磁流变抛光液及其制备方法技术

本发明专利技术是磁流变抛光液及其制备方法，磁流变抛光液（体积百分比）由磁性颗粒（３０％～４０％）、纯净水４５％～５５％、添加剂５％～１０％、表面活性剂３％～５％和抛光粉５％～８％组成。制备中先对磁性颗粒进行表面净化和活化处理，通过高速球磨对磁性颗粒表面处理。本发明专利技术制备的磁流变抛光液具有水解作用，制作方法简单，有良好的抗沉降团聚稳定性能、较低的零场粘度，抛光效率高，效果好，使用寿命长，适于光学抛光。解决了磁流变抛光液粘度大，磁化强度弱，易结块，沉降团聚不稳定，易生锈，使用寿命短及效率低的问题。本发明专利技术制备的磁流变抛光液抛光效率高，在３０分钟内可使Ｋ９玻璃表面粗糙度从４００ｎｍ达到０．６ｎｍ。可广泛用于光学玻璃的超光滑表面抛光。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种磁流变抛光液，其特征在于：是由磁性颗粒、纯净水、添加剂、表面活性剂和抛光粉组成，其体积百分比为：磁性颗粒３０％～４０％纯净水４５％～５５％添加剂５％～１０％表面活性剂３％～５％抛光粉５％～８％其中磁性颗粒为铁粉悬浮相，平均粒度≤３．５ｕｍ，添加剂为稳定剂。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘卫国，王红军，田爱玲，郭忠达，杭凌侠，陈智利，刘丙才，
申请(专利权)人：西安工业大学，
类型：发明
国别省市：87[中国|西安]