【技术实现步骤摘要】
一种基于超透镜的晶圆级光学成像系统
[0001]本技术涉及晶圆级光学成像领域,更具体的说,涉及基于超透镜的晶圆级光学成像系统。
技术介绍
[0002]随着科技的发展,光学成像系统在消费电子、安防监控、智能家居、军事防务和医疗成像领域有着越发重要的应用。现有光学成像系统由传统光学镜头、机械镜筒以及光学探测器模组构成。然而,传统光学成像系统具有体积大、重量沉、校准复杂、不易集成等缺点,难以满足当代小型化设备对高集成化设计的需求。
技术实现思路
[0003]针对上述技术问题,本技术实施例提供了一种基于超透镜的晶圆级光学成像系统。
[0004]本本技术解决其技术问题所采用的技术方案是:
[0005]一种基于超透镜的晶圆级光学成像系统,包括:
[0006]超透镜层,包括若干个周期排列的超透镜,所述超透镜包含基板与设置于所述基板上的超表面结构单元;
[0007]图像传感器模块层,包括若干个与所述超透镜层排列相同的图像传感器模块,其成像面朝向所述超透镜层;
[0008]间隔层,设置于 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基于超透镜的晶圆级光学成像系统,其特征在于,包括:超透镜层,包括若干个周期排列的超透镜,所述超透镜包含基板与设置于所述基板上的超表面结构单元;图像传感器模块层,包括若干个与所述超透镜层排列相同的图像传感器模块,其成像面朝向所述超透镜层;间隔层,设置于所述超透镜层与所述图像传感器模块层之间,包若干个与所述超透镜层排列相同的中空间隔。2.根据权利要求1所述的基于超透镜的晶圆级光学成像系统,其特征在于,所述超表面结构单元对入射光的偏振不敏感。3.根据权利要求1所述的基于超透镜的晶圆级光学成像系统,其特征在于,所述超表面结构单元为正六边形或正四边形,所述超表面结构单元的中心位置分别设有纳米结构;所述超表面结构单元不同位置处的单元周期相同;所述纳米结构为纳米柱结构;所述纳米柱结构包括圆形纳米柱结构、圆孔纳米柱结构、中空纳米柱结构、环孔纳米柱结构、拓扑纳米柱结构中的一种或几种。4.根据权利要求3所述的基于超透镜的晶圆级光学成像系统,其特征在于,所述纳米结构的材料为目标波段处透明的材料,所述纳米结构的高度为0.3
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25μm;优选地,所述纳米结构的材料为氧化硅、氮化硅、氧化铝、氮化镓、氧化钛、晶体硅、硫系玻璃、锗单晶、非晶硅、硫化锌和硒化锌中的一种。5.根据权利要求1所述的基于超透镜的晶圆级光学成像系统,其特征在于,所述基板的材料为目标波段...
【专利技术属性】
技术研发人员:郝成龙,谭凤泽,朱健,
申请(专利权)人:深圳迈塔兰斯科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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