降低线波度的方法技术

本文公开的实施方式涉及一种曝光图案变更软件应用程序，曝光图案变更软件应用程序操纵具有角度的线的曝光多边形，所述角度实质上接近于六边形密集体布置的对称角度，曝光多边形具有长错位部。长错位部其本身是呈现为高边缘放置误差区域。因此，曝光图案变更软件应用程序通过在受影响角度处将多边形边缘锯齿化来提供线波减少，从而在制造工艺中的无掩模光刻图案化期间减小边缘放置误差。刻图案化期间减小边缘放置误差。刻图案化期间减小边缘放置误差。

【技术实现步骤摘要】
降低线波度的方法
[0001]本申请是申请日为2017年3月29日、申请号为201780020264.5、专利技术名称为“降低线波度的方法”的专利技术专利申请的分案申请。


[0002]本公开内容的实施方式一般涉及无掩模光刻的领域。更具体地，本文提供的实施方式涉及用于执行无掩模数字光刻制造工艺的系统和方法。

技术介绍

[0003]光刻广泛用于制造半导体器件和显示设备(诸如液晶显示器(LCD))。通常利用大面积基板进行LCD制造。LCD、或平板常常用于有源矩阵显示器，诸如计算机、触摸面板装置、个人数字助理(personal digital assistant,PDA)、蜂窝电话、电视机监视器和类似装置。一般地，平板可以包括形成像素液晶材料层，所述液晶材料层夹在两个板之间。当将来自电源的电力施加在液晶材料上时，可以在像素位置处控制通过液晶材料的光的量，从而使得图像能够生成。
[0004]显微光刻技术一般用来形成作为形成像素的液晶材料层的一部分而并入的电特征。根据此项技术，通常将光敏光刻胶施加到基板的至少一个表面。接着，图案发生器(pa本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于变更曝光图案的方法，包括：确定投射分布的充填因子；确定所述充填因子的对称角度；确定所述对称角度的锯齿选择；和将所述锯齿选择应用于所述曝光图案的至少一部分。2.如权利要求1所述的方法，还包括：曝光在其上具有所述锯齿选择的图案。3.如权利要求1所述的方法，其中所述锯齿选择包括方波形状或三角波形状。4.如权利要求1所述的方法，其中所述锯齿选择包括多边形。5.如权利要求1所述的方法，其中所述确定锯齿选择包括确定所述对称角度的锯齿间距和确定所述充填因子的镜子投射间距，并且其中所述锯齿间距与所述镜子投射间距的比率在3.0与8.0之间。6.一种用于变更曝光图案的计算机系统，包括：处理器；和存储器，所述存储器存储有指令，所述指令在由所述处理器执行时致使所述计算机系统执行以下步骤：确定投射分布的充填因子；确定所述充填因子的对称角度；确定所述对称角度的锯齿选择；和将所述锯齿选择应用于所述曝光图案的至少一部分。7.如权利要求6所述的计算机系统，还包括：曝光在其上具有所述锯齿选择的图案。8.如权利要求6所述的计算机系统，其中所述锯齿选择包括方波形状或三角波形状。9.如权利要求6所述的计算机系统，其中所述锯齿选择包括多边形。10.如权利要求6所述的计算机系统，其中所述确定锯齿选择包括确定所述对称角度的锯齿间距和确定所述充填因子的镜子投射间距，并且其中所述锯齿间距与所述镜子投射间距的比率在3.0与8.0之间。11.一种存储有指令的非暂时性计算机可读介质，所述指令在由处理器执行时致使计算机系统通过执行以下步骤来变...

【专利技术属性】
技术研发人员：约瑟夫，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：