一种出水均匀的刻蚀水膜喷淋装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及光伏电池的生产技术领域，具体揭示了一种出水均匀的刻蚀水膜喷淋装置，包括安装框，安装框内壁的顶部安装有溢水槽，溢水槽底部右侧的中央固定连接有一号管，溢水槽内壁的右侧安装有浸水槽，浸水槽内壁正面和背面之间靠近顶部的位置沿水平面等距离安装有滚轮，浸水槽底部的中央安装有二号管，二号管的底部延伸至溢水槽的底部，一号管的另一端固定连接于二号管右侧靠近底部的位置；本实用新型专利技术通过设置的分流框和导流管，配合设置的固定筒、喷头和出水头，使得水流能够通过分流框传输到导流管，再通过导流管以及固定筒能够传输到喷头且能够通过出水头均匀的喷淋在硅片的表面，能够均匀出水对硅片进行清洗。能够均匀出水对硅片进行清洗。能够均匀出水对硅片进行清洗。

【技术实现步骤摘要】
一种出水均匀的刻蚀水膜喷淋装置


[0001]本技术涉及光伏电池的生产
，具体涉及了一种出水均匀的刻蚀水膜喷淋装置。

技术介绍

[0002]刻蚀技术，是在半导体工艺，按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性腐蚀或剥离的技术，目前太阳能电池行业刻蚀水洗均以喷淋水洗为主，喷淋对于硅片有冲洗作用，可增加清洗效果，但是常规喷头喷出的水柱只能单对硅片的某一个区域进行冲洗，容易造成硅片部分区域未喷淋水洗，导致硅片清理不彻底，而且在喷淋的过程中需要一直对喷头进行供水，浪费水源的同时很不环保。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的不足，本技术提供一种出水均匀的刻蚀水膜喷淋装置，具备均匀出水以及循环用水等优点，解决了常规喷头清理硅片不彻底以及浪费水源的问题。
[0004]本技术的出水均匀的刻蚀水膜喷淋装置，包括安装框，所述安装框内壁的顶部安装有溢水槽，所述溢水槽底部右侧的中央固定连接有一号管，所述溢水槽内壁的右侧安装有浸水槽，所述浸水槽内壁正面和背面之间靠近顶部的位置沿水平面等距离安装有滚轮，所述浸水槽底部的中央本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种出水均匀的刻蚀水膜喷淋装置，包括安装框(1)，其特征在于：所述安装框(1)内壁的顶部安装有溢水槽(2)，所述溢水槽(2)底部右侧的中央固定连接有一号管(22)，所述溢水槽(2)内壁的右侧安装有浸水槽(3)，所述浸水槽(3)内壁正面和背面之间靠近顶部的位置沿水平面等距离安装有滚轮(31)，所述浸水槽(3)底部的中央安装有二号管(32)，所述二号管(32)的底部延伸至溢水槽(2)的底部，所述一号管(22)的另一端固定连接于二号管(32)右侧靠近底部的位置，所述二号管(32)与一号管(22)内部连通，所述浸水槽(3)左侧的顶部设置有溢水口(34)，所述浸水槽(3)左侧靠近顶部的中央位置固定连接有进水管(33)，所述二号管(32)的底部固定连接有过滤箱(4)，所述过滤箱(4)的内部安装有滤板(41)，所述过滤箱(4)右侧靠近底部的中央位置固定连接有三号管(42)，所述安装框(1)内壁底部且在过滤箱(4)右侧的位置安装有水泵(5)，所述三号管(42)的另一端固定连接于水泵(5)的抽水口，所述水泵(5)的出水口固定连接有四号管(51)，所述四号管(51)的另一端固定连接有五号管(6)，所述五号管(6)的底部固定连接有喷淋结构...

【专利技术属性】
技术研发人员：张敏，冯晓军，吴群峰，
申请(专利权)人：安徽英发睿能科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：