调色剂制造技术

本发明专利技术涉及调色剂。一种调色剂，其包括调色剂颗粒，所述调色剂颗粒包括含有粘结剂树脂的核颗粒、和含有无机细颗粒和有机硅聚合物的表层，其中有机硅聚合物具有由R

【技术实现步骤摘要】
调色剂


[0001]本公开涉及用于图像形成方法例如电子照相法的调色剂。

技术介绍

[0002]近年来，对电子照相图像形成装置提出了对于高速化、长寿命化、节能化和小型化更高的要求，并且，响应于这些要求，还要求调色剂的各种特性的进一步改善。在高速化和长寿命化方面，显影装置内的调色剂倾向于经受增加的对例如热和冲击等应力的暴露。结果，为了即使在输出多张图像期间无论使用环境如何均保持良好的图像品质，需要可以将带电性能和耐久性保持在高水平的高耐久性调色剂。
[0003]另一方面，在节能化方面，需要显示优异的低温定影性的调色剂，尽管这通常涉及与高耐久性的折衷。结果，对能够以高水平显示高耐久性和低温定影性二者的调色剂存在更大需求。
[0004]用于解决该问题的一种手段为用树脂覆盖调色剂颗粒的表面的方法。
[0005]作为用硅化合物覆盖调色剂颗粒表面的方法，日本专利申请特开No.H03
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089361记载了将硅烷偶联剂添加至反应体系中的聚合调色剂的生产方法。
[0006]日本专利申请特开No.H09
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种调色剂，其包含调色剂颗粒，所述调色剂颗粒包括含有粘结剂树脂的核颗粒，和含有无机细颗粒和有机硅聚合物的表层，其特征在于所述有机硅聚合物具有由下式(T3)给出的结构：R
‑
Si(O
1/2
)3ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(T3)其中，R表示具有1至6个碳的烷基或苯基；在所述调色剂颗粒的四氢呋喃不溶性物质的
29
Si
‑
NMR测量中，归属于所述由式(T3)给出的结构的峰面积相对于所述有机硅聚合物的总峰面积的比例为至少5.0％；和在使用透射型电子显微镜的对所述调色剂颗粒的截面的观察中，长轴L为穿过所述调色剂颗粒的几何中心并且具有所述调色剂颗粒的截面中的最长直径的弦，线段a为将所述长轴L在其中点处分割时的线段之一，Arn分别为以所述线段a作为基准每次偏移11.25
°
而从所述长轴L的中点至所述调色剂颗粒的表面为止绘制的32条线段，n＝1至32，RAn为各所述线段的长度，n＝1至32，和FRAn为所述Arn上的表层的厚度，n＝1至32，在按照下式(1)来定义的Dtem在调色剂颗粒重均粒径
±
10％的范围内的调色剂颗粒的截面中，(i)所述表层的平均厚度Dav.为5.0至100.0nm，(ii)所述FRAn不超过5.0nm的Arn线段的比例不超过20.0％，(iii)所述表层中与所述核颗粒接触的无机细颗粒的数量为每1个调色剂颗粒16个至30个，和(iv)在100个所述Dtem在调色剂颗粒重均粒径
±
10％的范围内的调色剂颗粒中，包含至少一个存在于所述核颗粒中并且不与所述表层接触的无机细颗粒的调色剂颗粒的比例不超过10％：Dtem＝(RA1+RA...

【专利技术属性】
技术研发人员：川口新太郎，田中正健，佐伯达也，佐藤正道，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：