幕布的制备方法、装置、设备及存储介质制造方法及图纸

技术编号:31078278 阅读:16 留言:0更新日期:2021-12-01 11:31
本发明专利技术涉及幕布制备技术领域,具体涉及一种幕布的制备方法、装置、设备及存储介质。所述幕布的制备方法包括:步骤S1:获取待打印吸光体在幕布基材上的分布位置信息;步骤S2:按照所述分布位置信息,在所述幕布基材上打印生成所述待打印吸光体。通过按照待打印吸光体的分布位置信息,在幕布基材上打印生成多个待打印吸光体,能够减少幕布制备过程中产生的废料,进而减小制备幕布对环境的损害。进而减小制备幕布对环境的损害。进而减小制备幕布对环境的损害。

【技术实现步骤摘要】
幕布的制备方法、装置、设备及存储介质


[0001]本专利技术涉及幕布制备
,具体涉及一种幕布的制备方法、装置、设备及存储介质。

技术介绍

[0002]幕布为与投影仪配合使用的部件。在投影仪使用过程中,通常会向幕布投射各中颜色的光以形成影像。幕布通过反射投影仪投射的光,能够形成可供人们观看的影像。
[0003]随着技术的不断发展,投影仪的种类越来越多,与投影仪配套使用的幕布种类也在逐渐增加。现有幕布包括能够形成3D影像的3D投影幕布、能够与短焦投影仪配合使用的短焦幕布和具有抗光功能的幕布等。
[0004]其中,幕布中通常包含用于吸光的待打印吸光体。通过待打印吸光体对环境光的吸收作用,能够减少环境光对幕布显示影像的干扰,实现抗光目的。现有技术中,常常采用采用沉积、化学腐蚀、静电吸附等方法在制备幕布的幕布基材上生成待打印吸光体,以形成幕布中的用于吸光的待打印吸光体,这些制备方法不仅效率低、工艺复杂,而且污染严重、会产生大量不环保废料。

技术实现思路

[0005]本专利技术实施例提供了一种幕布的制备方法、装置、设备及存储介质,该幕布的制备方法、装置、设备及存储介质能够在一定程度上减小制备幕布过程中对环境的损害。
[0006]一方面,本专利技术实施例提供了一种幕布的制备方法,所述方法包括:
[0007]步骤S1:获取待打印吸光体在幕布基材上的分布位置信息;
[0008]步骤S2:按照所述分布位置信息,在所述幕布基材上打印生成所述待打印吸光体。
[0009]在本专利技术提供的一种实施例中,所述幕布基体的待打印面上设有多个所述待打印吸光体;
[0010]步骤S1包括:
[0011]步骤S11:获取所述待打印吸光体在所述待打印面上的占空比;
[0012]步骤S12:利用所述占空比,获取所述各所述待打印吸光体在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息。
[0013]在本专利技术提供的一种实施例中,其特征在于步骤S11还包括:
[0014]步骤S111:获取由所述幕布基材制备形成的幕布显示面的反光率;
[0015]步骤S112:根据所述反光率,获取所述待打印吸光体在所述待打印面上的占空比。
[0016]在本专利技术提供的一种实施例中,所述待打印吸光体包括由喷射在所述幕布基材待打印面上的墨滴固化形成的墨点;
[0017]步骤S12包括:
[0018]步骤S121:获取所述墨点在所述幕布基材的待打印面上的尺寸参数;
[0019]步骤S122:根据所述占空比与所述墨点的尺寸参数,确定墨点密度,所述墨点密度
为单位面积区域中的墨点数量;
[0020]步骤S123:利用所述墨点密度,获取所述各所述墨点在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息。
[0021]在本专利技术提供的一种实施例中,步骤S123还包括:利用半色调算法与所述墨点密度,获取所述各所述墨点在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息。
[0022]在本专利技术提供的一种实施例中,所述墨点的高度为20微米-500微米;
[0023]步骤S2包括:利用所述分布位置信息,在所述幕布基材上打印生成出高度为20微米-500微米的多个所述待打印吸光体。
[0024]在本专利技术提供的一种实施例中,所述幕布基体的待打印面上设有多个所述待打印吸光体;
[0025]步骤S2包括:
[0026]步骤S27:针对所述幕布基材的待打印面上任一所述待打印吸光体,根据该待打印吸光体在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息,运行到该待打印吸光体在所述待打印面上的位置上方;
[0027]步骤S28:向所述待打印面上该待打印吸光体所在位置处,喷射生成待打印吸光体的液体;
[0028]步骤S29:对喷射的所述液体进行固化,以形成该待打印吸光体,进而在所述幕布基材上打印生成各所述待打印吸光体。
[0029]一方面,本专利技术一实施例还提供了一种幕布的制备装置,所述装置包括:
[0030]获取模块,用于获取待打印吸光体在幕布基材上的分布位置信息;
[0031]打印模块,用于按照所述分布位置信息,在所述幕布基材上打印生成所述待打印吸光体。
[0032]在本专利技术提供的一种实施例中,所述幕布基体的待打印面上设有多个所述待打印吸光体;
[0033]获取模块包括:第一获取子模块和第二获取子模块;
[0034]第一获取子模块,用于获取所述待打印吸光体在所述待打印面上的占空比;
[0035]第二获取子模块,用于利用所述占空比,获取所述各所述待打印吸光体在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息。
[0036]在本专利技术提供的一种实施例中,第一获取子模块包括:第一获取单元和第二获取单元;
[0037]第一获取单元,用于获取由所述幕布基材制备形成的幕布显示面的反光率;
[0038]第二获取单元,用于根据所述反光率,获取所述待打印吸光体在所述待打印面上的占空比。
[0039]在本专利技术提供的一种实施例中,所述待打印吸光体包括由喷射在所述幕布基材待打印面上的墨滴固化形成的墨点;
[0040]第二获取子模块包括:第三获取单元、确定单元、第四获取单元;
[0041]第三获取单元,用于获取所述墨点在所述幕布基材的待打印面上的尺寸参数;
[0042]确定单元,用于根据所述占空比与所述墨点的尺寸参数,确定墨点密度,所述墨点密度为单位面积区域中的墨点数量;
[0043]第四获取单元,用于利用所述墨点密度,获取所述各所述墨点在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息。
[0044]在本专利技术提供的一种实施例中,第四获取单元,还用于利用半色调算法与所述墨点密度,获取所述各所述墨点在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息。
[0045]在本专利技术提供的一种实施例中,所述墨点的高度为20微米-500微米;
[0046]打印模块,还用于利用所述分布位置信息,在所述幕布基材上打印生成出高度为20微米-500微米的多个所述待打印吸光体。
[0047]在本专利技术提供的一种实施例中,所述幕布基体的待打印面上设有多个所述待打印吸光体;
[0048]打印模块包括:运行子模块、第一喷射子模块和第一固化子模块;
[0049]运行子模块,用于针对所述幕布基材的待打印面上任一所述待打印吸光体,根据该待打印吸光体在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息,运行到该待打印吸光体在所述待打印面上的位置上方;
[0050]第一喷射子模块,用于向所述待打印面上该待打印吸光体所在位置处,喷射生成待打印吸光体的液体;
[0051]第一固化子模块,用于对喷射的所述液体进行固化,以形成该待打印吸光体,进而在所述幕布基材上打印生成各所述待打印吸光体。
[0052]一方面,本专利技术一实施例提供了一种幕布的制备设备,所述设备包括:
[0053]至少一个处理器;以及
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种幕布的制备方法,其特征在于,所述方法包括:步骤S1:获取待打印吸光体在幕布基材上的分布位置信息;步骤S2:按照所述分布位置信息,在所述幕布基材上打印生成所述待打印吸光体。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述幕布基体的待打印面上设有多个所述待打印吸光体;步骤S1包括:步骤S11:获取所述待打印吸光体在所述待打印面上的占空比;步骤S12:利用所述占空比,获取所述各所述待打印吸光体在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于步骤S11还包括:步骤S111:获取由所述幕布基材制备形成的幕布显示面的反光率;步骤S112:根据所述反光率,获取所述待打印吸光体在所述待打印面上的占空比。4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述待打印吸光体包括由喷射在所述幕布基材待打印面上的墨滴固化形成的墨点;步骤S12包括:步骤S121:获取所述墨点在所述幕布基材的待打印面上的尺寸参数;步骤S122:根据所述占空比与所述墨点的尺寸参数,确定墨点密度,所述墨点密度为单位面积区域中的墨点数量;步骤S123:利用所述墨点密度,获取所述各所述墨点在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息。5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,步骤S123还包括:利用半色调算法与所述墨点密度,获取所述各所述墨点在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息。6.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄中琨任建平覃勇陈艳
申请(专利权)人:深圳市汉森软件有限公司
类型:发明
国别省市:

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