足下垂足部锻炼装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种足下垂足部锻炼装置，包括底座，两个承托板及驱动机构，所述底座具有两个收容腔；两个所述承托板可枢转地分别设在两个所述收容腔内以承托足部；所述驱动机构分别与两个所述承托板相连，用于驱动所述承托板在所述收容腔内往复枢转，以使所述足部随所述承托板作足背曲伸运动。本实用新型专利技术锻炼的方式更简单，可以对患者足部进行更好地辅助锻炼，使得康复效果更好。使得康复效果更好。使得康复效果更好。

【技术实现步骤摘要】
足下垂足部锻炼装置


[0001]本技术涉及医疗器械
，具体涉及一种足下垂足部锻炼装置。

技术介绍

[0002]足下垂，是一个医学术语，这种症状主要表现为踝关节跖屈位，不能够主动背伸。其原因大致是因为骨折或肿瘤等原因发生了骨骼畸形变，或者是小腿前侧的肌肉发生了损伤，亦或是神经的原因，比如脑血管病变压迫神经，或者腓总神经外伤或卡压，使小腿前肌肉失神经支配产生足下垂；专利技术人发现，目前对患者足部进行锻炼的方式复杂，难以对患者足部进行辅助锻炼，导致康复效果不佳。

技术实现思路

[0003]本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本技术的一个目的在于提出一种足下垂足部锻炼装置，包括：
[0004]底座，所述底座具有两个收容腔；
[0005]两个承托板，两个所述承托板可枢转地分别设在两个所述收容腔内以承托足部；
[0006]驱动机构，所述驱动机构分别与两个所述承托板相连，用于驱动所述承托板在所述收容腔内往复枢转，以使所述足部随所述承托板作足背曲伸运动。
[0007]优选地，根据本技术的一个实施例，所述驱动机构包括：
[0008]双轴电机，设在两个所述收容腔之间，所述双轴电机的两个电机轴分别延伸至两个所述收容腔内；
[0009]两个偏心轮，两个所述偏心轮分别设在两个所述电机轴上，以随所述双轴电机转动。
[0010]优选地，根据本技术的一个实施例，还包括：
[0011]第一连杆，所述第一连杆的一端与所述偏心轮枢接；
[0012]第二连杆，所述第二连杆的第一端与所述第一连杆的另一端枢接，所述第二连杆的第二端与所述承托板枢接。
[0013]优选地，根据本技术的一个实施例，所述承托板下端的两侧设有两个枢接轴，两个所述枢接轴分别延伸至与所述收容腔的侧壁相枢接，以使所述承托板绕所述枢接轴枢转。
[0014]优选地，根据本技术的一个实施例，所述承托板上端设有导向轴，且所述导向轴位于与所述第二连杆相背离的一侧，所述收容腔的侧壁设有与所述导向轴对应设置的弧形槽，所述导向轴延伸至所述弧形槽内，用以对所述承托板导向支撑。
[0015]优选地，根据本技术的一个实施例，所述承托板上具有容纳槽，所述容纳槽在所述承托板的厚度方向凹陷设置以供所述足部放置在内。
[0016]优选地，根据本技术的一个实施例，所述承托板上还设有限位部，所述限位部两端分别连接于所述承托板两侧且位于所述容纳槽上方。
[0017]优选地，根据本技术的一个实施例，所述底座位于所述承托板的一侧形成为倾斜面，当所述承托板枢转至所述收容腔的敞口位置时，所述承托板与所述倾斜面处于同一平面上。
[0018]优选地，根据本技术的一个实施例，所述承托板的枢转角度为50
‑
70度。
[0019]本技术提供的足下垂足部锻炼装置，患者可以将两个足部分别放置在两个承托板上，然后通过驱动机构带动两个承托板进行往复枢转，进而使患者的足部可以随两个承托板作足背曲伸运动，锻炼的方式更简单，可以对患者足部进行更好地辅助锻炼，使得康复效果更好。
[0020]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0022]图1是本技术实施例中提供的足下垂足部锻炼装置的结构示意图；
[0023]图2是本技术实施例中提供的足下垂足部锻炼装置的结构分解图；
[0024]图3是本技术实施例中提供的承托板和驱动机构的结构示意图。
[0025]附图标号说明：
[0026]10、底座；101、收容腔；102、弧形槽；103、倾斜面；20、承托板；201、枢接轴；202、导向轴；203、容纳槽；204、限位部；30、驱动机构；301、双轴电机；302、偏心轮；303、第一连杆；304、第二连杆。
[0027]本技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0028]下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制，基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0029]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”“轴向”、“周向”、“径向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0030]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者
隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0031]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0032]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0033]下面参照附图详细描述本技术实施例的足下垂足部锻炼装置。
[0034]参照图1和图2所示，本技术实施例中提供的足下垂足部锻炼装置，包本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种足下垂足部锻炼装置，其特征在于，包括：底座，所述底座具有两个收容腔；两个承托板，两个所述承托板可枢转地分别设在两个所述收容腔内以承托足部；驱动机构，所述驱动机构分别与两个所述承托板相连，用于驱动所述承托板在所述收容腔内往复枢转，以使所述足部随所述承托板作足背曲伸运动。2.根据权利要求1所述的足下垂足部锻炼装置，其特征在于，所述驱动机构包括：双轴电机，设在两个所述收容腔之间，所述双轴电机的两个电机轴分别延伸至两个所述收容腔内；两个偏心轮，两个所述偏心轮分别设在两个所述电机轴上，以随所述双轴电机转动。3.根据权利要求2所述的足下垂足部锻炼装置，其特征在于，还包括：第一连杆，所述第一连杆的一端与所述偏心轮枢接；第二连杆，所述第二连杆的第一端与所述第一连杆的另一端枢接，所述第二连杆的第二端与所述承托板枢接。4.根据权利要求3所述的足下垂足部锻炼装置，其特征在于，所述承托板下端的两侧设有两个枢接轴，两个所述枢接轴分别延伸至与所述收容腔的侧壁相枢接，...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾丽芬，
申请(专利权)人：深圳市龙华区中心医院，
类型：新型
国别省市：