一种溶液氧化处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种溶液氧化处理装置，包括：反应槽，用于盛装反应溶液；氧化还原电位检测装置，用于检测所述反应槽中溶液的氧化还原电位；氧化剂储槽，用于盛装向所述反应槽中加投参与氧化反应的氧化剂；自动检测投料控制装置，设置为根据时间和/或所述氧化还原电位检测装置检测反应槽中液体所得结果，控制将所述氧化剂储槽中的氧化剂加投到所述反应槽中的量。该装置能缩短去除溶液中的有机物和/或具有还原性的废液其氧化处理时间，确保处理溶液得到安全生产氧化并且处理效果达标。液得到安全生产氧化并且处理效果达标。液得到安全生产氧化并且处理效果达标。

【技术实现步骤摘要】
一种溶液氧化处理装置


[0001]本技术属于化工装置领域，具体涉及一种溶液氧化处理装置。

技术介绍

[0002]工业生产及废液处理中，常有去除溶液中杂质和/或污染物的需要。工业废液中通常含有各种各样对人体或自然环境有害的污染物，故需要通过物理、化学、生物等一种或多种处理方法将这些污染物分解和/或从水中分离后才能将废液达标排出。除了工业废液处理以外，化工行业中也常有对生产原料进行杂质去除的工艺过程，以避免在使用生产原料时受到其中杂质影响到生产质量。
[0003]工业废液中有机有毒的污染物通常采用强氧化剂来氧化降解。此外，工业废液中还可能含有一些需要通过氧化反应后才能彻底处理去除的还原性物质，例如含有低价态磷的化合物。芬顿反应是目前常用于氧化处理一些含有次亚磷酸和/或次亚磷酸盐和/或亚磷酸和/或亚磷酸盐等的还原性废液的方法。
[0004]磷是一种工业上常见的化学元素，常使用于磷化工生产以及金属表面处理中。由于过量的磷及其化合物会破坏生态环境、对人体健康带来危害，现行法规限定工业废液含磷量的排放标准必须控制在0.3ppm以下。目前业界普遍采用石灰等结合芬顿试剂与含磷废液反应使磷成为难溶性盐，并采用过滤等方法将其从水中分离。若要达到含磷量的排放标准，则需要将含磷废液中低价态的磷被氧化至+5价才能生成难溶性盐而被有效地分离去除。然而，以金属表面处理中的化学镀镍为例，其镀液通常以硫酸镍、乙酸镍等作为主成分，再辅以如次亚磷酸盐、硼氢化钠、硼烷、肼等的还原剂和可选的各种助剂来进行化学镀镍作业。虽然芬顿试剂的氧化性强，但将其用于处理所述化学镀镍废液时，氧化反应时间相当长，甚至处理过程中还需不断补充加投双氧水导致耗料增多，作为此类还原性溶液的氧化处理方法并不理想。
[0005]常见的化工行业生产原料杂质去除工艺中，以目前用于去除工业硫酸中有机杂质的处理方法为例，通常采用将压缩空气打入到需要处理的工业硫酸溶液中对其进行搅拌氧化。但此方法反应时间较长，不适用于大规模化生产。

技术实现思路

[0006]本技术的目的在于提供一种溶液氧化处理装置，该装置能缩短去除溶液中的有机物和/或具有还原性的废液其氧化处理时间，确保处理溶液得到安全生产氧化并且处理效果达标。
[0007]本技术的目的通过以下技术方案实现：
[0008]一种溶液氧化处理装置，包括：
[0009]反应槽，用于盛装反应溶液；
[0010]氧化还原电位检测装置，用于检测所述反应槽中溶液的氧化还原电位；
[0011]氧化剂储槽，用于盛装向所述反应槽中加投参与氧化反应的氧化剂；
[0012]自动检测投料控制装置，设置为根据时间和/或所述氧化还原电位检测装置检测反应槽中液体所得结果，控制将所述氧化剂储槽中的氧化剂加投到所述反应槽中的量。
[0013]所述的反应溶液为待氧化处理的溶液，包括待去除有机物的溶液/具有还原性的废液/待去除氨氮的溶液，或上述溶液与无机酸和/或水的混合液。
[0014]本技术所述的氧化剂，能氧化所述反应槽中所盛装的溶液，所述的氧化剂优选氯气和/或过氧化物和/或过硫酸盐和/或次氯酸盐和/或氯酸盐和/或高氯酸盐和/或高锰酸盐和/或过碳酸盐和/或过硼酸盐，多种化学原料之间的配比没有限制。
[0015]本技术的原理如下：随着氧化剂投入到所述反应槽中的溶液中后，溶液的氧化还原电位会升高，甚至会有刺激的氧化性气体逸出，故设置氧化还原电位检测装置能及时进行监控。在安全的前提下将反应槽中溶液的氧化还原电位控制在较高的数值范围里，并在此范围内安全持续一段氧化反应时间，如此才能有效地对痕量物质进行氧化。其中，氧化还原电位越高，达到相同处理效果所需的时间越短。通过将所述含有机物和/或氨氮和/或具有还原性溶液的氧化还原电位在安全的前提下进行高数值范围的维持和/或监控，能够确保整个氧化反应过程在安全的生产状况下加速所述反应槽内溶液的氧化反应，从而缩短反应时间并保证氧化处理效果。
[0016]特别当所处理的溶液中含有低价态磷的化合物时，溶液的氧化还原电位需要长时间维持在较高的数值才能令痕量的低价态磷化合物较彻底地进行氧化反应，使其在后续的处理中生成难溶性盐而被有效去除。本技术氧化处理含磷溶液的工艺过程中低价态磷的氧化化学反应如下：
[0017]PO
23
‑
+[O]→
PO
33
‑
[0018]PO
33
‑
+[O]→
PO
43
‑
[0019]所述的氧化剂储槽与所述的反应槽之间设置投料泵浦或者固体加投装置，以使所述投料泵浦将氧化剂储槽内液态的氧化剂抽送到所述反应槽中，或者使所述固体加投装置将所述氧化剂储槽内的固态氧化剂加投到所述反应槽中。优选地，所述的投料泵浦采用计量泵浦，以便在工艺控制下更精确地控制液体氧化剂的加投量，使所述反应槽中处理液体的氧化反应控制并维持在安全高效的工艺指标范围内。
[0020]本技术可选择的实施方式包括：
[0021]（1）当所述的氧化剂为液体时，所述的自动检测投料控制装置可以设置为控制所述的投料泵浦，并根据时间和/或所述氧化还原电位检测装置检测反应槽中液体所得结果，自动调节所述投料泵浦的投料流量大小或控制所述投料泵浦的启动或停止；
[0022]（2）当所述氧化剂为固体时，所述的自动检测投料控制装置可以设置为控制所述的固体加投装置，并根据时间程式和/或所述氧化还原电位检测装置检测反应槽中溶液所得结果，自动调节所述固体加投装置的动作将所述氧化剂储槽中的固体氧化剂加投到反应槽中。
[0023]为了使反应槽内液体的各组分均匀分布，本技术可以在所述的反应槽中设置搅拌装置。所述的搅拌装置可采用液体管道回流搅拌装置、叶轮搅拌装置、气动搅拌装置中任一种搅拌装置或它们的任意组合，所述液体管道回流搅拌装置包括出液管、回流管、受控的泵浦和/或阀门，所述气动搅拌装置为可向所述反应槽中通入气体使其中的溶液发生流动和/或氧化的设备。
[0024]优选地，所述的反应槽和/或氧化剂储槽设有温度冷热交换装置，所述温度冷热交换装置能通过调控所述反应槽中液体的温度来调整反应槽中氧化反应的速度，或通过调控所述氧化剂储槽的温度来方便在氧化剂储槽中配制氧化剂。
[0025]优选地，设置尾气处理系统，用于处理氧化反应过程中所生成的尾气。所述的尾气处理系统可以是槽盖抽气罩和尾气吸收处理槽的组合，也可以是槽盖抽气罩、真空射流装置和/或喷淋装置、尾气吸收处理槽的组合；所述槽盖抽气罩设于所述反应槽上方，所述尾气吸收处理槽装载有用于吸收所述反应槽产生尾气的吸收反应液；当使用槽盖抽气罩和反应槽尾气吸收处理槽的组合时，所述槽盖抽气罩的出气口置于所述吸收反应液中；当使用槽盖抽气罩、真空射流装置和/或喷淋装置、和尾气吸收处理槽的组合时，所述槽盖抽气罩的出气口与所述真空射流装置和/或喷淋装置的吸气口相连接，所述真空射流装置和/或喷淋装置的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种溶液氧化处理装置，其特征在于，包括：反应槽，用于盛装反应溶液；氧化还原电位检测装置，用于检测所述反应槽中溶液的氧化还原电位；氧化剂储槽，用于盛装向所述反应槽中加投参与氧化反应的氧化剂；自动检测投料控制装置，设置为根据时间和/或所述氧化还原电位检测装置检测反应槽中液体所得结果，控制将所述氧化剂储槽中的氧化剂加投到所述反应槽中的量。2.根据权利要求1所述的溶液氧化处理装置，其特征在于，所述的氧化剂储槽与所述的反应槽之间设置投料泵浦或者固体加投装置，以使所述投料泵浦将氧化剂储槽内液态的氧化剂抽送到所述反应槽中，或者使所述固体加投装置将所述氧化剂储槽内的固态氧化剂加投到所述反应槽中。3.根据权利要求1所述的溶液氧化处理装置，其特征在于，所述的反应槽和/或氧化剂储槽设有温度冷热交换装置。4.根据权利要求1所述的溶液氧化处理装置，其特征在于，设置尾气处理系统，用于处理氧化反应过程中所生成的尾气。5.根据权利要求1所述的溶液氧化处理装置，其特征在于，设置输气装置，用于向所述的反应槽中通入氧气。6.根据权利要求1所述的溶液氧化处理装置，其特征在于，在所述反应槽中设置化学反应性能改善装置。7.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶旖婷，叶涛，
申请(专利权)人：叶旖婷，
类型：新型
国别省市：