具有倾斜发射器图案的垂直腔面发射激光器阵列制造技术

一种VCSEL阵列可以包括半导体基板和在基板上的符合发射器图案的多个发射器。发射器图案可以与基板的边缘以非零角度取向，并且可以包括被布置成形成发射器图案的两个或更多个单元。两个或更多个单元中的每个单元可以包括相同数量的发射器，并且两个或更多个单元可以被布置成实现与两个或更多个单元中的两个相邻单元相关联的未对准的测量，以满足未对准阈值。值。值。

【技术实现步骤摘要】
具有倾斜发射器图案的垂直腔面发射激光器阵列
[0001]相关申请
[0002]本申请要求2020年6月19日提交的美国临时专利申请第63/041,427号的优先权，其标题为“VERTICAL
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CAVITY SURFACE
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EMITTING LASER DESIGN FOR DOT PROJECTION”，其内容通过引用全部结合于此。


[0003]本公开总体上涉及垂直腔面发射激光器(VCSEL)阵列和具有倾斜发射器图案的VCSEL。

技术介绍

[0004]结构光系统可以包括发射器阵列(例如，垂直腔面发射激光器(VCSEL)阵列)、透镜和衍射光学元件(DOE)。在操作中，由发射器阵列的发射器发射的光被透镜准直，并且准直光束(每个对应于相应的发射器)被引导到DOE。DOE分配准直光束，以便创建点投影(例如，准直光束的投影)。更具体地说，DOE衍射给定的光束，使得给定光束的衍射级(diffracted order)由DOE以不同的角度透射。衍射的角度范围出现在相对于DOE表面的一个角度范围内，称为本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种垂直腔面发射激光器阵列(VCSEL)，包括:半导体基板；和在所述基板上的多个发射器，其符合所述发射器图案，其中所述发射器图案与基板边缘以非零角度取向，其中所述发射器图案包括被布置成形成所述发射器图案的两个或更多个单元，其中所述两个或更多个单元中的每个单元包括相同数量的发射器，并且其中所述两个或更多个单元被布置成实现对与所述两个或更多个单元中的两个相邻单元相关联的未对准的测量，以满足未对准阈值。2.根据权利要求1所述的VCSEL阵列，其中所述非零角度为5度到20度之间。3.根据权利要求1所述的VCSEL阵列，其中，所述两个或更多个单元中的第一单元中的发射器相对于所述两个或更多个单元中的第二单元的相应发射器的放置被表示为第一单元放置向量和第二单元放置向量的组合。4.根据权利要求4所述的VCSEL阵列，其中，所述未对准的测量至少测量以下之一:与第一单元放置向量相关联的误差量，或者与第二单元放置向量相关联的误差量。5.根据权利要求1所述的VCSEL阵列，其中所述未对准阈值为1000nm。6.根据权利要求1所述的VCSEL阵列，其中所述发射器图案被配置为向衍射光学元件(DOE)发射光，所述衍射光学元件被配置为将所述光转换成包括多个拼片的点投影，其中所述多个拼片中的每个拼片包括符合点图案的多个点，并且其中点图案是发射器图案的光学投影。7.一种结构光系统，包括:垂直腔面发射激光器(VCSEL)阵列，包括符合发射器图案的多个发射器，其中发射器图案与衍射光学元件(DOE)的直线轴线以非零角度取向，其中所述发射器图案包括被布置成形成所述发射器图案的两个或更多个单元，其中所述两个或更多个单元中的每个单元包括相同数量的发射器，并且其中所述两个或更多个单元被布置成实现对与所述两个或更多个单元中的两个相邻单元相关联的单元未对准的测量，以满足单元未对准阈值；和所述DOE被配置成从所述VCSEL阵列的多个发射器发射的光来产生点投影，其中点投影包括多个拼片。8.根据权利要求7所述的结构光系统，其中与所述发射器图案相关联的纵横比是所述DOE的纵横比和所述DOE的视场的组合。9.根据权利要求7所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：MA希拉兹霍塞尼多科特，MG彼得斯，JM米勒，
申请(专利权)人：朗美通经营有限责任公司，
类型：发明
国别省市：