喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料技术

本发明专利技术涉及一种喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料。具体涉及一种具有多层结构的喷涂涂层，其包含下层和表层，所述下层由含有稀土氧化物的喷涂涂层制成，所述表层由含有稀土氟化物和/或稀土氟氧化物的另外喷涂涂层制成，该多层的喷涂涂层具有23℃下的体积电阻率和200℃下的体积电阻率，23℃下的体积电阻率为1

【技术实现步骤摘要】
喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料
[0001]本申请是申请日为2019年8月14日，题为“喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料”的中国专利申请201910748398.X的分案申请。
[0002]相关申请的交叉引用
[0003]本非临时申请根据35U.S.C.
§
119(a)要求2018年8月15日在日本提交的专利申请No.2018
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152883的优先权，其全部内容以引用方式并入本文中。


[0004]本专利技术涉及适用于诸如在半导体制造工艺的静电吸盘或等离子蚀刻装置中的零件或部件上形成的耐腐蚀性涂层的喷涂涂层。本专利技术还涉及制造该喷涂涂层的方法、形成有该喷涂涂层的喷涂的部件以及适于形成该喷涂涂层的喷涂材料。

技术介绍

[0005]根据材料之间的不同，用于半导体制造装置中的下部电极的静电吸盘一般分为库仑力型(Coulomb force type)静电吸盘和约翰逊
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拉贝克力型(Johnson
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Rahbek forc本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种RF3粉末，具有至少0.9的圆度平均值(平均圆度)，该圆度由以下表达式(1)定义：(圆度)＝(在平面视图中具有与被观察颗粒的面积相等的面积的假设圆的周边长度)/(平面视图中被观察颗粒的周边长度)(1)R是选自包括Y和Sc的稀土元素中的至少一种元素。2.根据权利要求1所述的RF3粉末，具有2m2/g以下的BET比表面积。3....

【专利技术属性】
技术研发人员：岩崎凌，浜谷典明，高井康，中野瑞，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：