【技术实现步骤摘要】
一种半导体清洁烤箱
[0001]本技术属于半导体和面板
,尤其涉及一种半导体清洁烤箱。
技术介绍
[0002]在半导体和面板的洗净行业中,越来越多的使用到高温烤箱,原因是半导体设备、面板设备会使用到各种各样的材质,比如不锈钢、钛合金、陶瓷等,而半导体、LCD及OLED的制程工艺很繁多,表面沉积的产物复杂,并且像陶瓷这样的材料具有微观上的多孔结构,表面的产物会慢慢渗透进陶瓷内部,造成洗净行业中,使用一般的化学浸泡难以彻底去除。高温烤箱就是用来对一些特殊部件进行一定温度的持续烘烤,表面的产物通过高温氧化、挥发等方式去除,以达到去除彻底或者是节省人工成本的目的。
[0003]在实现本技术的过程中,专利技术人发现现有技术至少存在以下问题:通常的高温烤炉,就是根据实际需要处理的产品的尺寸、数量,设计好容积大小,根据烘烤作业需要达到的温度,设计好内部支撑、保温材料和结构,一般分为箱式和阱式烘箱。无论哪种,都是周围箱体是整体结构,工作时密闭的设计。这种设计对于传统的陶瓷部件烘烤很安全(陶瓷在高温状态不能承受温度突变,易发生断裂),但是降温过程十分缓慢,通常从1000℃降温到50℃需要48小时,效率十分低。
技术实现思路
[0004]本技术所要解决的技术问题是提供一种可根据实际烘烤的产品特点,调节烤箱的降温速度,既保证了部件的安全性,又大大提高了效率的半导体清洁烤箱。
[0005]为了解决上述技术问题,本技术所采用的技术方案是:一种半导体清洁烤箱,具有:
[0006]箱体;
[000 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体清洁烤箱,其特征在于,具有:箱体;侧壁,设置在所述箱体的侧面上;门体,铰接在所述箱体的正面上;顶盖固定安装在所述箱体的上表面上;窗口,设置在所述顶盖上;百叶窗,转动安装在所述窗口上,所述百叶窗能够打开或封闭所述窗口。2.如权利要求1所述的半导体清洁烤箱,其特征在于,还设有联动结构,所...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴小杰,刘贤,
申请(专利权)人:芜湖芯通半导体材料有限公司,
类型:新型
国别省市:
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