防止碱处理塔的污垢的方法和组合物技术

本公开内容提供用于抑制碱性洗涤系统的基于羰基的污垢材料的方法及组合物。所述方法包括使经受或将要经受所述洗涤系统的烃流与水溶性或水分散性共聚物接触。所述共聚物包含烯属不饱和单体例如丙烯酸的重复单元与其它重复单元例如烷基丙烯酸酯、烯丙基醚、乙氧基化烯丙基重复单元等。在其它实施方案中，第三重复单元存在并可包含疏水性部分，例如苯乙烯重复单元。重复单元。重复单元。

【技术实现步骤摘要】
防止碱处理塔的污垢的方法和组合物
[0001]本申请是专利申请号为201680085821.7、申请日为2016年3月 18日、专利技术名称为“防止碱处理塔的污垢的方法和组合物”的专利技术 申请的分案申请。
专利

[0002]本专利技术涉及用于在适合清洗杂质(如可通过羟醛缩合反应从液相 或气相含烃流形成的那些杂质)的类型的碱性洗涤系统中抑制污垢沉 积物形成的方法和组合物。
[0003]专利技术背景
[0004]烯烃化合物如乙烯、丙烯、丁烯和戊烯可由甲醇至烯烃(MTO)或 各种热解裂化过程形成。在这些过程中，通常形成各种羰基化合物如 醛和酮。通常地，由于用于反应的特定原料和反应器操作参数，相对 于有时遇到的浓度大于1,000百万分率(ppm)的烃流，在气流中发现约 1
‑
200ppm重量的羰基化合物。
[0005]通过裂化或MTO过程形成的烃产物流被冷却，且有时被压缩。 产物气流可通过碱性洗涤系统(pH＞7)以除去酸性成分如硫化氢和二 氧化碳。在许多情况下，存在的羰基化合物，例如醛，将经历聚合以 形成被称为羟醛聚合物或红油的缩合聚合物。这些羟醛聚合物或红油 在碱性洗液和烃介质中具有低的溶解度并可在清洗塔盘管道和过程 设备的其它内部表面上沉积，导致污垢并最终堵塞。这些沉积物可以 限制通过设备的流动，并可造成不需要的压力下降，导致过程通过量 下降，操作成本增加，和因定期清洁而关闭装置。
[0006]其中需要处理以抑制这样的基于聚合物的污垢的碱性洗涤系统 包括胺酸气体洗涤器，如MEA、DEA、异丙胺、丁胺等，和苛性碱 洗涤系统。
[0007]一般来说，碱性洗涤要求在洗涤塔中用碱性水溶液与气态烯烃接 触，以除去硫化氢、二氧化碳和由其产生的其它氧化化合物。碱性洗 涤特别适合于烃如乙烷、丙烷、丁烷、石脑油及其混合物的热解裂化 以生成相应的气态乙烯、丙烯、丁二烯等之后，或含有羰基和其它污 染物的MTO生产过程之后的碱性洗涤过程。
[0008]专利技术概述
[0009]在本专利技术的一个实施方案中，提供用于抑制污垢材料的形成的方 法，其包括使含有醛化合物的烃介质与防污剂接触。在碱性洗涤系统 中处理烃介质。防污剂可包含具有以下式为特征的重复单元的聚合物
[0010]式I
[0011][0012]其中a必须存在，b或c或b+c存在和d可以存在或可以不存在； E是烯属不饱和化合
物聚合后剩余的重复单元且可以是例如(甲基)丙 烯酸或(甲基)丙烯酰胺；各个R1独立地选自H或低级(C1‑
C4)烷基；R2是具有约1
‑
6个碳原子的羟基取代的烷基或亚烷基部分，X是选自 SO3、OSO3、PO3、OPO3或COO的阴离子基团；M是一个或多个氢 或平衡阴离子基团X的价位的任何水溶性阳离子部分并可以是Ca、 Na、K、NH4等；F是烯属不饱和疏水性部分如苯乙烯及其衍生物、 丙烯腈、具有(C1‑
C
18
)烷基的烯烃、烷基(甲基)丙烯酸酯；重复单元c 中的Q选自C1‑
C3亚烷基或羰基，m是0或1，R3是或其中n是1
‑
约100或R3是CH2‑
CHOH或 CH2‑
CH
‑
(OH)
‑
CH2；R4是H、OH、SO3M、OSO3M、PO3M、OPO3M 或CO2M；前提是当d存在时，它以基于1摩尔a的0.01
‑
0.8摩尔的 量存在；b或c之一，或b+c(当二者均存在时)以0.1
‑
100的a：b或 a：c或a：(b+c)的摩尔比存在，或在某些示例性实施方案中以1
‑
10的摩 尔比存在。
[0013]在某些实施方案中，聚合物防污剂可包含丙烯酸(AA)和烯丙基醚 的共聚物。在本专利技术的其它实施方案中，聚合物污垢可以是丙烯酸(AA) 烯丙基羟基化烷基醚，也称为1
‑
丙烷磺酸，2
‑
羟基
‑
3(2
‑
丙烯氧基)一钠 盐(AHPSE)。
[0014]聚合物防污剂也可以是AA/AHPSE/苯乙烯的三元共聚物或它在 某些实施方案中，可以是丙烯酸和烯丙基聚乙二醇醚的共聚物。在一 些情况下，聚合物可包含丙烯酸与乙氧基化烯丙基醚的共聚物。在其 它实施方案中，共聚物可包含丙烯酸和低级烷基丙烯酸酯如羟基取代 的烷基丙烯酸酯。
[0015]在本专利技术的另一个方面，提供具有下式结构的新型水溶性或水分 散性聚合物组合物：
[0016]式VI
[0017][0018]其中a、z和d都存在；是烯属不饱和化合物聚合后剩余的重 复单元，是烯属不饱和疏水性部分聚合后剩余的重复单元；其中 d：a的摩尔比是约0.1
‑
0.8摩尔d：1摩尔a；z以0.1
‑
100、1
‑
10摩尔a/1 摩尔z的a：z的量存在，在一些实施方案中，以1
‑
10摩尔a/摩尔z的 量存在；是选自VIa、VIb、VIc或VId或其混合物的重复单元， 其中VIa是
[0019][0020]VIb是
[0021][0022]其中R1是H或低级(C1‑
C4)烷基，R2是具有约1
‑
6个碳原子的羟 基取代的烷基或亚烷基部分，X是选自SO3、OSO3、PO3、OPO3或 COO的阴离子基团；M是H或氢或平衡阴离子基团X的价位的任何 水溶性阳离子部分；Q选自C1‑
C3亚烷基或羰基，m是0或1；R3是 其中n＝1
‑
100；或R3是羟基化 低级(C1‑
C4)亚烷基；和R4是H、OH、SO3M、OSO3M、PO3M、OPO3M 或CO2M；
[0023]VIc是
[0024][0025]其中R1如上所定义，R5是NH或O；R6是低级(C1‑
C4)烷基或亚 烷基或低级(C1‑
C4)羟基取代的烷基或亚烷基；X和M如上所定义；和 VId是
[0026][0027]其中R7是CH2或苄基，以及X和M如上所定义。
[0028]在本专利技术的进一步的方面，提供新型水溶性三元共聚物组合物， 其包含丙烯酸或丙烯酸盐重复单元，疏水性重复单元如苯乙烯及其衍 生物、丙烯腈、具有(C1‑
C
18
)烷基的烯烃、烷基(甲基)丙烯酸酯，和选 自丙烯酰胺重复单元、烯丙基醚重复单元、低级烷基(C1‑
C4)丙烯酸酯 重复单元、乙氧基化或丙氧基化烯丙基重复单元、烯丙基聚乙二醇醚 重复单元、磺化苯乙烯重复单元和烯丙基磺酸重复单元的第三重复单 元。其中疏水性单体重复单元包含苯乙烯的三元共聚物可作为示例被 提及。
[0029]附图简述
[0030]本专利技术结合附图得到进一步的描述，其中：
[0031]图1是在实施例3中提及的候选防污剂处理产生的滤饼的显微照 片。
[0032]详细描述
[003本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抑制基于聚合物的污垢沉积物形成的方法，其包括使含有羰基化合物的烃流与防污剂接触，其中所述烃流是甲醇至烯烃(MTO)过程流或来自烃的高温分解的裂化烃流，并用pH大于7.0的碱性洗液处理所述烃流，其中所述防污剂包含具有以下式为特征的重复单元的聚合物式I其中a必须存在，b或c或b+c存在，而d可以存在或可以不存在；E是烯属不饱和化合物聚合后剩余的重复单元；各个R1独立地选自H或低级(C1‑
C4)烷基；R2是具有约1
‑
6个碳原子的羟基取代的烷基或亚烷基部分，X是选自SO3、OSO3、PO3、OPO3或COO的阴离子基团；M是H或氢或平衡阴离子基团X的价位的任何水溶性阳离子部分；F是烯属不饱和疏水性部分；重复单元c中的Q选自C1‑
C3亚烷基或羰基，m是0或1，R3是 (CH2—CH2—O) n
或 (CH2—CH（CH3）—O)
n
，其中n是1
‑
约100或R3是
‑
CH2‑
CH(OH)
‑
或
‑
CH2‑
CH(OH)
‑
CH2‑
；R4是H、OH、SO3M、OSO3M、PO3M、OPO3M或CO2M；前提是当d存在时，它以基于1摩尔a的0.01
‑
0.8摩尔的量存在；b或c之一，或者二者b+c (当二者均存在时)以0.1
‑
100的a:b或a:c或a:(b+c)的摩尔比存在。2.权利要求1的方法，其中基于1百万重量份的所述烃流，约1

【专利技术属性】
技术研发人员：唐小风，张桂喜，洪宏贤，施永涛，徐春，颜登超，
申请(专利权)人：苏伊士水务技术无锡有限公司，
类型：发明
国别省市：