一种超薄ZnIn2S4纳米片光触媒材料及其制备方法和应用技术

本发明专利技术涉及一种超薄ZnIn2S4纳米片光触媒材料及其制备方法和应用，所述制备方法通过低温回流和超声剥离制备得到超薄ZnIn2S4纳米片。本发明专利技术中所提供的超薄纳米片光触媒材料，可以有效增加反应活性位点，并缩短光生电子和空穴的迁移距离，提高光催化杀菌效率。本发明专利技术材料还具有良好的可见光吸收性能，在可见光照射下可在5

【技术实现步骤摘要】
一种超薄ZnIn2S4纳米片光触媒材料及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及光触媒材料
，具体地说，涉及一种超薄ZnIn2S4纳米片光触媒材料及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]2019年冠状病毒病(COVID
‑
19)的爆发再次警告我们，致病细菌(例如大肠杆菌、金黄色葡萄球菌和铜绿假单胞菌)和病毒(例如猪流感H1N1和人类冠状病毒)等病原微生物对公众健康有着严重的威胁。传统的消毒方法，如臭氧、紫外线照射、氯化、抗菌剂等，消耗大量能源而且有许多副作用(有毒副产物、抗生素抗性等)，从长期可持续性的角度来看是不利的。
[0003]相比之下，光催化消毒技术因其绿色、安全和长期有效而被认为是替代传统消毒技术的一种有前景的技术。光催化消毒一般是在光的照射下，半导体材料产生中产生许多对微生物致命的活性氧(ROS)(
·
O2‑
、
·
OH和1O2等)。这些活性氧与细菌接触后会首先破坏细胞壁层，导致一些小分子的泄漏，使ROS 可以进一步渗透进入细胞内部，破坏内部成分，从本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超薄ZnIn2S4纳米片光触媒材料，其特征在于，所述纳米片光触媒材料厚度为4
‑
5nm，为双层ZnIn2S4纳米片。2.据权利要求1所述的超薄ZnIn2S4纳米片光触媒材料，其特征在于，所述光触媒材料的制备方法包括以下步骤：
①
低温回流：将锌源和铟源溶解在去离子水中，在室温下搅拌后，加入硫源，然后放入油浴锅中加热并剧烈搅拌。
②
超声剥离：将所得悬浊液离心，收集沉淀并用去离子水冲洗两次，再次分散到去离子水中，超声后离心，取上层清液作为最终产物。3.根据权利要求2所述的光触媒材料，其特征在于，所述光触媒材料的制备方法中，铟源为硝酸铟，锌源为乙酸锌，硫源为硫代乙酰胺。4.根据权利要求3所述的光触媒材料，其特征在于，所述光触媒材料的制备方法中，硝酸铟和乙酸锌的摩尔比为1:2，硫代乙酰胺至少过量1...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐晓翔，王冉，金姝，闫佩毅，
申请(专利权)人：上海市普陀区人民医院上海纺织第一医院，
类型：发明
国别省市：