一种带有调节机构的阻垢分散剂加工用反应釜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种带有调节机构的阻垢分散剂加工用反应釜，包括底板，所述底板的底部固定连接有两对滚轮，两对所述滚轮关于底板的中心轴线呈对称设置，且两对所述滚轮相远离的一侧设有升降机构，所述底板的顶部固定连接有反应仓，所述反应仓的两侧设有稳定机构，且所述反应仓顶部固定连接有电机，所述电机的输出轴贯穿反应仓的顶部，并通过轴承活动连接在反应仓的底部内壁上，且所述电机的输出轴上固定连接有若干个搅拌杆，所述反应仓的顶部固定连接有进液管，且所述反应仓的底部固定连接有出液管，本实用新型专利技术通过一系列的结构使得本装置具有调节机构，可对反应仓的高度进行调节，且便于对反应仓内腔进行刷洗等特点。且便于对反应仓内腔进行刷洗等特点。且便于对反应仓内腔进行刷洗等特点。

【技术实现步骤摘要】
一种带有调节机构的阻垢分散剂加工用反应釜


[0001]本技术涉及阻垢分散剂加工
，具体为一种带有调节机构的阻垢分散剂加工用反应釜。

技术介绍

[0002]阻垢分散剂是有羧基、羟基、硫磺酸、膦酸基等基团的共聚物，由于它的直链上和部分支链含有膦酸基，因此本共聚物具有优异的防垢性能，并有一定的防腐效果。本品同常用的水处理剂配伍性好，使用范围广泛。
[0003]阻垢分散剂加工时需要使用反应釜，但是现有的阻垢分散剂加工反应釜不能调节高度，不便于不同身高的操作人员的操作，且不具有刷洗机构，从而不便于对反应釜内部进形刷洗，因此，为了改正上述的缺陷，我们提出了一种带有调节机构的阻垢分散剂加工用反应釜。

技术实现思路

[0004]本技术解决的技术问题在于克服现有技术的不能调节高度，不便于不同身高的操作人员的操作，且不具有刷洗机构，从而不便于对反应釜内部进形刷洗的缺陷，提供一种带有调节机构的阻垢分散剂加工用反应釜。所述一种带有调节机构的阻垢分散剂加工用反应釜具有调节机构，可对反应仓的高度进行调节，且便于对反应仓内腔进行刷洗等特点。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种带有调节机构的阻垢分散剂加工用反应釜，包括底板，所述底板的底部固定连接有两对滚轮，两对所述滚轮关于底板的中心轴线呈对称设置，且两对所述滚轮相远离的一侧设有升降机构，所述底板的顶部固定连接有反应仓，所述反应仓的两侧设有稳定机构，且所述反应仓顶部固定连接有电机，所述电机的输出轴贯穿反应仓的顶部，并通过轴承活动连接在反应仓的底部内壁上，且所述电机的输出轴上固定连接有若干个搅拌杆，所述反应仓的顶部固定连接有进液管，且所述反应仓的底部固定连接有出液管，所述出液管的底部管口贯穿底板，且所述出液管的管身上安装有阀门。
[0006]优选的，若干个所述搅拌杆等距分布在电机的输出轴上。
[0007]优选的，所述电机的两侧均设有气缸，所述气缸固定连接在反应仓的顶部，其关于反应仓的中心轴线呈对称设置，且所述气缸的输出轴贯穿反应仓的顶部，并固定连接有活动板，所述活动板上开设有活动孔，其套设在电机的输出上，且所述活动板外壁上固定连接有刷环，所述刷环远离活动板的一侧设置有刷毛。
[0008]优选的，所述活动孔的半径大于搅拌杆的长度。
[0009]优选的，所述稳定机构包括两个竖板，所述竖板固定连接在底板的顶部，且两个所述竖板关于底板的中心轴线呈对称设置，所述反应仓靠近竖板的一侧固定连接有若干个第一稳定块，所述第一稳定块远离反应仓的一侧固定连接有固定杆，所述固定杆贯穿稳定板，并固定连接有第二稳定块，所述第二稳定块靠近竖板的一侧固定连接有若干个弹簧。
[0010]优选的，所述升降机构包括两个L形块，所述L形块固定连接在底板的底部，且所述L形块的下方设有支撑块，所述支撑块的顶部固定连接有限位仓，所述限位仓内设有限位块，所述底板的两侧均开设有螺纹孔，所述螺纹孔内螺纹连接有螺纹杆，所述螺纹杆的顶端固定连接有摇把，且所述螺纹杆的底端贯穿L形块和限位仓，并固定连接在限位块的顶部。
[0011]优选的，所述限位块和限位仓的横截面为圆形，且所述限位块的直径等于限位仓的内腔直径。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0013]1、通过摇把、螺纹杆、L形块、限位仓、底板、限位块和支撑块之间的配合，可调节反应仓的高度，从而便于不同身高的操作人员进行操作；
[0014]2、通过气缸、活动板、刷环和刷毛之间的配合，可在阻垢分散剂加工结束后，将水导入反应仓，通过刷毛刷动反应仓的侧壁，以对反应仓进行清洗；
[0015]3、通过竖板、第一稳定块、固定杆、第二稳定块和弹簧之间的配合，可减少反应仓加工时的晃动幅度，从而提高该设备的使用稳定性。
附图说明
[0016]图1为本技术部分立体图；
[0017]图2为本技术整体示意图；
[0018]图3为反应仓、L形块和支撑块的侧视图；
[0019]图4为反应仓、活动板和刷环的俯视图；
[0020]图5为图2中A处放大图。
[0021]图中标号：1、底板；2、滚轮；3、反应仓；4、电机；5、搅拌杆；6、进液管；7、出液管；8、气缸；9、活动板；10、活动孔；11、刷环；12、竖板；13、第一稳定块；14、固定杆；15、稳定板；16、第二稳定块；17、弹簧；18、L形块；19、支撑块；20、限位仓；21、限位块；22、螺纹杆；23、摇把。
具体实施方式
[0022]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0023]请参阅图1
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5，本技术提供一种技术方案：一种带有调节机构的阻垢分散剂加工用反应釜，包括底板1，底板1的底部固定连接有两对滚轮2，两对滚轮2关于底板1的中心轴线呈对称设置，且两对滚轮2相远离的一侧设有升降机构，升降机构包括两个L形块18，L形块18固定连接在底板1的底部，且L形块18的下方设有支撑块19，支撑块19的顶部固定连接有限位仓20，限位仓20内设有限位块21，限位块21和限位仓20的横截面为圆形，且限位块21的直径等于限位仓20的内腔直径，提高反应仓3高度调节时的稳定性，底板1的两侧均开设有螺纹孔，螺纹孔内螺纹连接有螺纹杆22，螺纹杆22的顶端固定连接有摇把23，且螺纹杆22的底端贯穿L形块18和限位仓20，并固定连接在限位块21的顶部，可调节反应仓3的高度，从而便于不同身高的操作人员进行操作，底板1的顶部固定连接有反应仓3，反应仓3的两侧设有稳定机构，稳定机构包括两个竖板12，竖板12固定连接在底板1的顶部，且两个竖板12
关于底板1的中心轴线呈对称设置，反应仓3靠近竖板12的一侧固定连接有若干个第一稳定块13，第一稳定块13远离反应仓3的一侧固定连接有固定杆14，固定杆14贯穿稳定板15，并固定连接有第二稳定块16，第二稳定块16靠近竖板12的一侧固定连接有若干个弹簧17，通过竖板12、第一稳定块13、固定杆14、第二稳定块16和弹簧17之间的配合，可减少反应仓3加工时的晃动幅度，从而提高该设备的使用稳定性，且反应仓3顶部固定连接有电机4，电机4的两侧均设有气缸8，气缸8固定连接在反应仓3的顶部，其关于反应仓3的中心轴线呈对称设置，且气缸8的输出轴贯穿反应仓3的顶部，并固定连接有活动板9，活动板9上开设有活动孔10，活动孔10的半径大于搅拌杆5的长度，防止活动板9影响搅拌杆5的转动，其套设在电机4的输出上，且活动板9外壁上固定连接有刷环11，刷环11远离活动板9的一侧设置有刷毛，通过气缸8、活动板9、刷环11和刷毛之间的配合，可在阻垢分散剂加工结束后，将水导入反应仓3，通过刷毛刷动反应本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带有调节机构的阻垢分散剂加工用反应釜，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)的底部固定连接有两对滚轮(2)，两对所述滚轮(2)关于底板(1)的中心轴线呈对称设置，且两对所述滚轮(2)相远离的一侧设有升降机构，所述底板(1)的顶部固定连接有反应仓(3)，所述反应仓(3)的两侧设有稳定机构，且所述反应仓(3)顶部固定连接有电机(4)，所述电机(4)的输出轴贯穿反应仓(3)的顶部，并通过轴承活动连接在反应仓(3)的底部内壁上，且所述电机(4)的输出轴上固定连接有若干个搅拌杆(5)，所述反应仓(3)的顶部固定连接有进液管(6)，且所述反应仓(3)的底部固定连接有出液管(7)，所述出液管(7)的底部管口贯穿底板(1)，且所述出液管(7)的管身上安装有阀门。2.根据权利要求1所述的一种带有调节机构的阻垢分散剂加工用反应釜，其特征在于：若干个所述搅拌杆(5)等距分布在电机(4)的输出轴上。3.根据权利要求1所述的一种带有调节机构的阻垢分散剂加工用反应釜，其特征在于：所述电机(4)的两侧均设有气缸(8)，所述气缸(8)固定连接在反应仓(3)的顶部，其关于反应仓(3)的中心轴线呈对称设置，且所述气缸(8)的输出轴贯穿反应仓(3)的顶部，并固定连接有活动板(9)，所述活动板(9)上开设有活动孔(10)，其套设在电机(4)的输出上，且所述活动板(9)外壁上固定连接有刷环(11)，所述刷环(11)远离活动板(9)的一侧设置有刷毛。4.根据权利要求3所述的一种带有调节机构的阻垢分散...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨国强，顾叶龙，杨绿群，章文宝，
申请(专利权)人：常州市三明景辉环保科技有限公司，
类型：新型
国别省市：