散区。
[0003]在扩散工艺中，外延片扩散的均匀性和一致性是扩散工艺的重要参数指标，传统闭管扩散工艺是将外延片和扩散源放入石英管内，抽真空后用氢
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氧焰封石英管，将封好的石英管手动放入加热的炉体中进行扩散，人工计时，达到工艺扩散时间后，手动拉出并进行冷却，这种方法整个工艺过程几乎完全是人工手动控制，操作复杂，容易产生人为操作失误发生危险的可能，且人工计时的时间精确度无法保证，对每次冷却时间和冷却区域也无法达到精确控制，这样对外延片扩散的均一性和一致性都本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种扩散工艺中的自动扩散装置，其特征在于，所述自动扩散装置包括：PLC控制台(1)、推拉机构(2)、冷却风干机构(3)和扩散炉(4)；所述PLC控制台(1)与所述推拉机构(2)、冷却风干机构(3)和扩散炉(4)电连接；所述推拉机构(2)，根据PLC控制台(1)的指令将所述推拉机构(2)装载的封闭真空石英管(25)送入或者送出扩散炉(4)；所述冷却风干机构(3)，根据PLC控制台(1)的指令对所述推拉机构(2)装载的封闭真空石英管(25)进行冷却和风干；所述扩散炉(4)，根据PLC控制台(1)的指令对扩散炉(4)进行加热；其中，初始状态时，所述冷却风干机构(3)位于所述推拉机构(2)和扩散炉(4)之间。2.根据权利要求1所述的扩散工艺中的自动扩散装置，其特征在于，所述推拉机构(2)包括电机(21)、导轨(22)、L型石英杆(23)和载物台(24)；所述电机(21)与所述导轨(22)连接，所述L型石英杆(23)的一端与所述导轨(22)连接，所述L型石英杆(23)的另一端与所述载物台(24)连接，所述载物台(24)用于承载封闭真空石英管(25)；所述电机(21)用于驱动所述导轨(22)转动，从而带动所述L型石英杆(23)送入或者送出扩散炉(4)。3.根据权利要求1所述的扩散工艺中的自动扩散装置，其特征在于，所述冷却风干机构(3)包括第一冷却风干装置(31)和二次风干装置(32)；初始状态时，所述二次风干装置(32)位于所述第一冷却风干装置(31)和推拉机构(2)之间。4.根据权利要求3所述的扩散工艺中的自动扩散装置，其特征在于，所述第一冷却风干装置(31)包括固定盘(311)、水冷管(312)和驱动机构(313)；所述固定盘(311)包括弧形孔(3111)，所述水冷管(312)穿过所述弧形孔(3111)；所述驱动机构(313)与所述固定盘(311)连接，所述水冷管(312)与所述驱动机构(313)连接，以便所述驱动机构(313)带动所述水冷管(312)沿着弧形孔(3111)的弧形路径运动或者沿着弧形孔(3111)的开口宽度方向运动。5.根据权利要求4所述的扩散工艺...

【专利技术属性】
技术研发人员：李明，岳爱文，胡艳，钟行，李晶，
申请(专利权)人：武汉光迅科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：