【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用机械滤波器的量测装置和方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求2019年4月29日提交的题为METROLOGY APPARATUS AND METHOD USING MECHANICAL FILTER的美国申请号62/839,922的优先权，该申请通过引用整体并入本文。
[0003]所公开的主题涉及一种量测装置和方法，其使用机械滤波器来区分极紫外光源中的两种类型的光。
技术介绍
[0004]在半导体光刻技术(或光刻)中，集成电路(IC)的制造包括在半导体(例如，硅)基板(也称为晶片)上执行各种物理和化学过程。光刻曝光设备或扫描仪是将所需图案应用到基板的目标部分上的机器。晶片被沿轴向延伸的光束照射，并且晶片被固定到工作台上，使得晶片通常沿着基本上垂直于轴向的横向平面延伸。光束可以具有在紫外(UV)范围内的波长，例如，从约10纳米(nm)到约400nm，并且具体地在深UV(DUV)范围内，从约100nm到约400nm，或者在极紫外(EUV)范围内，小于约100nm(或约50nm或更小，并且...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种量测装置，包括：诊断装置，被配置为在当前目标进入目标空间之前在诊断区域处使诊断探针与所述当前目标进行交互；检测装置，包括：光传感器，所述光传感器具有与所述诊断区域重叠的视场并且被配置为感测从所述诊断区域处的所述诊断探针与所述当前目标之间的所述交互产生的光；以及机械滤波器，所述机械滤波器在所述诊断区域和所述光传感器之间，所述机械滤波器包括光束缩减器和光学掩模，所述光学掩模限定被定位于所述光束缩减器和所述光传感器之间的孔；以及控制系统，所述控制系统与所述检测装置通信并且被配置为基于来自所述光传感器的输出来估计所述当前目标的属性。2.根据权利要求1所述的量测装置，其中所述机械滤波器被配置为将从所述诊断区域发射的诊断光与从所述目标空间发射的非诊断光成角度地分开，其中所述诊断光由所述诊断区域处的所述当前目标与所述诊断探针之间的交互产生。3.根据权利要求2所述的量测装置，其中非诊断光包括从由所述目标空间中的先前目标产生的等离子体发射的光。4.根据权利要求2所述的量测装置，其中所述孔的横向范围与所述光学掩模的平面中的所述诊断光的横向范围大约相同或者大于所述光学掩模的所述平面中的所述诊断光的横向范围，并且所述光学掩模的横向范围与所述光学掩模的所述平面中的所述非诊断光的横向范围大约相同或者大于所述光学掩模的所述平面中的所述非诊断光的横向范围。5.根据权利要求2所述的量测装置，其中所述光学掩模被定位成使得从所述目标空间发射的所述非诊断光基本上被所述光学掩模阻挡，而所述诊断光基本上穿过所述孔。6.根据权利要求1所述的量测装置，其中所述机械滤波器包括光学准直器，所述光学准直器在所述诊断区域和所述光束缩减器之间。7.根据权利要求6所述的量测装置，其中所述光束缩减器是无焦光束缩减器，并且被配置为与所述光学准直器结合将有限物体投影到无限远。8.根据权利要求6所述的量测装置，其中所述光学准直器和所述光束缩减器的最接近所述光学准直器的、具有正焦距的部件被集成到单个折射元件中。9.根据权利要求6所述的量测装置，其中所述光束缩减器被配置为保持光的经准直状态。10.根据权利要求1所述的量测装置，其中所述光传感器包括以下一项或多项：光电二极管、光电晶体管、光敏电阻器、光电倍增管、多单元光电接收器、四单元光电接收器和相机。11.根据权利要求1所述的量测装置，其中所述诊断探针包括至少一个诊断光束，并且所述光传感器被配置为感测从所述当前目标和所述至少一个诊断光束之间的所述交互产生的诊断光。12.根据权利要求11所述的量测装置，其中所述诊断光包括从所述当前目标反射、从所述当前目标散射或由所述当前目标阻挡的所述诊断光束。13.根据权利要求1所述的量测装置，其中所述检测装置还包括光谱滤波器和偏振滤波
器中的一个或多个。14.根据权利要求1所述的量测装置，其中所述诊断探针包括第一诊断光束和第二诊断光束，每个诊断光束被配置为在所述当前目标进入所述目标空间之前与所述当前目标交互，每次交互发生在不同的区域和不同的时间。15.根据权利要求1所述的量测装置，其中所述光束缩减器包括折射望远镜、反射望远镜或折反射望远镜。16.根据权利要求15所述的量测装置，其中所述折射望远镜包括：正焦距透镜装置和负焦距透镜装置，所述正焦距透镜装置和所述负焦距透镜装置被分开所述正焦距透镜装置和所述负焦距透镜装置的焦距的和；或者一对正焦距透镜装置，所述一对正焦距透镜装置被分开所述一对正焦距透镜装置...
【专利技术属性】
技术研发人员：P，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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