光刻制造双面触摸传感器的方法技术

一种在衬底的两个表面上具有导电电路的触摸传感器是通过在所述衬底中包含UV阻挡材料或在所述衬底上沉积UV阻挡层来制造的。这可用于制造具有透明导体电路或具有对可见光不透明的金属电路的传感器。将光刻胶施加到所述衬底的两个表面上，且通过曝光于UV辐射将图案转印到所述光刻胶。所述UV阻挡层防止施加到一侧的UV辐射曝光相对侧。如果需要，可通过分开一个UV光束来同时曝光两个光刻胶层。一个UV光束来同时曝光两个光刻胶层。一个UV光束来同时曝光两个光刻胶层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光刻制造双面触摸传感器的方法


[0001]本公开的实施例大体上涉及启用触摸屏的系统。更具体来说，本公开的实施例涉及具有导电微网的触摸屏。

技术介绍

[0002]启用触摸屏的系统允许用户通过屏幕上的手指触摸或触控笔控制系统的各个方面。用户可通过由触摸传感器感测到的触摸或触控笔来与显示装置上所描绘的一个或多个对象直接地交互。触摸传感器通常包含安置于配置成感测触摸的衬底上的导电图案。触摸屏通常用于消费者、商业以及工业系统。
[0003]对于需要在透明衬底的两侧上精确对准电路的触摸屏应用，可使用双面光刻方法来同时对电路进行光刻图案化。然而，考虑到衬底和某些导体材料(如氧化铟锡(indium
‑
tin
‑
oxide，ITO))的光学透明特性，通常不可能考虑用以曝光材料的一侧的光也将曝光另一侧。代替仅在衬底的一侧上的唯一图案，相同的图案也将出现在相对侧上。
[0004]一种用于解决这一问题的方法是使用两个单独的衬底。将唯一图案曝光于个别衬底上，对准两个图案化的衬底，且用光学透明(clear)黏著层连接衬底本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种制造具有导电线的触摸传感器的方法，其包括：将UV阻挡层施加到透明衬底的第一表面，所述UV阻挡层对于UV辐射是不透明的；在所述UV阻挡层上方施加第一光刻胶层；在所述透明衬底的第二表面上方施加第二光刻胶层；使用UV辐射光图案化所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层；显影所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层；根据由所述第一光刻胶层形成的图案在所述第一表面上方形成第一金属电路；以及，根据由所述第二光刻胶层形成的图案在所述第二表面上方形成第二金属电路。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述UV阻挡层在315纳米到400纳米的电磁光谱区域中形成为不透明的。3.根据权利要求2所述的方法，其中所述UV阻挡层通过混合聚合物粘合剂溶剂组合物中的至少一种来形成：2,2亚甲基双[6
‑
(2H
‑
苯并三唑
‑2‑
基
‑
4(1,1,3,3
‑
四甲基丁基)苯酚]、2,2,
‑
亚苯基双
‑
4H
‑
3,1
‑
苯并恶嗪
‑4‑
酮，以及2
‑
(4,6
‑
双
‑
(2,4
‑
二甲基苯基)
‑
1,3,5
‑
三嗪
‑2‑
基)5
‑
(辛氧基)
‑
苯酚。4.根据权利要求3所述的方法，其中所述聚合物粘合剂溶剂组合物是以下中的一种：丙烯酸、环氧树脂、氨基甲酸酯或酯功能材料。5.根据权利要求4所述的方法，其中所述混合包括混合按重量计百分之0.01到百分之4的UV阻挡材料。6.根据权利要求4所述的方法，其中所述混合包括混合20％到25％的固体聚合物和3％到4％的UV吸收剂材料。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一金属电路和所述第二金属电路由透明导体材料形成。8.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一金属电路和所述第二金属电路由在可见光谱中不透明的金属导体材料形成。9.根据权利要求8所述的方法，其中所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层包括具有在光刻胶材料中所混合的催化剂纳米粒子的催化剂光刻胶。10.根据权利要求9所述的方法，其进一步包括在施加所述第二光刻胶层之前，在所述透明衬底的所述第二表面上形成隔离光刻胶层。11.根据权利要求9所述的方法，其进一步包括在施加所述第一光刻胶层之前，在所述UV阻挡层上形成隔离光刻胶层。12.根据权利要求1所述的方法，其中光图案化包括同时将所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层曝光于UV辐射。13.根据权利要求1所述的方法，其中在干燥后所述UV阻挡层形成为具有至少5微米的厚度。14.一种制造具有导电线的触摸传感器的方法，其包括：通过将UV阻挡材料混合到透明衬底材料中形成透明衬底，所述UV阻挡层对于UV辐射是不透明的；在所述透明衬底的第一表面上方施加第一光刻胶层；
在所述透明衬底的第二表面上方施加第二光刻胶层；使用UV辐射光图案化所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层；显影所述第一光刻胶层和所述第二光刻胶层；根据由所述第一光刻胶层形成的图案在所述第一表面上方形成第一金属电路；以及，根据由所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗伯特，
申请(专利权)人：江苏软讯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：