【技术实现步骤摘要】
一种透过率和反射率测量仪及其测量方法
[0001]本专利技术属于激光领域,涉及光学元件透过率或反射率测量技术,具体涉及一种大口径平面类激光光学元件的透过率或反射率测量仪及其测量方法。
技术介绍
[0002]激光已被广泛应用在各个领域,如激光加工、高密度全息存储、惯性约束聚变、生物医疗等,平面类光学元件作为一种可改变光路方向和激光偏振度的光学元件,广泛地应用在激光系统中,在特定工作角度下,其透过率或反射率是衡量激光光学元件是否达到设计要求的一项重要指标,因此精确测量其透过率或反射率十分重要。
[0003]传统对光学元件透过率或反射率的测试方法有光腔衰荡法、分光光度法和激光比率法。其中,光腔衰荡法是通过测量稳定的初始腔和测量腔的衰荡时间,获取腔镜反射率和样品反射率,该方法测试精度较高,但只适合测试反射率或透射率99%以上的激光光学元件。分光光度法是通过斩波器实现双光路测量,本质上为单个探测器分时测量,该方法对于低反射率或低透射率光学元件,探测器的线性动态范围要足够大,其线性度误差和测试光源稳定性对测量结果的影响较大。激光 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种透过率和反射率测量仪,其特征在于:包括激光光源(1)、起偏器(2)、分光镜(3)、旋转单元、第一探测器(5)、第二探测器(10)和信号单元;所述起偏器(2)和分光镜(3)依次设置在激光光源(1)的出射光路上;所述第一探测器(5)位于分光镜(3)的反射光路上,衰减轮盘(4)位于分光镜(3)和第一探测器(5)之间,其包括可旋转的轮盘(41)和设置在轮盘(41)上的多个衰减片(42),各个衰减片(42)的衰减率不相同,每个衰减片(42)均能够旋转至分光镜(3)的反射光路上;所述旋转单元包括定距转轴(6)、二维扫描机构(7)和环形滑轨(9);定距转轴(6)位于分光镜(3)的透射光路上,且定距转轴(6)的轴线与分光镜(3)的透射光轴垂直相交;二维扫描机构(7)设置在定距转轴(6)上,且能够绕定距转轴(6)旋转;二维扫描机构(7)用于安装被测光学元件(8),且定距转轴(6)的轴线过被测光学元件(8)的迎光面;环形滑轨(9)与定距转轴(6)同轴并设置在定距转轴(6)的外侧;所述第二探测器(10)能够在环形滑轨(9)上移动;所述信号单元包括信号发生器(11)和信号采集处理系统(12),信号发生器(11)用于控制第一探测器(5)和第二探测器(10)同步采集光信号,信号采集处理系统(12)用于采集第一探测器(5)和第二探测器(10)的光信号,获取被测光学元件(8)的透过率或反射率。2.根据权利要求1所述透过率和反射率测量仪,其特征在于:还包括位于分光镜(3)和定距转轴(6)之间的0
°
反射附件(14),所述第二探测器(10)移至0
°
反射附件(14)的后反射光路上,用于实现被测光学元件(8)小角度时的反射率测量。3.根据权利要求2所述透过率和反射率测量仪,其特征在于:所述0
°
反射附件(14)为分光棱镜。4.根据权利要求1至3任一所述透过率和反射率测量仪,其特征在于:还包括设置在激光光源(1)、起偏器(2)、分光镜(3)、...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈永权,达争尚,郑小霞,张伟刚,李铭,
申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:
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