一种锻炼按摩足浴器制造技术

本发明专利技术提供一种锻炼按摩足浴器，涉及足浴器械领域。该锻炼按摩足浴器，包括足浴盆，所述足浴盆的内部上端设置有放脚板，放脚板通过框架与足浴盆的上端固定连接，框架位于放脚板的上方，放脚板的中间位置开设有排水孔，放脚板的上表面左右两侧均开设有上下连通的脚槽A，足浴盆的左右侧面均固定嵌入有压缩机构，足浴盆的内部位于放脚板的下方设置有两个活动板，两个活动板互相靠近一面的中间位置互相铰接。该锻炼按摩足浴器，通过设置活动板、脚托、弹性机构、导柱和顶板，在将脚放在脚托内时，达到了在沐足的时候锻炼，又能起到很好的药液吸收，以及按摩脚部的效果，对比现有技术效果较好，占用空间较小，而且较为实用。而且较为实用。而且较为实用。

【技术实现步骤摘要】
一种锻炼按摩足浴器


[0001]本专利技术涉及足浴器械领域，具体为一种锻炼按摩足浴器。

技术介绍

[0002]目前，随着生活水平的提高，对于健康保养等方面越来越重视，因此市面越来越多的出现了足浴店和按摩店。但是这些点一般消费较高，对于普通家庭来说还是需要一个足浴盆来满足日常使用；并且一些腿脚不便的老年人的日常生活中更需要足浴盆来实现足浴，但是传统的足浴盆只是传统的洗浴盆，不具备按摩的功能，虽然现有市场上存在一些自带按摩功能的足浴盆，但是我们需要让腿脚不便的人在足浴的时候同时实现锻炼以及按摩的效果，在洗浴的时候锻炼也能更好的实现对药液的吸收。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种锻炼按摩足浴器，解决了以上
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：一种锻炼按摩足浴器，包括足浴盆，所述足浴盆的内部上端设置有放脚板，放脚板通过框架与足浴盆的上端固定连接，框架位于放脚板的上方，放脚板的中间位置开设有排水孔，放脚板的上表面左右两侧均开设有上下连通的脚槽A，足浴盆的左右侧面均固定嵌入有压缩机构，足浴盆的内部位于放脚板的下方设置有两个活动板，两个活动板互相靠近一面的中间位置互相铰接，活动板的上表面均开设有上下连通的脚槽B，两个活动板互相远离的一端均固定安装有转轴，转轴远离活动板的一端与压缩机构的压缩端转动连接。
[0005]所述活动板的底面固定安装有脚槽B连通的脚托，脚托的内壁开设有若干个与外部连通的气槽，脚托的内底壁开设有若干个上下连通的通孔，左右两个脚托的下方均设置有两个压板，压板的上表面均固定安装有若干个导柱，导柱的上端位于通孔的内部。
[0006]所述足浴盆的左右两侧内壁均滑动安装有弹性机构，足浴盆的内部位于脚托的下方设置有顶板，顶板的左右两端分别与两个弹性机构的输出端固定连接。
[0007]所述足浴盆的侧面底端固定安装有两个与其内部连通的水阀，足浴盆的内底壁固定安装有涡旋器，两个水阀均与涡旋器的内部连通。
[0008]优选的，所述放脚板比框架低，两个脚槽A以排水孔为中心左右对称设置。
[0009]优选的，所述压缩机构包括活动套和密封套，活动套的内部滑动安装有滑块，转轴与滑块转动连接，滑块与活动套的内底壁之间通过弹簧连接，密封套与足浴盆左右外表面固定连接，活动套位于密封套的内部。
[0010]优选的，所述脚槽B与脚槽A对应设置，两个上下分布的脚槽A和脚槽B位于同一条竖直线上。
[0011]优选的，所述导柱的中间位置为贯通状结构，导柱的空心位置贯穿压板，导柱的圆周面开设有四个圆周阵列分布的水槽。
[0012]优选的，所述弹性机构包括滑杆、压簧、连接杆和弹性轮，滑杆与足浴盆的内壁固定连接，连接杆与滑杆和足浴盆的内壁均为滑动连接，压簧的上端与连接杆套接在滑杆上的位置固定连接，压簧的下端与滑杆的底端固定连接，连接杆的下端与顶板固定连接，弹性轮安装在连接杆的上端位置，弹性轮与转轴接触，弹性轮为上下两面均为斜面状结构，顶板为通透状结构。
[0013]与现有技术相比，本专利技术具备以下有益效果：
[0014]1、该锻炼按摩足浴器，通过设置活动板、脚托、弹性机构、导柱和顶板，在将脚放在脚托内时，通过用力可以使活动板下移，活动板由压缩机构顶动，所以对其施加压力的时候，活动板会下移，在不施加压力时，活动板会恢复到原来的状态，在施加压力时可以起到锻炼的效果，而在活动板不与放脚板接触时，两个活动板之间可以发生相对转动，所以两只脚可以单独摆动，摆动时可以起到锻炼脚腕的效果，而在脚托下移时，足浴盆内部的药水可以通过气槽和导柱进入脚托内，可以起到沐浴的效果，而对脚施加力时，可以起到使药水频繁在脚托内流入流出的效果，而设置导柱，药水可以通过导柱进入，导柱的位置对应脚部的穴位，从导柱内进入的药液可以对穴位起到一个冲刷的效果，而设置弹性机构，在持续施加压力的时候，顶板失去弹性机构的限制时，可以迅速向上顶动，可以对压板起到一个顶压的效果，而这个时候可以按摩脚部的穴位，达到了在沐足的时候锻炼，又能起到很好的药液吸收，以及按摩脚部的效果，对比现有技术效果较好，占用空间较小，而且较为实用。
[0015]2、该锻炼按摩足浴器，通过设置放脚板和排水孔，在沐足完毕时，可以使脚部放在放脚板上，多余的水分可以通过排水孔重新进入到足浴盆的内部，而且在没有水分的时候可以起到速干的效果。
[0016]3、该锻炼按摩足浴器，通过设置水阀和涡旋器，通过控制水阀，可以使水在足浴盆的内部形成一个流动的状态，流动状态的药液能够起到冲刷足部的效果。
附图说明
[0017]图1为本专利技术结构示意图；
[0018]图2为本专利技术结构俯视图；
[0019]图3为本专利技术足浴盆内部的结构示意图；
[0020]图4为本专利技术部分结构的拆分示意图；
[0021]图5为本专利技术弹性机构与顶板的连接示意图；
[0022]图6为本专利技术足浴盆的底部结构示意图。
[0023]其中，1足浴盆、2放脚板、3框架、4排水孔、5脚槽A、6压缩机构、601活动套、602密封套、603滑块、7活动板、8脚槽B、9转轴、10脚托、11气槽、12通孔、13压板、14导柱、15弹性机构、1501滑杆、1502压簧、1503连接杆、1504弹性轮、16顶板、17水阀、18涡旋器、19水槽。
具体实施方式
[0024]如图1
‑
6所示，一种锻炼按摩足浴器，包括足浴盆1，足浴盆1的内部上端设置有放脚板2，放脚板2通过框架3与足浴盆1的上端固定连接，框架3位于放脚板2的上方，放脚板2的中间位置开设有排水孔4，放脚板2的上表面左右两侧均开设有上下连通的脚槽A5，放脚板2比框架3低，两个脚槽A5以排水孔4为中心左右对称设置，在高低不同设置的状态下可以
保证多余的水分重新进入到足浴盆的内部，足浴盆1的左右侧面均固定嵌入有压缩机构6，足浴盆1的内部位于放脚板2的下方设置有两个活动板7，两个活动板7互相靠近一面的中间位置互相铰接，活动板7的上表面均开设有上下连通的脚槽B8，脚槽B8与脚槽A5对应设置，两个上下分布的脚槽A5和脚槽B8位于同一条竖直线上，在一条直线上可以防止偏差，两个活动板7互相远离的一端均固定安装有转轴9，转轴9远离活动板7的一端与压缩机构6的压缩端转动连接，压缩机构6包括活动套601和密封套602，活动套601的内部滑动安装有滑块603，转轴9与滑块603转动连接，滑块603与活动套601的内底壁之间通过弹簧连接，密封套602与足浴盆1左右外表面固定连接，活动套601位于密封套602的内部，密封套602主要是起到封闭压缩机构6的效果，防止药水溢出。
[0025]活动板7的底面固定安装有脚槽B8连通的脚托10，脚托10的内壁开设有若干个与外部连通的气槽11，气槽11的分布状态为等距离的，脚托10的内底壁开设有若干个上下连通的通孔12，左右两个脚托10的下方均弹性安装有两个压板13，弹性安装本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种锻炼按摩足浴器，包括足浴盆(1)，其特征在于：所述足浴盆(1)的内部上端设置有放脚板(2)，放脚板(2)通过框架(3)与足浴盆(1)的上端固定连接，框架(3)位于放脚板(2)的上方，放脚板(2)的中间位置开设有排水孔(4)，放脚板(2)的上表面左右两侧均开设有上下连通的脚槽A(5)，足浴盆(1)的左右侧面均固定嵌入有压缩机构(6)，足浴盆(1)的内部位于放脚板(2)的下方设置有两个活动板(7)，两个活动板(7)互相靠近一面的中间位置互相铰接，活动板(7)的上表面均开设有上下连通的脚槽B(8)，两个活动板(7)互相远离的一端均固定安装有转轴(9)，转轴(9)远离活动板(7)的一端与压缩机构(6)的压缩端转动连接；所述活动板(7)的底面固定安装有脚槽B(8)连通的脚托(10)，脚托(10)的内壁开设有若干个与外部连通的气槽(11)，脚托(10)的内底壁开设有若干个上下连通的通孔(12)，左右两个脚托(10)的下方均弹性安装有两个压板(13)，压板(13)的上表面均固定安装有若干个导柱(14)，导柱(14)的上端位于通孔(12)的内部；所述足浴盆(1)的左右两侧内壁均滑动安装有弹性机构(15)，足浴盆(1)的内部位于脚托(10)的下方设置有顶板(16)，顶板(16)的左右两端分别与两个弹性机构(15)的输出端固定连接；所述足浴盆(1)的侧面底端固定安装有两个与其内部连通的水阀(17)，足浴盆(1)的内底壁固定安装有涡旋器(18)，两个水阀(17)均与涡旋器(18)的内部连通。2.根据权利要求1所述的一种锻炼按摩足浴器，其特征在于：所述放脚板(2)比框架(3)低...

【专利技术属性】
技术研发人员：王丽梅，
申请(专利权)人：王丽梅，
类型：发明
国别省市：