压力传感器制造技术

技术编号:31422904 阅读:23 留言:0更新日期:2021-12-15 15:31
本实用新型专利技术提供一种压力传感器,该压力传感器包括壳体、压力敏感元件、开口式介质通道以及缓冲结构,壳体具有入口,压力敏感元件设于所述壳体中,开口式介质通道自所述入口传送流体介质到所述压力敏感元件的感压面,缓冲结构设于所述开口式介质通道内,用于对所述开口式介质通道内的流体介质缓冲。式介质通道内的流体介质缓冲。式介质通道内的流体介质缓冲。

【技术实现步骤摘要】
压力传感器


[0001]本技术实施例涉及压力传感器
,特别涉及一种压力传感器。

技术介绍

[0002]压力传感器(Pressure Transducer)是能感受压力信号,并能按照一定的规律将压力信号转换成可用的输出的电信号的器件或装置。
[0003]现有技术中压力传感器(尤其是柴油压力传感器)介质自壳体的入口进入到介质通道后容易发生液锤。

技术实现思路

[0004]本技术实施方式的目的在于提供一种压力传感器,旨在解决现有技术中压力传感器自壳体的入口进入到介质通道后容易发生液锤的问题。
[0005]为解决上述技术问题,本技术的实施方式提供了一种压力传感器,包括:
[0006]壳体,具有入口;
[0007]压力敏感元件,设于所述壳体中;
[0008]开口式介质通道,自所述入口传送流体介质到所述压力敏感元件的感压面;以及,
[0009]缓冲结构,设于所述开口式介质通道内,用于对所述开口式介质通道内的流体介质缓冲。
[0010]优选地,所述缓冲结构包括缓冲板,所述缓冲板安装在所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种压力传感器,其特征在于,包括:壳体,具有入口;压力敏感元件,设于所述壳体中;开口式介质通道,自所述入口传送流体介质到所述压力敏感元件的感压面;以及,缓冲结构,设于所述开口式介质通道内,用于对所述开口式介质通道内的流体介质缓冲。2.如权利要求1所述的压力传感器,其特征在于,所述缓冲结构包括缓冲板,所述缓冲板安装在所述入口处,所述缓冲板贯设有缓冲孔。3.如权利要求2所述的压力传感器,其特征在于,所述缓冲孔的孔径为D,0.2mm≤D≤0.5mm。4.如权利要求2所述的压力传感器,其特征在于,所述缓冲板与所述开口式介质通道铆边压合。5.如权利要求1所述的压力传感器,其特征在于,所述开口式介质通道自所述入口朝向所述压力敏...

【专利技术属性】
技术研发人员:王小平曹万李凡亮吴登峰李兵施涛
申请(专利权)人:武汉飞恩微电子有限公司
类型:新型
国别省市:

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