一种高硬高强耐磨化合物涂层及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高硬高强耐磨化合物涂层及其制备方法，属于陶瓷化合物涂层制备领域。本方法采用机械混料、高温烧结和感应加热挤压成型相结合的工艺，制备出具有FCC、HCP1和HCP2三相结构的Al

【技术实现步骤摘要】
一种高硬高强耐磨化合物涂层及其制备方法


[0001]本专利技术属于陶瓷化合物涂层制备领域，具体涉及一种高硬高强耐磨化合物涂层及其制备方法。

技术介绍

[0002]材料涂层可有效改善基体的磨损与耐蚀性能，还能有效提升材料的使用性能和寿命。如常见的机械工用的切削刀具，被誉为工业牙齿，涂层刀具则可是为牙齿的保护层，在加工过程中不仅可避免刀具基体材料与被加工工件的直接接触，还能有效保护刀具基体。随着切削加工应用范围的不断拓展，对刀具的性能要求也越来越高。现在的刀具涂层不仅能提高刀具基体的硬度和耐磨性，还能提升刀具的热稳定性、抗氧化性、化学稳定性等特殊性能。物理气相沉积(PVD)技术因沉积温度低、不超过主流刀具基体材料高速钢的回火温度，且因PVD涂层具有高硬度、高耐磨、低摩擦系数和化学稳定性良好的优点，被广泛应用在刀具涂层领域。传统PVD涂层如TiN涂层因与基体性能差异大，易于造成涂层剥落而失效；在此基础上发展的三元涂层(如：TiAlN涂层)，虽然其力学、抗氧化、耐摩擦与切削性能得到改善，但在一些特殊条件下其性能仍未尽人意。PVD涂层性能与其所使用的靶材本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高硬高强耐磨化合物涂层的制备方法，其特征在于所述化合物涂层为(Al
x
Ce
y
CoCrNiO
p
Tb
q
TiY
m
Zr)N，其中0.1≤x≤1.3；0.1≤y≤1；0.1≤p≤0.5；0.1≤q≤1；0.1≤m≤1；0.01<x/(x+y+m+p+q+5)<0.25；0.01<y/(x+y+m+p+q+5)<0.20；0.01<p/(x+y+m+p+q+5)<0.10；0.01<q/(x+y+m+p+q+5)<0.20；0.01<m/(x+y+m+p+q+5)<0.20；且所述涂层所使用的靶材是FCC(面心立方结构、空间群为Fm
‑
3m(225)、点阵常数为1.111609nm)、HCP1(密排六方结构、空间群为P63/mmc(194)、点阵常数为a＝b＝0.515846nm，c＝0.831097nm)和HCP2(密排六方结构、空间群为P63/mmc(194)、点阵常数为a＝b＝0.785922nm，c＝0.779709nm)三相结构的Al
x
Ce
y
CoCrNiO
p
Tb
q
TiY
m
Zr化合物，且所述化合物涂层的制备方法包括以下步骤：(1)按化合物靶材化学式Al
x
Ce
y
CoCrNiO
p
Tb
q
TiY
m
Zr，其中0.1≤x≤1.3；0.1≤y≤1；0.1≤p≤0.5；0.1≤q≤1；0.1≤m≤1；0.01<x/(x+y+m+p+q+5)<0.25；0.01<y/(x+y+m+p+q+5)<0.20；0.01<p/(x+y+m+p+q+5)<0.10；0.01<q/(x+y+m+p+q+5)<0.20；0.01<m/(x+y+m+p+q+5)<0.20，分别称取所需的纯金属...

【专利技术属性】
技术研发人员：王志新，马明星，张志汉，聂绍乾，姚培琳，
申请(专利权)人：郑州启航精密科技有限公司，
类型：发明
国别省市：