【技术实现步骤摘要】
化合物羟基四氟化三硼酸二胍和羟基四氟化三硼酸二胍非线性光学晶体及制备方法和用途
[0001]本专利技术涉及一种化合物羟基四氟化三硼酸二胍及羟基四氟化三硼酸二胍非线性光学晶体及制备方法和用途。
技术介绍
[0002]随着193nm光刻技术、微纳米精细激光加工,以及超高能量分辨率光电子能谱仪和光电子发射显微镜等现代化仪器对深紫外激光源(一般指波长短于200nm)的强烈需求发展全固态深紫外激光光源已经成为国际激光科学界近期研究的一个热点。发展全固态深紫外激光光源，深紫外非线性光学晶体是十分关键的一个元件。
[0003]目前产业应用的紫外、深紫外非线性光学晶体主要包括LiB3O5(LBO)、CsB3O5(CBO)、CsLiB6O
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(CLBO)、BaB2O4(BBO)和KBe2BO3F2(KBBF)晶体。LBO晶体具有宽的透光范围，高的光学均匀性，具有较大的有效倍频系数(3KDP)和高的损伤阈值(18.9GW/cm2)。但是由于其相对较小的双折射(Δn＝0.04
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0.05)，使其不能在...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种化合物羟基四氟化三硼酸二胍，其特征在于该化合物的化学式为[C(NH2)3]2[B3O3F4(OH)]，分子量为293.61，采用蒸发法、水热法或室温溶液法制备。2.根据权利要求1所述的化合物羟基四氟化三硼酸二胍制备方法，其特征在于按下列步骤进行：所述蒸发法制备化合物羟基四氟化三硼酸二胍，具体操作按下列步骤进行：a、将含[C(NH2)3]基团的化合物、含B化合物、含F化合物按摩尔比[C(NH2)3]∶B∶F=0.5
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2∶1.5
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6∶0.5
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2混合均匀，加入0
‑
50 mL去离子水使其充分混合溶解，得到混合液，所述含[C(NH2)3]基团化合物为二氟化氢胍、碳酸胍、氯化胍或硝酸胍，含B化合物为H3BO3或HBO2，含F化合物为二氟化氢胍、氟化氢铷、氟化氢铯或氟化氢氨；b、将步骤a中的混合溶液转入到体积为50
‑
300mL的聚四氟乙烯烧杯中，按10
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30℃/h的速率升温至40
‑
60℃，恒温2
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5天静置，待溶剂挥发完毕，以去离子水快速清洗聚四氟乙烯内衬中的产物，室温下晾干，即得到化合物[C(NH2)3]2[B3O3F4(OH)]；所述水热法制备化合物羟基四氟化三硼酸二胍，具体操作按下列步骤进行：a、将含[C(NH2)3]基团的化合物、含B化合物、含F化合物按摩尔比[C(NH2)3]∶B∶F=0.5
‑
2∶1.5
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6∶0.5
‑
2混合均匀，加入0
‑
50 mL去离子水使其充分混合溶解，得到混合液，所述含[C(NH2)3]基团化合物为二氟化氢胍、碳酸胍、氯化胍或硝酸胍，含B化合物为H3BO3或HBO2，含F化合物为二氟化氢胍、氟化氢铷、氟化氢铯或氟化氢氨；b、将步骤a中的混合溶液转入到体积为23
‑
100mL的水热反应釜的聚四氟乙烯内衬中，并将水热反应釜的口旋紧密封；c、将步骤b中的水热反应釜放置在恒温箱内，按10
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30℃/h的速率升温至150
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220℃，恒温1
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3天，再以1
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10℃/h的降温速率降至室温；d、打开水热反应釜，以去离子水快速清洗聚四氟乙烯内衬中的产物，室温下晾干，即得到化合物[C(NH2)3]2[B3O3F4(OH)]；所述室温溶液法制备化合物羟基四氟化三硼酸二胍，具体操作按下列步骤进行：a、将含[C(NH2)3]基团的化合物、含B化合物、含F化合物按摩尔比[C(NH2)3]∶B∶F=0.5
‑
2∶1.5
‑
6∶0.5
‑
2混合均匀，加入0
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50 mL去离子水使其充分混合溶解，得到混合液，所述含[C(NH2)3]基团化合物为二氟化氢胍、碳酸胍、氯化胍或硝酸胍，含B化合物为H3BO3或HBO2，含F化合物为二氟化氢胍、氟化氢铷、氟化氢铯或氟化氢氨；b、将步骤a中的混合溶液转入到体积为50
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300 mL的聚四氟乙烯烧杯中，进行超声波处理，使其充分混合溶解，再用聚氯乙烯薄膜封口，放在无晃动、无污染、无空气对流的静态环境中，在室温下静置，随后溶液中逐渐析出晶体，待反应结束，以去离子水快速清洗聚四氟乙烯烧杯中的产物，室温下晾干，即得到化合物[C(NH2)3]2[B3O3F4(OH)]。3.一种羟基四氟化三硼酸二胍非线性光学晶体，其特征在于该晶体的化学式为[C(NH2)3]2[B3O3F4(OH)]，分子量为293.61，晶体属三斜晶系，空间群P1，...
【专利技术属性】
技术研发人员：潘世烈，金聪聪，米日丁，
申请(专利权)人：中国科学院新疆理化技术研究所，
类型：发明
国别省市：
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