狭缝喷嘴以及基板处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术使得在狭缝喷嘴及包括所述狭缝喷嘴的基板处理装置中，能够有效率地进行用于使吐出量在吐出口的中央部与端部之间均匀化的作业。本实用新型专利技术的狭缝喷嘴包括：喷嘴本体，通过一对唇部隔开间隙地相互相向，形成呈狭缝状开口的吐出口；以及调整机构，使一对唇部相对地向接近方向及分离方向位移来调整吐出口的开口宽度，在一对唇部中的至少一个中，在与和另一个唇部相向的相向面为相反侧的面上与吐出口的长边方向平行地设置有槽，调整机构通过以增减喷嘴本体中的隔着槽而相向的部位的间隔的方式使喷嘴本体变形来调整开口宽度。调整机构具有沿长边方向排列的多个调整螺丝，调整螺丝与相向面的距离在与吐出口的端部对应的位置处比中央部大。对应的位置处比中央部大。对应的位置处比中央部大。

【技术实现步骤摘要】
狭缝喷嘴以及基板处理装置


[0001]本技术涉及一种具有狭缝状的吐出口的狭缝喷嘴、以及使用所述狭缝喷嘴将处理液涂布在基板上的基板处理装置。再者，所述基板包括：半导体基板、光掩模用基板、液晶显示用基板、有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示用基板、等离子体显示用基板、场发射显示器(Field Emission Display，FED)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板等。

技术介绍

[0002]在半导体装置或液晶显示装置等电子元件等的制造步骤中，使用对基板的表面供给处理液，并将所述处理液涂布在基板上的基板处理装置。某基板处理装置一面在使基板浮起的状态下搬送所述基板，一面将处理液输送至狭缝喷嘴并自狭缝喷嘴的吐出口朝基板的表面吐出，而将处理液涂布在大致整个基板上。另外，另一种基板处理装置一面在平台上吸附保持基板，一面在自狭缝喷嘴的吐出口朝基板的表面吐出的状态下，使狭缝喷嘴相对于基板进行相对移动来将处理液涂布在大致整个基板上。
[0003]近年来，伴随制品的高品质化，提高通过基板处理装置来涂布的处理液的膜厚的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种狭缝喷嘴，其特征在于，包括：喷嘴本体，其中分别具有平坦的相向面的一对唇部以所述相向面彼此隔开间隙地相向的方式配置，而形成呈狭缝状开口的吐出口；以及调整机构，使所述一对唇部相对地向接近方向及分离方向位移来调整所述吐出口的开口宽度，且在所述一对唇部中的至少一个中，在从所述相向面观看时与另一个所述唇部为相反侧的面上，设置有沿着与所述吐出口的长边方向平行的方向的槽，所述调整机构具有沿着所述长边方向排列的多个调整螺丝，各个所述调整螺丝在与所述槽的深度方向相交的方向上跨越所述槽而与所述喷嘴本体螺合，通过以增减所述槽的宽度的方式使所述喷嘴本体变形来调整所述开口宽度，与所述相向面正交的正交方向上的所述调整螺丝与所述相向面的距离在与所述吐出口在所述长边方向上的端部对应的位置处，比在与所述吐出口在所述长边方向上的中央部对应的位置处大。2.根据权利要求1所述的狭缝喷嘴，其特征在于，所述槽的底部与所述相向面之间的所述唇部的壁厚在所述长边方向上一定。3.根据权利要求1所述的狭缝喷嘴，其特征在于，与所述端部对应的位置处的、所述槽的底部与所述相向面之间的所述唇部的壁厚比与所述中央部对应的位置处的所述壁厚小。4.根据权利要求1至3中任一项所述的狭缝喷嘴，其特征在于，所述多个调整螺丝的各者与所述相向面在所述正交方向上的距离沿着所述长边方向呈多阶段地变化。5.根据权利要求1至3中任一项所述的狭缝喷嘴，其特征在于，在所述长边方向上邻接的两个所述调...

【专利技术属性】
技术研发人员：安陪裕滋，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：新型
国别省市：