一种用于自沉积的银片支架制造技术

本实用新型专利技术涉及实验装置技术领域，公开了一种用于自沉积的银片支架，包括连接部，连接部的底端均匀的设置有若干支撑腿，连接部的顶端设置有可拆卸的支撑座，支撑座顶端设置有用于盛放银片的容置凹槽；本实用新型专利技术，能够在很大程度上增加钋离子在银片表面的沉积效率，同时提高银片取放的便利性，使实验过程高效快捷。捷。捷。

【技术实现步骤摘要】
一种用于自沉积的银片支架


[0001]本技术涉及实验装置
，尤其涉及一种用于自沉积的银片支架。

技术介绍

[0002]钋核素与其他核素最大的区别是能在银、铜等光亮整洁的金属表面上发生自发沉积，使电势较高的钋把银、铜等电位底的金属离子置换出来；通过这种自沉积装置，能够更好地控制温度、转速、时间、溶液体积等，可以更快捷高效使溶液中的钋离子自沉积在银片表面，以便后续实验测量使用；现有的离子交换实验有采用电沉积设备的，其沉积条件中的温度、液体旋转等状态都无法控制，且沉积面积较小，会严重影响钋离子在银片表面沉积效率，给后续的测量带来不变；自沉积时需要将银片侵入溶液中，在加热搅拌的条件下进行钋离子在银片表面的自沉积，沉积结束后，取下银片烘干后测量，若直接将银片放入含钋离子溶液的器皿中不便于银片的取放，同时也会相应的降低置换效果。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是提供一种用于自沉积的银片支架，能够在很大程度上增加钋离子在银片表面的沉积效率，同时提高银片取放的便利性，使实验过程高效快捷。
[0004]本技术采用如下技术方案：
[0005]一种用于自沉积的银片支架，包括连接部，连接部的底端均匀的设置有若干支撑腿，连接部的顶端设置有可拆卸的支撑座，支撑座顶端设置有用于盛放银片的容置凹槽。
[0006]所述的连接部及支撑座均为圆柱形，容置凹槽为圆形；其中连接部为顶端设置有开口且内部中空的圆柱形。
[0007]所述的支撑座底端设置有连接杆，连接杆的两端对称设置有定位块，连接部内部相对的两个侧面上镜像设置有用于对定位块进行安装限位的L型槽。
[0008]所述的支撑座顶端一侧设置有与容置凹槽导通的取物槽。
[0009]所述的连接部的外侧壁上设置有内部中空的凸耳。
[0010]所述的每个支撑腿上均设有若干透水孔。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术能够为放置在含有钋离子溶液器皿中的银片提供支撑作用，从而便于银片的取放操作，同时能够提升钋离子的置换效率，增加钋离子在银片表面的沉积面积；支撑座上定位块的设置能够通过同L型槽的配合使用，将支撑座快速的与连接部进行定位安装，便于后续的维修更换操作，提升本技术使用的便利性；支撑座上取物槽的设置，便于夹子通过取物槽将位于容置凹槽内的银片取出，提升操作的便利性。
[0012]进一步地，连接部外侧壁中空凸耳的设置，便于通过夹子将支撑架从器皿中取出，避免手直接与液体接触，提升操作的便利性，确保操作的安全性；支撑腿上透水孔的设置，能够在工作时，在设备的搅动下使器皿中含有钋离子的液体从透水孔处流出，减小液体的流动时的阻力，增大液体流速，提升钋离子沉积效率。
附图说明
[0013]图1为本技术的结构示意图；
[0014]图2为本技术支撑座的结构示意图；
[0015]图3为本技术连接部的剖视图。
具体实施方式
[0016]以下将结合附图和实施例对本技术作以清楚和完整的说明：
[0017]如图1至图3所示，本技术所述的一种用于自沉积的银片支架，包括连接部1，连接部1为顶端设置有开口且内部中空的圆柱形，连接部1的底端均匀的设置有若干支撑腿2，支撑腿2的设置一方面能够提升本技术放置的稳定性，另一方面能够在工作时使含有钋离子的液体从支撑腿2之间的缝隙中流动，减少在搅拌过程中对液体产生的阻力，每个支撑腿2上均贯穿设置有若干透水孔3，透水孔3的设置，能够在工作时，在设备的搅动下使烧杯中含有钋离子的液体从透水孔3处流出，减小液体的流动时的阻力，增大液体流速，提升钋离子沉积效率，优选地，相对称的两个支撑腿2之间的水平间距为4.5厘米，此尺寸能够与现有实验器材中容量为100毫升的烧杯更好的匹配使用；连接部1的顶端设置有可拆卸的圆柱形支撑座4，优选地，支撑座4底端设置有连接杆5，连接杆5的两端对称设置有定位块6，连接部1内部相对的两个侧面上镜像设置有用于对定位块6进行安装限位的L型槽7；L型槽7及定位块6的设置，便于支撑座4与连接部1的快速安装及拆卸操作，为后续的更换及维修提供便利；连接部1的外侧壁上还设置有内部中空的凸耳8，凸耳8的数量可以设置一个也可对称设置两个，凸耳8的设置，便于通过夹子将支撑架从烧杯中取出，避免手直接与液体接触，提升操作的便利性，确保操作的安全性。
[0018]支撑座4顶端设置有用于盛放银片的圆形容置凹槽9，支撑座4顶端一侧还设置有与容置凹槽9导通的取物槽10，取物槽10的设置，便于夹子通过取物槽10将位于容置凹槽9内的银片取出，提升操作的便利性；本技术中，连接部1及支撑座4均设置为圆柱形，便于更好的与盛放支撑架的烧杯进行匹配使用；支撑座4及连接部1的直径均为3厘米，支撑架的竖直高度优选为2.8厘米，以便于和常用实验器材容量为100毫升的烧杯口径及高度相匹配，容置凹槽9直径为2.5厘米，容置凹槽9的深度优选为1毫米，以便于和银片的大小相匹配，提升银片放置的稳定性。
[0019]本实施例的使用方法为：首先将银片放置在容置凹槽9内，然后将支撑架放置在盛放有钋离子溶液的烧杯中，然后将转子放置在烧杯中，将烧杯放置在控温磁力搅拌器上，开启控温磁力搅拌器开关对烧杯内的液体进行加热及搅拌即可实现钋离子与银片上银离子的置换，使钋离子在银片表面沉积。
[0020]最后应说明的是：以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于自沉积的银片支架，其特征在于：包括连接部，连接部的底端均匀的设置有若干支撑腿，连接部的顶端设置有可拆卸的支撑座，支撑座顶端设置有用于盛放银片的容置凹槽。2.根据权利要求1所述的用于自沉积的银片支架，其特征在于：所述的连接部及支撑座均为圆柱形，容置凹槽为圆形；其中连接部为顶端设置有开口且内部中空的圆柱形。3.根据权利要求2所述的用于自沉积的银片支架，其特征在于：所述的支撑座底端设置有连接杆，连接杆...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁小丽，梁雅婉，赵彦丽，高超，张雪，刘运兵，吕宗鑫，
申请(专利权)人：梁小丽，
类型：新型
国别省市：