等离子体显示器平板障壁的大面积压印成型方法技术

本发明专利技术公开了一种等离子体显示器平板障壁的大面积压印成型方法，该方法采用辊压模具和配套的紫外固化工艺，在ＰＤＰ显示器后基板上实现大面积平板障壁结构的复型，其中障壁材料可采用低膨胀玻璃等；本发明专利技术制备的平板障壁可直接涂铺荧光材料进行高温焙烧，完成平板显示微腔制造；替代了诸如固态光刻胶膜裱贴、曝光、显影、喷砂、剥胶等现有工艺，缩减了诸如贴膜机、曝光机、显影机、喷砂机、剥胶清洗机等制造装备；利用该发明专利技术也可实现以碳纳米管为发射极的大面积场发射平板显示的显示微腔体制造。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微电子、微机械制造
，具体涉及一种能大面积压印成型等离子体显示器(PDP)平板障壁——三维微腔体阵列结构的制造方法， 该方法制备的等离子体显示器障壁可直接涂铺荧光材料，再进行高温焙烧，完成PDP显示器的微腔体制造。该方法将现有的制造工艺，如固态光刻 胶膜裱贴(简称贴干膜，用于光刻障壁结构图形)、曝光、显影、喷砂、剥 胶(清洗残胶)等，縮减为压印成型一道工艺，以一套压印设备取代原有的5套相关设备(如，贴膜机、曝光机、显影机、喷砂机、剥胶清洗机)。同时，该方法也适合于以碳纳米管为发射极的大面积场发射平板显示的显示微 腔体的制造。
技术介绍
随着大面积平板显示器的发展，PDP显示器作为一类极具发展前景的平 板显示器，发展的步伐正在加快。在PDP平板显示器的制作工艺流程中，障 壁的制作工艺是PDP平板显示器制造的四大关键技术之一，极大影响了PDP 显示器件的性能及成本。传统制作PDP障壁的方法有两类厚膜印刷法和喷 砂法。厚膜印刷法成本低，简易可行，但其限于制作数百微米宽的粗犷图形， 很难制成宽几十微米的精细图形，均一性差，当漏模尺寸较大时，易产生弯 曲和扭曲变形，且不适本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体显示器平板障壁的大面积压印成型方法，其特征在于，该方法采用ＰＤＰ显示器障壁形状微结构的辊压模具和紫外固化压印复型结合的辊压印复型工艺，在ＰＤＰ显示器后基板上实现大面积平板障壁结构的复型，具体包括下列步骤：步骤一，具有ＰＤ Ｐ显示器障壁结构的辊压模具的制备：辊压模具为滚筒式结构，滚筒上依次有模具金属层和纳米级厚度的类金刚石过渡层，类金刚石过渡层上形成有ＰＤＰ显示器平板障壁形状三维微结构，该ＰＤＰ显示器的平板障壁三维微结构截面的尺寸为：障壁高度１００μｍ ～１５０μｍ，宽度为４０μｍ～７０μｍ，节距为２００μｍ～３００μｍ，或ＰＤＰ显示器平板障所要求的微特征...

【技术特征摘要】
1、一种等离子体显示器平板障壁的大面积压印成型方法，其特征在于，该方法采用PDP显示器障壁形状微结构的辊压模具和紫外固化压印复型结合的辊压印复型工艺，在PDP显示器后基板上实现大面积平板障壁结构的复型，具体包括下列步骤步骤一，具有PDP显示器障壁结构的辊压模具的制备辊压模具为滚筒式结构，滚筒上依次有模具金属层和纳米级厚度的类金刚石过渡层，类金刚石过渡层上形成有PDP显示器平板障壁形状三维微结构，该PDP显示器的平板障壁三维微结构截面的尺寸为障壁高度100μm～150μm，宽度为40μm～70μm，节距为200μm～300μm，或PDP显示器平板障所要求的微特征结构；辊压模具的加工采用激光雕刻加工或湿法刻蚀加工，辊压模具表面制作有第一对正标记；步骤二，PDP显示器后基板的准备PDP显示器后基板选择高屈浮点玻璃，首先用印刷法制作选址电极，在选址电极上均匀镀上白色介电层，并对介电层表面进行平整化处理；在平整的介电层表面制作第二对正标记，该第二对正标记和辊压模具上的第一对正标记一起构成PDP显示器平板障壁辊压制作的标记系统，用于下一步制作出的平板障壁结构与选址电极之间的精确定位；步骤三，辊压制作PDP障壁结构的对正定位将含第二对正标记的PDP显示器后基板置于辊...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘红忠，丁玉成，蒋维涛，卢秉恒，尹磊，史永胜，邵金友，
申请(专利权)人：西安交通大学，
类型：发明
国别省市：87[中国|西安]