一种半导体清洁烤箱制造技术

技术编号:31040583 阅读:11 留言:0更新日期:2021-11-30 05:44
本实用新型专利技术公开了一种半导体清洁烤箱,具有:箱体;侧壁,设置在箱体的侧面上;门体,铰接在箱体的正面上;顶盖固定安装在箱体的上表面上;窗口,设置在顶盖上;百叶窗,转动安装在窗口上,百叶窗能够打开或封闭窗口,可根据实际烘烤的产品特点,调节烤箱的降温速度,既保证了部件的安全性,又大大提高了效率。又大大提高了效率。又大大提高了效率。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体清洁烤箱


[0001]本技术属于半导体和面板
,尤其涉及一种半导体清洁烤箱。

技术介绍

[0002]在半导体和面板的洗净行业中,越来越多的使用到高温烤箱,原因是半导体设备、面板设备会使用到各种各样的材质,比如不锈钢、钛合金、陶瓷等,而半导体、LCD及OLED的制程工艺很繁多,表面沉积的产物复杂,并且像陶瓷这样的材料具有微观上的多孔结构,表面的产物会慢慢渗透进陶瓷内部,造成洗净行业中,使用一般的化学浸泡难以彻底去除。高温烤箱就是用来对一些特殊部件进行一定温度的持续烘烤,表面的产物通过高温氧化、挥发等方式去除,以达到去除彻底或者是节省人工成本的目的。
[0003]在实现本技术的过程中,专利技术人发现现有技术至少存在以下问题:通常的高温烤炉,就是根据实际需要处理的产品的尺寸、数量,设计好容积大小,根据烘烤作业需要达到的温度,设计好内部支撑、保温材料和结构,一般分为箱式和阱式烘箱。无论哪种,都是周围箱体是整体结构,工作时密闭的设计。这种设计对于传统的陶瓷部件烘烤很安全(陶瓷在高温状态不能承受温度突变,易发生断裂),但是降温过程十分缓慢,通常从1000℃降温到50℃需要48小时,效率十分低。

技术实现思路

[0004]本技术所要解决的技术问题是提供一种可根据实际烘烤的产品特点,调节烤箱的降温速度,既保证了部件的安全性,又大大提高了效率的半导体清洁烤箱。
[0005]为了解决上述技术问题,本技术所采用的技术方案是:一种半导体清洁烤箱,具有:
[0006]箱体;
[0007]侧壁,设置在所述箱体的侧面上;
[0008]门体,铰接在所述箱体的正面上;
[0009]顶盖固定安装在所述箱体的上表面上;
[0010]窗口,设置在所述顶盖上;
[0011]百叶窗,转动安装在所述窗口上,所述百叶窗能够打开或封闭所述窗口。
[0012]还设有联动结构,所述联动结构连接所述百叶窗的各个扇叶。
[0013]所述窗口面积占整个顶盖75%;所述百叶窗共有10个扇叶。
[0014]所述扇叶能够在0
°
~90
°
之间转动。
[0015]上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点或有益效果,可根据实际烘烤的产品特点,调节烤箱的降温速度,既保证了部件的安全性,又大大提高了效率,完全打开状态的冷却,从1000℃降温到50℃可在8小时内实现。
附图说明
[0016]图1为本技术实施例中提供的半导体清洁烤箱的结构示意图;
[0017]图2为图1的半导体清洁烤箱的顶盖的结构示意图;
[0018]上述图中的标记均为:1、门体,2、侧壁,3、顶盖,31、盖体,32、窗口,33、百叶窗,34、联动结构。
具体实施方式
[0019]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本技术实施方式作进一步地详细描述。
[0020]参见图1

2,一种半导体清洁烤箱,具有:
[0021]箱体;
[0022]侧壁,设置在箱体的侧面上;
[0023]门体,铰接在箱体的正面上;
[0024]顶盖固定安装在箱体的上表面上;
[0025]窗口,设置在顶盖上;百叶窗,转动安装在窗口上,百叶窗能够打开或封闭窗口。对烤箱顶盖进行改造,开出窗口,并增加可控的百叶窗式顶盖板,可有效控制冷却速度。
[0026]还设有联动结构,联动结构连接百叶窗的各个扇叶。
[0027]顶盖改进后的烤箱,将顶部窗口完全打开,热空气直接由顶部排出,烤箱门打开配合冷空气进入,形成了顺畅的循环,大大提升了降温的效率。
[0028]在原有的烤箱顶部盖板开出一个窗口,窗口面积占整个顶盖75%。
[0029]将窗口区域划分成10个分区域,对应的制作10组百叶窗式顶盖板,盖板内外材质分别跟烤箱本体相同。
[0030]百叶窗式盖板可以由水平方向到竖直方向旋转90
°
,水平状态时可以完全密闭烤箱,而竖直状态则可以将整个窗口打开,使内部空气与外部交换。
[0031]10组百叶窗盖板组成旋转联动,采用连杆机构连接各个扇叶的转轴,设置电机,电机的转轴与一个扇叶的转轴连接,通过电机调节,同步控制打开的角度。
[0032]采用上述的结构后,可根据实际烘烤的产品特点,调节烤箱的降温速度,既保证了部件的安全性,又大大提高了效率,完全打开状态的冷却,从1000℃降温到50℃可在8小时内实现。
[0033]上面结合附图对本技术进行了示例性描述,显然本技术具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本技术的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本技术的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体清洁烤箱,其特征在于,具有:箱体;侧壁,设置在所述箱体的侧面上;门体,铰接在所述箱体的正面上;顶盖固定安装在所述箱体的上表面上;窗口,设置在所述顶盖上;百叶窗,转动安装在所述窗口上,所述百叶窗能够打开或封闭所述窗口。2.如权利要求1所述的半导体清洁烤箱,其特征在于,还设有联动结构,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴小杰刘贤
申请(专利权)人:芜湖芯通半导体材料有限公司
类型:新型
国别省市:

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