一种光栅及其特性调整方法、设备技术

本申请提供一种光栅及其特性调整方法、设备，用以实现对光栅的特性的调整，从而可以降低光栅的制造成本和维护成本。其中，所述光栅具有如下特征：至少一个波导区中的光波导的折射率能够发生改变，阵列波导区中的光波导能够消除。因此，光栅管理设备可以通过光栅进行处理，改变目标波导区中的光波导的折射率，和/或，消除阵列波导区中的部分光波导，从而使得所述光栅的通道间隔、输入衍射峰的谱宽和输出衍射峰的谱宽中的至少一项发生改变，最终实现改变所述光栅的特性。进一步的，通过生产和使用该光栅可以降低光栅的制造成本和维护成本。用该光栅可以降低光栅的制造成本和维护成本。用该光栅可以降低光栅的制造成本和维护成本。

【技术实现步骤摘要】
一种光栅及其特性调整方法、设备


[0001]本申请涉及光通信
，尤其涉及一种光栅及其特性调整方法、设备。

技术介绍

[0002]在光通信
中，分波模块和合波模块是波分网络中的重要模块，主要用于光终端复用器(optical terminal multiplexer，OTM)站点。分波模块主要用于将一路具有较多频率分量的光信号(简称为合波光信号)，分离成至少一路主要频率分量不同的光信号(简称为分波光信号)。合波模块的作用与所述分波模块的作用相反，主要用于将至少一路主要频率分量不同的光信号，合成一路具有较多频率分量的光信号。
[0003]其中，分波模块和合波模块主要通过光栅，例如阵列波导光栅(arrayed waveguide grating，AWG)实现。
[0004]目前，由于组成AWG的光波导是通过二氧化硅或硅材料制作而成，其光传输参数是固定的，因此，AWG的通道间隔(或者输入衍射峰的谱宽，或者输出衍射峰的谱宽)也是固定的。
[0005]目前波分网络中常用多种通道间隔的光栅，例如，通道间隔为50GHz的光栅、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光栅，其特征在于，包括：第一光波导区、第二光波导区以及由多个光波导组成的阵列波导区；所述第一光波导区与阵列波导区相连；所述第二光波导区与阵列波导区相连；所述光栅具有以下任一项或任意组合的特征：所述第一光波导区中的光波导的折射率能够改变，所述第二光波导区中的光波导的折射率能够改变，所述阵列波导区中的光波导的折射率能够改变，所述阵列波导区中的光波导能够消除。2.如权利要求1所述的光栅，其特征在于，所述光栅为阵列波导光栅。3.如权利要求1或2所述的光栅，其特征在于，所述第一光波导区为所述光栅的输入自由传输波导区、输入平板波导区或输入星形耦合区中的任一种；所述第二光波导区为所述光栅的输出自由传输波导区、输出平板波导区或输出星形耦合区中的任一种。4.如权利要求1至3任一项所述的光栅，其特征在于，所述第一光波导区、所述第二光波导区以及所述阵列波导区中任一项或任意组合中的光波导由光材料制成，所述光材料为液晶材料、电光材料，或磁流体材料。5.如权利要求4所述的光栅，其特征在于，所述光栅还包括：刻槽层；所述刻槽层中刻蚀有与所述第一光波导区、第二光波导区以及所述阵列波导区中任一项或任意组合的光波导对应的槽；所述刻槽层用于形成所述第一光波导区、第二光波导区以及所述阵列波导区中任一项或任意组合的光波导的包层。6.如权利要求1至5任一项所述的光栅，其特征在于，所述光栅还包括控制部件；所述控制部件，用于改变所述目标波导区中的光波导的折射率，和/或，消除所述阵列波导区中的部分光波导；其中，所述目标波导区为所述第一光波导区、所述第二光波导区或所述阵列波导区中的任一项或任意组合。7.如权利要求6所述的光栅，其特征在于，所述控制部件包括电极层；所述电极层用于提供电压或电场，使得所述光栅实现以下至少一项变化：改变所述目标波导区中的光波导的折射率，消除所述阵列波导区中的部分光波导。8.如权利要求7所述的光栅，其特征在于，所述电极层中包含以下任一项或任意组合：所述第一光波导区中的光波导对应的电极区；所述第二光波导区中的光波导对应的电极区；所述阵列波导区中的光波导对应的电极区。9.如权利要求6至8任一项所述的光栅，其特征在于，所述控制部件包括磁极层；所述磁极层用于提供磁场，使得所述光栅实现以下至少一项变化：改变所述目标波导区中的光波导的折射率，消除所述阵列波导区中的部分光波导。10.如权利要求9所述的光栅，其特征在于，所述磁极层中包含以下任一项或任意组合：所述第一光波导区中的光波导对应的磁极区；所述第二光波导区中的光波导对应的磁极区；所述阵列波导区中的光波导对应的磁极区。11.如权利要求6至10任一项所述的光栅，其特征在于，所述控制部件包括温度控制层；所述温度控制层用于提供温度，使得所述光栅实现以下至少一项变化：改变所述目标波导区中的光波导的折射率，消除所述阵列波导区中的部分光波导。
12.如权利要求11所述的光栅，其特征在于，所述温度控制层中包含以下任一项或任意组合：所述第一光波导区中的光波导对应的温度控制区；所述第二光波导区中的光波导对应的温度控制区；所述阵列波导区中的光波导对应的温度控制区。13.如权利要求5所述的光栅，其特征在于，所述光栅还包括：覆层；所述覆层用于密封所述光材料。14.如权利要求1至13任一项所述的光栅，其特征在于，所述光栅实现所述任一项或任意组合的特征时，使得所述光栅的通道间隔、所述光栅的输入衍射峰的谱宽及所述光栅的输出衍射峰的谱宽中的任一种或多种发生改变。15.一种光交叉复用器，其特征在于，包括：光交叉阵列或光开关阵列，至少一个如权利要求1至14中任一项所述的光栅；所述至少一个光栅与所述光交叉阵列或光开关阵列相连。16.一种光栅特性调整方法，其特征在于，所述光栅具有第一光波导区、第二光波导区，由多个光波导组成的阵列波导区；所述第一光波导区与阵列波导区相连；所述第二光波导区与阵列波导区相连；所述方法包括：获取光栅特性的目标取值，其中，所述光栅特性包含通道间隔、输入衍射峰的谱宽和输出衍射峰的谱宽中的任一种或多种；根据所述光栅特性的目标取值，对所述光栅进行处理，以使所述光栅发生以下任一项或多项变化：改变目标波导区中的光波导的折射率，消除所述阵列波导区中的部分光波导；其中，所述目标波导区为所述第一光波导区、所述第二光波导区或所述阵列波导区中的任一项或任意组合。17.如权利要求16中所述的方法，其特征在于，所述光栅还包括控制部件；根据所述光栅特性的目标取值，对所述光栅进行处理，包括：根据所述光栅特性的目标取值，对所述控制部件进行处理，以使所述光栅发生以下任一项或多项变化：改变目标波导区中的光波导的折射率，消除所述阵列波导区中的部分光波导。18.如权利要求17所述的方法，其特征在于，所述控制部件为电极层；根据所述光栅特性的目标取值，对所述控制部件进行处理，包括：根据所述光栅特性的目标取值，对所述电极层供电，以使所述电极层为所述光栅提供电压或电场。19.如权利要求18所述的方法，其特征在于，当所述光栅的发生的变化包含：改变目标波导区中的光波导的折射率时，根据所述光栅特性的目标取值，对所述电极层供电，包括：根据所述光栅特性的目标取值，确定所述目标波导区的目标折射率；根据所述目标波导区的目标折射率，确定所述电极层的目标电压；根据所述目标电压，对所述电极层供电，以使所述电极层为所述目标波导区中的光波导提供电压或电场。20.如权利要求19所述的方法，其特征在于，所述电极层中包含所述目标波导区中光波导对应的电极区；根据所述目标电压，对所述电极层供电，以使所述电极层为所述目标波导区中的光波导提供电压或电场，包括：
根据所述目标电压，对所述电极层中所述目标波导区内的光波导对应的电极区供电，以使所述电...

【专利技术属性】
技术研发人员：操时宜，常志武，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：