真空镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术涉及真空镀膜技术领域，提出了一种真空镀膜设备，包括：壳体，壳体具有真空腔体；轰击板，轰击板设置在真空腔体内；充气机构，充气机构设置在壳体上，充气机构包括相连通的进气段和出气段，出气段位于真空腔体内，且出气段为弧形管，出气段上设置有多个出气孔。由于出气段为弧形管，且弧形管上设置有多个出气孔，因此可以降低惰性气体流速，获得更稳定的气体速度，并可以实现均衡充气，避免了出现充气集中在出气孔造成局部气压上升的情况，以避免出现弧光放电问题，以此改善真空镀膜设备的使用性能。膜设备的使用性能。膜设备的使用性能。

【技术实现步骤摘要】
真空镀膜设备


[0001]本技术涉及真空镀膜
，尤其涉及一种真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]在真空镀膜行业里，工艺气体是生产工艺中最重要的控制因素之一，而对于其中利用气体进入真空腔体进行辉光放电清洗，辉光放电清洗利用热丝或电极作为电子源，在其上相对于待清洗的表面加负偏压可以实现电子轰击的气体解吸以及某些碳氢化合物的去除。简单说就是利用两个电极间低压辉光放电产生的离子轰击来去除污染物，清洗过程中需要充入适当分压力的工艺惰性气体(如氩气、氦气等)，典型的放电气体工作压力介于0.05～10Pa之间。惰性气体在放电过程中被电离，并轰击真空室内壁、真空室内的其他构件，实现清洗，可以从工件或者系统表面清除污染物，防止其影响膜层的结合力和性能。
[0003]相关技术中的工艺气体充气方法都是直接用一根直管(接入腔体)充气，进行清洗时，轰击板作为阳极，真空腔体作为阴极使用，当在高真空环境下，辉光电源功率较大时，充入的气体过于集中，气体还没有扩散出去，局部的气压上升，就会和轰击板形成弧光放电，这种弧光放电相比辉光放电，有很强的电流，这时轰击板作为阳极，充气的直管作为阴极，形成了弧形白光，大电流带来大量的热量，直管将会熔断。

技术实现思路

[0004]本技术提供一种真空镀膜设备，以改善真空镀膜设备的使用性能。
[0005]本技术提供了一种真空镀膜设备，包括：
[0006]壳体，壳体具有真空腔体；
[0007]轰击板，轰击板设置在真空腔体内；
[0008]充气机构，充气机构设置在壳体上，充气机构包括相连通的进气段和出气段，出气段位于真空腔体内，且出气段为弧形管，出气段上设置有多个出气孔。
[0009]在本技术的一个实施例中，出气段为平面蚊香状结构。
[0010]在本技术的一个实施例中，出气段具有朝向真空腔体顶端和底端的上部和下部，以及连接上部和下部的两个侧部；
[0011]其中，侧部设置有出气孔。
[0012]在本技术的一个实施例中，两个侧部上均设置有多个出气孔。
[0013]在本技术的一个实施例中，出气段设置在靠近真空腔体顶端的位置处，下部设置有出气孔。
[0014]在本技术的一个实施例中，进气段为直管，进气段的延伸方向垂直于出气段的底端所在平面。
[0015]在本技术的一个实施例中，出气段为螺旋式结构。
[0016]在本技术的一个实施例中，出气段为一体式结构。
[0017]在本技术的一个实施例中，进气段和出气段为一体式结构。
[0018]在本技术的一个实施例中，进气段和出气段为不锈钢管。
[0019]本技术实施例的真空镀膜设备包括壳体、轰击板以及充气机构，轰击板设置在壳体的真空腔体内，充气机构的出气段设置在壳体的真空腔体内，供气设备通过进气段的进气孔向充气机构送入惰性气体，并通过多个出气孔排入到真空腔体内，壳体和轰击板均通电，轰击板作为阳极，真空腔体作为阴极使用，惰性气体在放电过程中被电离，并轰击真空腔体内壁、真空腔体内的其他构件，实现清洗。由于出气段为弧形管，且弧形管上设置有多个出气孔，因此可以降低惰性气体流速，获得更稳定的气体速度，并可以实现均衡充气，避免了出现充气过于集中造成局部气压上升的情况，以避免出现弧光放电问题，以此改善真空镀膜设备的使用性能。
附图说明
[0020]通过结合附图考虑以下对本技术的优选实施方式的详细说明，本技术的各种目标，特征和优点将变得更加显而易见。附图仅为本技术的示范性图解，并非一定是按比例绘制。在附图中，同样的附图标记始终表示相同或类似的部件。其中：
[0021]图1是根据一示例性实施方式示出的一种真空镀膜设备的结构示意图；
[0022]图2是根据一示例性实施方式示出的一种充气机构的第一个视角的结构示意图；
[0023]图3是根据一示例性实施方式示出的一种充气机构的第二个视角的结构示意图。
[0024]附图标记说明如下：
[0025]10、壳体；20、轰击板；30、充气机构；31、进气段；311、进气孔；32、出气段；321、出气孔；322、上部；323、下部；324、侧部。
具体实施方式
[0026]体现本技术特征与优点的典型实施例将在以下的说明中详细叙述。应理解的是本技术能够在不同的实施例上具有各种的变化，其皆不脱离本技术的范围，且其中的说明及附图在本质上是作说明之用，而非用以限制本技术。
[0027]在对本公开的不同示例性实施方式的下面描述中，参照附图进行，附图形成本公开的一部分，并且其中以示例方式显示了可实现本公开的多个方面的不同示例性结构、系统和步骤。应理解的是，可以使用部件、结构、示例性装置、系统和步骤的其他特定方案，并且可在不偏离本公开范围的情况下进行结构和功能性修改。而且，虽然本说明书中可使用术语“之上”、“之间”、“之内”等来描述本公开的不同示例性特征和元件，但是这些术语用于本文中仅出于方便，例如根据附图中的示例的方向。本说明书中的任何内容都不应理解为需要结构的特定三维方向才落入本公开的范围内。
[0028]本技术的一个实施例提供了一种真空镀膜设备，请参考图1至图3，真空镀膜设备包括：壳体10，壳体10具有真空腔体；轰击板20，轰击板20设置在真空腔体内；充气机构30，充气机构30设置在壳体10上，充气机构30包括相连通的进气段31和出气段32，出气段32位于真空腔体内，且出气段32为弧形管，出气段32上设置有多个出气孔321。
[0029]本技术一个实施例的真空镀膜设备包括壳体10、轰击板20以及充气机构30，轰击板20设置在壳体10的真空腔体内，充气机构30的出气段32设置在壳体10的真空腔体内，供气设备通过进气段31的进气孔311向充气机构30送入惰性气体，并通过多个出气孔
321排入到真空腔体内，壳体10和轰击板20均通电，轰击板20作为阳极，真空腔体作为阴极使用，惰性气体在放电过程中被电离，并轰击真空腔体内壁、真空腔体内的其他构件，实现清洗。由于出气段32为弧形管，且弧形管上设置有多个出气孔321，因此可以降低惰性气体流速，获得更稳定的气体速度，并可以实现均衡充气，避免了出现充气过于集中造成局部气压上升的情况，以避免出现弧光放电问题，以此改善真空镀膜设备的使用性能。
[0030]需要说明的是，本技术的真空镀膜设备通过设置有弧形管可以解决正常辉光放电因为充入过多的工艺气体(如惰性气体)而过渡到弧光放电的问题。弧光放电也是气体放电的一种形式，正常情况下，气体是由良好的绝缘性能的，但是当在气体间隙的两端加上足够大的电场时，就可以引起电流通过气体，在适当的气体压力下，形成辉光放电，当充气的气体过于集中造成时，电场也足够大，局部的气压将满足弧光放电的要求，由此就需要在气体充气时，尽可能地均衡充气，不会造成局部的真空度上升，同时均衡的气体分布在镀膜上会提升良品率本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括：壳体(10)，所述壳体(10)具有真空腔体；轰击板(20)，所述轰击板(20)设置在所述真空腔体内；充气机构(30)，所述充气机构(30)设置在所述壳体(10)上，所述充气机构(30)包括相连通的进气段(31)和出气段(32)，所述出气段(32)位于所述真空腔体内，且所述出气段(32)为弧形管，所述出气段(32)上设置有多个出气孔(321)。2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述出气段(32)为平面蚊香状结构。3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述出气段(32)具有朝向所述真空腔体顶端和底端的上部(322)和下部(323)，以及连接所述上部(322)和所述下部(323)的两个侧部(324)；其中，所述侧部(324)设置有所述出气孔(321)。4.根据权利要求3所述的真空镀...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈培绍，吴标平，彭中业，张建宁，
申请(专利权)人：中山凯旋真空科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：